About: Properties of magnetron sputtered Al-Si-N thin films with a low and high Si content

Facets (new session)
Description
Metadata
Settings
- owl:sameAs
- Inference Rule:

About: Properties of magnetron sputtered Al-Si-N thin films with a low and high Si content Goto Sponge NotDistinct Permalink

An Entity of Type : http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/Vysledek, within Data Space : linked.opendata.cz associated with source document(s)

Attributes	Values
rdf:type	skos:Concept http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/Vysledek
Description	Článek se zabývá tenkými vrstvami Al-Si-N s nízkým a vysokým obsahem Si připravených ac pulzním duálním magnetronovým systémem s uzavřeným magnetickým polem. Vrstvy byly připraveny ze skládaných Si/Al terčů. Hlavní důraz byl kladen na vztah mezi strukturou vrstev a jejich mechanickými vlastnostmi, teplotní stabilitou tvrdosti a oxidační odolností. Mezi hlavní výsledky patří zjištění, že vrstvy dosahují tvrdosti mezi 21 a 25 GPa, oxidační odolnost vrstev přesahuje 1000°C tvrdost amorfních Al-Si-N vrstev se nemění po 4 hod. žíhání ve vzduchu při teplotě 1100°C. (cs) The article reports on properties of Al-Si-N films with a low and high Si content reactively sputtered using a closed magnetic field dual magnetron system operated in ac pulse mode. The films were sputtered from a composed target. Main attention was devoted to the investigation of a relationship between the structure of the films and their mechanical properties, thermal stability of hardness, and oxidation resistance. The article reports on properties of Al-Si-N films with a low and high Si content reactively sputtered using a closed magnetic field dual magnetron system operated in ac pulse mode. The films were sputtered from a composed target. Main attention was devoted to the investigation of a relationship between the structure of the films and their mechanical properties, thermal stability of hardness, and oxidation resistance. (en)
Title	Properties of magnetron sputtered Al-Si-N thin films with a low and high Si content Vlastnosti tenkých vrstev Al-Si-N s nízkým a vysokým obsahem Si připravených magnetronovým naprašováním (cs) Properties of magnetron sputtered Al-Si-N thin films with a low and high Si content (en)
skos:prefLabel	Properties of magnetron sputtered Al-Si-N thin films with a low and high Si content Vlastnosti tenkých vrstev Al-Si-N s nízkým a vysokým obsahem Si připravených magnetronovým naprašováním (cs) Properties of magnetron sputtered Al-Si-N thin films with a low and high Si content (en)
skos:notation	RIV/49777513:23520/08:00500274!RIV09-MSM-23520___
http://linked.open...avai/riv/aktivita	Z
http://linked.open...avai/riv/aktivity	Z(MSM4977751302)
http://linked.open...iv/cisloPeriodika	15
http://linked.open...vai/riv/dodaniDat	2009
http://linked.open...aciTvurceVysledku	Zeman, Petr Šašek, Martin Heřman, David Šatava, Václav Musil, Jindřich Čerstvý, Radomír
http://linked.open.../riv/druhVysledku	J - Článek v odborném periodiku
http://linked.open...iv/duvernostUdaju	S - Úplné a pravdivé údaje nepodléhající ochraně podle zvláštních právních předpisů
http://linked.open...titaPredkladatele	Západočeská univerzita v Plzni / Fakulta aplikovaných věd
http://linked.open...dnocenehoVysledku	390501
http://linked.open...ai/riv/idVysledku	RIV/49777513:23520/08:00500274
http://linked.open...riv/jazykVysledku	eng - angličtina
http://linked.open.../riv/klicovaSlova	Al-Si-N films; structure; mechanical properties; thermal annealing; oxidation resistance; reactive magnetron sputtering (en)
http://linked.open.../riv/klicoveSlovo	Al-Si-N films mechanical properties structure reactive magnetron sputtering oxidation resistance thermal annealing
http://linked.open...odStatuVydavatele	NL - Nizozemsko
http://linked.open...ontrolniKodProRIV	[D1D4FCBE95A6]
http://linked.open...i/riv/nazevZdroje	Surface and Coatings Technology
http://linked.open...in/vavai/riv/obor	BL
http://linked.open...ichTvurcuVysledku	6 (xsd:int)
http://linked.open...cetTvurcuVysledku	7 (xsd:int)
http://linked.open...UplatneniVysledku	2008
http://linked.open...v/svazekPeriodika	202
http://linked.open...iv/tvurceVysledku	Heřman, David Musil, Jindřich Zeman, Petr Čerstvý, Radomír Šatava, Václav Šašek, Martin Han, J. G.
http://linked.open...ain/vavai/riv/wos	000255492700006
http://linked.open...n/vavai/riv/zamer	Procesy ve výbojovém plazmatu a nové tenkovrstvé materiály s unikátními vlastnostmi
issn	0257-8972
number of pages	9 (xsd:int)
http://localhost/t...ganizacniJednotka	23520
is http://linked.open...avai/riv/vysledek of	Properties of magnetron sputtered Al-Si-N thin films with a low and high Si content Properties of magnetron sputtered Al-Si-N thin films with a low and high Si content Properties of magnetron sputtered Al-Si-N thin films with a low and high Si content Properties of magnetron sputtered Al-Si-N thin films with a low and high Si content

Faceted Search & Find service v1.16.118 as of Jun 21 2024

Alternative Linked Data Documents: ODE Content Formats:

RDF

ODATA

Microdata

About

OpenLink Virtuoso version 07.20.3240 as of Jun 21 2024, on Linux (x86_64-pc-linux-gnu), Single-Server Edition (126 GB total memory, 58 GB memory in use)
Data on this page belongs to its respective rights holders.
Virtuoso Faceted Browser Copyright © 2009-2024 OpenLink Software