About: Procesy ve výbojovém plazmatu a nové tenkovrstvé materiály s unikátními vlastnostmi

Facets (new session)
Description
Metadata
Settings
- owl:sameAs
- Inference Rule:

About: Procesy ve výbojovém plazmatu a nové tenkovrstvé materiály s unikátními vlastnostmi Goto Sponge NotDistinct Permalink

An Entity of Type : http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/Zamer, within Data Space : linked.opendata.cz associated with source document(s)

Attributes	Values
rdf:type	http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/Zamer
Description	A subject of the proposed research plan is solution of fundamental problems from the field of discharge plasma physics, plasma chemistry , surface physics and engineering, physics of thin films, solid state physics, electrical engineering andvacuum technology arising from formation of and research into a new generation of thin film materials with unique physical and functional properties (en) Předmětem navrhovaného výzkumného záměru je řešení základních problémů v oblasti fyziky výbojového plazmatu, plazmochemie, fyziky a inženýrství povrchů, fyziky tenkých vrstev, fyziky pevných látek, elektro-techniky a vakuové technologie, které vznikají pgenerace tenkovrstvých materiálů s unikátními fyzikálními a funkčními vlastnostmi. Tyto materiály budou připraveny zejména nekonvenčními procesy ve výbojovém plazmatu různého typu. Jedná se především o magnetronové amikrovlnné výboje pracující v kontinuáHlavní pozornost bude věnována modelování a diagnostice nerovnovážného výbojového plazmatu, studiu procesů růstu vrstev a modifikace povrchů, návrhu a výzkumu nových zdrojů plazmatu pro depozici tenkých vrstev a modifikaci povrchů, charakterizaci vytvořepovrchů a rovněž studiu termomechanických procesů v materiálech. Výzkumná činnost bude zaměřena na čtyři oblasti: nové nanostrukturní tenkovrstvé materiály, nové tenkovrstvé materiály na bázi ternárních a kvaternárních systémů uhlíku, křemíku, boru a dus
Title	Procesy ve výbojovém plazmatu a nové tenkovrstvé materiály s unikátními vlastnostmi Processes in discharge plasmas and new thin film materials with unique properties (en)
http://linked.open...kovaStatniPodpora	http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/zamer/MSM4977751302/celkovaStatniPodpora
http://linked.open...ez/celkoveNaklady	http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/zamer/MSM4977751302/celkoveNaklady
http://linked.open...datumDodatniDoRIV	2012-08-17 (xsd:date)
http://linked.open...vavai/cez/dodavka	http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/dodavka/CEZ12-MSM-U%2F01%3A1
http://linked.open...ez/duvernostUdaju	S - Úplné a pravdivé údaje nepodléhající ochraně podle zvláštních právních předpisů
http://linked.open...in/vavai/cez/faze	33097995
http://linked.open...ai/cez/hlavniObor	BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech
http://linked.open...vai/cez/hodnoceni	V - Vynikající výsledky (s mezinárodním významem apod.). Zároveň byly splněny cíle a předpokládané výsledky uvedené ve smlouvě / rozhodnutí o poskytnutí podpory.
http://linked.open.../cez/kategorieVaV	NV - Aplikovaný výzkum s výjimkou průmyslového výzkumu (tzv. %22neprůmyslový výzkum%22)
http://linked.open.../cez/klicovaSlova	thin film materials (en)
http://linked.open...cez/partnerHlavni	Fakulta aplikovaných věd
http://linked.open...z/poceVysledkuRIV	132 (xsd:int)
http://linked.open...inujicichPrijemcu	0 (xsd:int)
http://linked.open...cez/pocetPrijemcu	1 (xsd:int)
http://linked.open...ocetSpoluPrijemcu	0 (xsd:int)
http://linked.open...enychVysledkuVRIV	132 (xsd:int)
http://linked.open...lneniVMinulemRoce	2011-01-26 (xsd:date)
http://linked.open.../prideleniPodpory	http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cez/prideleniPodpory/144%2F2010-31
http://linked.open.../vavai/cez/resort	Ministry of Education, Youth and Sports
http://linked.open...iciPoslednihoRoku	2011
http://linked.open...atUdajeProjZameru	2012
http://linked.open...usZobrazovaneFaze	DUU
http://linked.open...ez/ukonceniReseni	2011-12-31 (xsd:date)
http://linked.open...ez/zahajeniReseni	2005-01-01 (xsd:date)
http://linked.open...n/vavai/cez/zamer	Z - Výzkumný záměr financovaný ze státního rozpočtu
http://linked.open...sledkuDodavatelem	The research plan supported both the research and the education in the area of thin-film materials prepared in discharge plasmas. The achieved results were published even in prestigious journals with a good international acceptance. Their applications were not yet realized neither within the prestigious cooperation abroad. The general aim of the research plan was attained very successfully. (en) Výzkumný záměr podpořil rozvoj vědeckého bádání a výuky v oblasti tenkovrstvých materiálů, připravených unikátními, nekonvečními procesy ve výboj. plazmatu. Dosažené výsledky byly publikovány v prestižních časopisech s dobrým mezinárodním ohlasem. Jejich uplatnění v praxi se doposud nepodařilo realizovat a patentově chránit ani v rámci zahraniční kooperace. Cíle VZ však byly velmi úspěšně splněny. (cs)
http://linked.open...cez/zivotniCyklus	ZBBBBBKU
