Attributes | Values |
---|
rdf:type
| |
Description
| - Tento článek pojednává o vlivu přidání H2 do výbojové Ar+O2 směsi na vlastní proces dc reaktivního magnetronového naprašování oxidů a na elektrickou vodivost transparentních oxidových vrstev. Byly zkoumány čtyři systémy: In-Sn-O, TiO2, Ti-Y-O a ZrO2. Bylo zjištěno, že přidání H2 do Ar+O2 výbojové směsi má za následek: pokles výbojového napětí, výraznou změnu závislosti a dramatický pokles elektrické rezistivity naprášených oxidových vrstev. Tyto výsledky jsou podrobně diskutovány. (cs)
- The article reports on the effect of addition of H2 into a mixture of Ar+O2 on the process of dc reactive magnetron sputtering of oxides and the electrical conductivity of transparent oxide films. Four systems were investigated: In-Sn-O, TiO2, Ti-Y-O a ZrO2 fils. It was found that the addition of H2 into Ar+O2 sputtering gas mixture results in: decrease in the magnetron discharge voltage , strong change of the dependence and dramatic decrease of electrical resistivity of sputtered transparent oxide films. These results are described in detail.
- The article reports on the effect of addition of H2 into a mixture of Ar+O2 on the process of dc reactive magnetron sputtering of oxides and the electrical conductivity of transparent oxide films. Four systems were investigated: In-Sn-O, TiO2, Ti-Y-O a ZrO2 fils. It was found that the addition of H2 into Ar+O2 sputtering gas mixture results in: decrease in the magnetron discharge voltage , strong change of the dependence and dramatic decrease of electrical resistivity of sputtered transparent oxide films. These results are described in detail. (en)
|
Title
| - Effect of Hydrogen on Reactive Sputtering of Transparent Oxide Films
- Effect of Hydrogen on Reactive Sputtering of Transparent Oxide Films (en)
- Vliv vodíku na reaktivní naprašování transparentních oxidových vrstev (cs)
|
skos:prefLabel
| - Effect of Hydrogen on Reactive Sputtering of Transparent Oxide Films
- Effect of Hydrogen on Reactive Sputtering of Transparent Oxide Films (en)
- Vliv vodíku na reaktivní naprašování transparentních oxidových vrstev (cs)
|
skos:notation
| - RIV/49777513:23520/07:00000204!RIV08-MSM-23520___
|
http://linked.open.../vavai/riv/strany
| |
http://linked.open...avai/riv/aktivita
| |
http://linked.open...avai/riv/aktivity
| |
http://linked.open...iv/cisloPeriodika
| |
http://linked.open...vai/riv/dodaniDat
| |
http://linked.open...aciTvurceVysledku
| |
http://linked.open.../riv/druhVysledku
| |
http://linked.open...iv/duvernostUdaju
| |
http://linked.open...titaPredkladatele
| |
http://linked.open...dnocenehoVysledku
| |
http://linked.open...ai/riv/idVysledku
| - RIV/49777513:23520/07:00000204
|
http://linked.open...riv/jazykVysledku
| |
http://linked.open.../riv/klicovaSlova
| - coatings; conductive transparent oxides; dc reactive magnetron sputtering; electrical conductivity; films; indium tin oxide (ITO); optical coatings (en)
|
http://linked.open.../riv/klicoveSlovo
| |
http://linked.open...odStatuVydavatele
| - DE - Spolková republika Německo
|
http://linked.open...ontrolniKodProRIV
| |
http://linked.open...i/riv/nazevZdroje
| - Plasma Processes and Polymers
|
http://linked.open...in/vavai/riv/obor
| |
http://linked.open...ichTvurcuVysledku
| |
http://linked.open...cetTvurcuVysledku
| |
http://linked.open...UplatneniVysledku
| |
http://linked.open...iv/tvurceVysledku
| - Musil, Jindřich
- Ondok, Václav
|
http://linked.open...n/vavai/riv/zamer
| |
issn
| |
number of pages
| |
http://localhost/t...ganizacniJednotka
| |
is http://linked.open...avai/riv/vysledek
of | |