Attributes | Values |
---|
rdf:type
| |
Description
| - Článek se věnuje analýze korelací mezi parametry depozičního procesu magnetronového naprašování, povrchové morfologie a struktury fotoaktivních vrstev TiO2. Klíčovým parametrem ovlivňujícím výsledné vlastnosti vrstev TiO2 je parciální tlak kyslíku, jehož pokles vede k výraznému zvýšení depoziční rychlosti změnám struktury připravených vrstev. Maximální povrchová drsnost byla dosažena u vrstev připravených v přechodovém režimu se strukturou rutil+anatase. (cs)
- This article reports on investigation of the correlations between the process parameters, structure, and surface morphology of sputtered TiO2 films prepared by magnetron sputtering. It has been found that the increase in the partial pressure of oxygen results in the decrease of TiO2 film deposition rate and strong changes in its structure. Maximum surface roughness was observed for films sputtered in transition mode of sputtering with the structure rutile+anatase.
- This article reports on investigation of the correlations between the process parameters, structure, and surface morphology of sputtered TiO2 films prepared by magnetron sputtering. It has been found that the increase in the partial pressure of oxygen results in the decrease of TiO2 film deposition rate and strong changes in its structure. Maximum surface roughness was observed for films sputtered in transition mode of sputtering with the structure rutile+anatase. (en)
|
Title
| - Surface Morphology of Magnetron Sputtered TiO2 Films
- Surface Morphology of Magnetron Sputtered TiO2 Films (en)
- Povrchová morfologie TiO2 vrstev připravených magnetronovým naprašováním (cs)
|
skos:prefLabel
| - Surface Morphology of Magnetron Sputtered TiO2 Films
- Surface Morphology of Magnetron Sputtered TiO2 Films (en)
- Povrchová morfologie TiO2 vrstev připravených magnetronovým naprašováním (cs)
|
skos:notation
| - RIV/49777513:23520/07:00000104!RIV08-MSM-23520___
|
http://linked.open.../vavai/riv/strany
| |
http://linked.open...avai/riv/aktivita
| |
http://linked.open...avai/riv/aktivity
| |
http://linked.open...iv/cisloPeriodika
| |
http://linked.open...vai/riv/dodaniDat
| |
http://linked.open...aciTvurceVysledku
| |
http://linked.open.../riv/druhVysledku
| |
http://linked.open...iv/duvernostUdaju
| |
http://linked.open...titaPredkladatele
| |
http://linked.open...dnocenehoVysledku
| |
http://linked.open...ai/riv/idVysledku
| - RIV/49777513:23520/07:00000104
|
http://linked.open...riv/jazykVysledku
| |
http://linked.open.../riv/klicovaSlova
| - reactive magnetron sputtering; roughness; structure; surface morphology; TiO2 films (en)
|
http://linked.open.../riv/klicoveSlovo
| |
http://linked.open...odStatuVydavatele
| - DE - Spolková republika Německo
|
http://linked.open...ontrolniKodProRIV
| |
http://linked.open...i/riv/nazevZdroje
| - Plasma Processes and Polymers
|
http://linked.open...in/vavai/riv/obor
| |
http://linked.open...ichTvurcuVysledku
| |
http://linked.open...cetTvurcuVysledku
| |
http://linked.open...UplatneniVysledku
| |
http://linked.open...iv/tvurceVysledku
| - Heřman, David
- Musil, Jindřich
- Pavlík, Jaroslav
- Šícha, Jan
- Strýhal, Zdeněk
|
http://linked.open...n/vavai/riv/zamer
| |
issn
| |
number of pages
| |
http://localhost/t...ganizacniJednotka
| |
is http://linked.open...avai/riv/vysledek
of | |