is http://linked.open...n/vavai/riv/zamer of	Thermal stability of alumina thin films containing γ-Al2O3 phase prepared by reactive magnetron sputtering Thermal properties of cutting tool coatings at high temperatures Transparent Zr-Al-O oxide coatings with enhanced resistance to cracking Mechanical and tribological properties of sputtered Mo-O-N coatings Měření teplotních a spektrálních závislostí emisivity povlaků The measurement and evaluation of thermomechanical instability processes on brake systems Thin films thermal conductivity measurement system based on pulsed photothermal radiometry and its application to industrial wear resistant films Precise nanosecond time resolved infrared radiometry measurements of laser induced silicon phase change and melting front propagation Thermomechanical properties determination by using pulse photothermal radiometry and numerical model in COMSOL. Termovizní měření v technologiích žárových nástřiků Numerical models for evaluation thermal conductivity of coatings Numerical models for evaluation thermal conductivity of coatings Pulsed Magnetron Sputtering of Metallic Films Using a Hot Target Termovizní měření v PVD technologiích Magnetron sputtered Si-B-C-N films with high oxidation resistance and thermal stability in air at temperatures above 1500 degrees C In-situ X-ray diffraction studies of time and thickness dependence of crystallization of amorphous TiO2 thin films and stress evolution Elimination of Arcing in Reactive Sputtering of Al2O3 Thin Films Prepared by DC Pulse Single Magnetron Fizeau interferometer system for fast high resolution studies of spectral line shapes Generation of plasmas in water: utilization of a high-frequency, low-voltage bipolar pulse power supply with impedance control Ion Flux Characteristics in Pulsed Dual Magnetron Discharges Used for Deposition of Photoactive TiO2 Films On surface temperatures during high power pulsed magnetron sputtering using a hot target Experimental mathematical model of nanosecond laser interaction with material Novel quaternary Si-B-C-N films prepared by reactive magnetron sputtering Photoactivated Properties of TiO2 Films Prepared by Magnetron Sputtering Magnetron deposited TiO2 thin films crystallization and temperature dependence of microstructure and phase composition Ion flux characteristics in high-power pulsed magnetron sputtering discharges High-power pulsed magnetron sputtering of TiN films and their mechanical properties Effect of implanted argon of hardness of novel magnetron sputtered Si-B-C-N materials: experiments and ab initio simulations Effect of Addition on Structure and Properties of Sputtered TiC Films Surface Morphology of Magnetron Sputtered TiO2 Films Oxidation of Sputtered Cu, Zr, ZrCu, ZrO2, and Zr-Cu-O Films during Thermal Annealing in Flowing Air Tepelná charakterizace wolframových tenkých vrstev pomocí pulzní fototepelné radiometrie Oxidation of sputtered Cu films during thermal annealing in flowing air Effect of hydrogen on sputtering discharge and properties of TiO2 films Time-resolved Langmuir probe diagnostics of high-power pulsed dc magnetron discharges during deposition of copper films Role of energy in low-temperature high-rate formation of hydrophylic TiO2 thin films using pulsed magnetron sputtering Study of crystallization of magnetron sputtered TiO2 thin films by X-ray scattering Toughness of hard nanostructured ceramic thin films High-power pulsed magnetron sputtering: Model and experiments Decomposition of organic dyes with sputtered TiO2 photocatalytic films Effect of Hydrogen on Reactive Sputtering of Transparent Oxide Films Ion-bombardment characteristics during deposition of TiN films using a grid-assisted magnetron system with enhanced plasma potential Growth of magnetron sputtered TiO2 thin films studied by X-ray scattering High-power pulsed sputtering using a magnetron with enhanced plasma confinement Ti-Si-N Films with a High Content of Si Bonding statistics and electronic structure of novel Si-B-C-N materials: Ab initio calculations and experimental verification Hard a-Si3N4/MeNx nanocomposite coatings with high thermal stability and high oxidation resistance Structural studies of crystallization and growth of magnetron deposited TiO2 thin films by X-ray diffraction and reflectivity Properties of hard nanocomposite thin films IR radiometry optical system view factor and its application to emissivity investigations of solid and liquid phases High-rate low-temperature dc pulsed magnetron sputtering of photocatalytic TiO2 films: the effect of repetition frequency Thermal box-barrier for a direct measurement in high temperature environment Simulation of thermal barrier coating behaviour during dynamic thermal loading by the Exodus method Solution of inverse transient heat transfer problem by the Exodus method Termografické měření meze únavy materiálu Řešení nepřímých úloh vedení tepla pomocí stochastické metody Exodus Laserová konfokální mikroskopie ve výzkumu laserového přetavování HVOF povlaků Reactive magnetron sputtering of hard Si-B-C-N films with a high-temperature oxidation resistance Comparison of hydrophilic properties of TiO2 thin films prepared by sol-gel method and reactive magnetron sputtering system Highly ionized fluxes of sputtered titanium atoms in high-power pulsed magnetron discharges Properties of magnetron sputtered Al-Si-N thin films with a low and high Si content Nanostructure of photocatalytic TiO2 films sputtered at temperatures below 200°C Ion energy distributions and efficiency of sputtering process in HIPIMS system Special type of plasma dielectric barrier discharge reactor for direct ozonization of water and degradation of organic pollution Hard amorphous nanocomposite coatings with oxidation resistance above 1000°C Mechanical and optical properties of quaternary Si-B-C-N films prepared by reactive magnetron sputtering Bipolar Pulsed Electrical Discharges in Liquid

Faceted Search & Find service v1.16.118 as of Jun 21 2024

Alternative Linked Data Documents: ODE Content Formats:

RDF

ODATA

Microdata

About

OpenLink Virtuoso version 07.20.3240 as of Jun 21 2024, on Linux (x86_64-pc-linux-gnu), Single-Server Edition (126 GB total memory, 58 GB memory in use)
Data on this page belongs to its respective rights holders.
Virtuoso Faceted Browser Copyright © 2009-2024 OpenLink Software