About: *Research and development of advanced silicon wafer for sub-micron technologies.

Facets (new session)
Description
Metadata
Settings
- owl:sameAs
- Inference Rule:

About: *Research and development of advanced silicon wafer for sub-micron technologies. Goto Sponge NotDistinct Permalink

An Entity of Type : http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/Projekt, within Data Space : linked.opendata.cz associated with source document(s)

Attributes	Values
rdf:type	http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/Projekt
rdfs:seeAlso	http://www.isvav.cz/projectDetail.do?rowId=FI-IM2/131
Description	The development of advanced silicon wafer technology for production of high-tech integrated circuits with sub-micron detail. In order to reach these goals, we are going to install a new hot zone with diameter 450 mm for Czochralski pulling of silicon single crystals which will reduce the gap between technology level of Czech silicon single crystal manufacturer and world leading producers. (en) Výzkum a vývoj technologie výroby pokročilé leštěné desky pro high-tech sub-mikronové technologie výroby integrovaných obvodů. Pro dosažení daných cílů vývoje pokročilé desky bude v procesu Czochralskiho tažení monokrystalů křemíku instalována nová topná zóna průměru 450 mm a sníží se rozdíl mezi úrovní technologie výroby monokrystalů křemíku v ČR a u vedoucích firem v oboru.
Title	Research and development of advanced silicon wafer for sub-micron technologies. (en) Výzkum a vývoj pokročilé křemíkové desky pro sub-mikronové technologie.
skos:notation	FI-IM2/131
http://linked.open...avai/cep/aktivita	IMPULSE
http://linked.open...kovaStatniPodpora	http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/projekt/FI-IM2%2F131/celkovaStatniPodpora
http://linked.open...ep/celkoveNaklady	http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/projekt/FI-IM2%2F131/celkoveNaklady
http://linked.open...datumDodatniDoRIV	2009-04-01 (xsd:date)
http://linked.open...i/cep/druhSouteze	VS - Veřejná soutěž ve výzkumu a vývoji
http://linked.open...ep/duvernostUdaju	C - Předmět podléhá obchodnímu tajemství (§17 až 20 Obchodního zákoníku), ale některé údaje jsou upraveny tak, aby byly zveřejnitelné
http://linked.open.../cep/fazeProjektu	71756770
http://linked.open...ai/cep/hlavniObor	JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
http://linked.open...hodnoceniProjektu	U - Uspěl podle zadání, tj. byly splněny cíle a jeho předpokládané výsledky uvedené ve smlouvě / rozhodnutí o poskytnutí podpory
http://linked.open...vai/cep/kategorie	VV - Vývoj
http://linked.open.../cep/klicovaSlova	advanced silicon wafer; crystal growth; Czochralski; FEMAG; integrated circuits; semiconductor; silicon; silicon wafer (en)
http://linked.open...ep/partnetrHlavni	ON SEMICONDUCTOR CZECH REPUBLIC, s.r.o., právní nástupce
http://linked.open...inujicichPrijemcu	0 (xsd:int)
http://linked.open...cep/pocetPrijemcu	1 (xsd:int)
http://linked.open...ocetSpoluPrijemcu	0 (xsd:int)
http://linked.open.../pocetVysledkuRIV	11 (xsd:int)
http://linked.open...enychVysledkuVRIV	11 (xsd:int)
http://linked.open...lneniVMinulemRoce	2007-05-23 (xsd:date)
http://linked.open.../prideleniPodpory	http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/prideleniPodpory/FI-IM2%2F131
http://linked.open...iciPoslednihoRoku	2007
http://linked.open...atUdajeProjZameru	2008
http://linked.open.../vavai/cep/soutez	SMPO200500009
http://linked.open...usZobrazovaneFaze	DUU
http://linked.open...ai/cep/typPojektu	P - Projekt výzkumu a vývoje financovaný ze státního rozpočtu
http://linked.open...ep/ukonceniReseni	2007-12-31 (xsd:date)
http://linked.open.../cep/vedlejsiObor	BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
http://linked.open...ep/zahajeniReseni	2005-03-01 (xsd:date)
http://linked.open...jektu+dodavatelem	Vyvinuta technologie výroby pokročilé křemíkové desky (ASiW) průměru 150 mm pro sub-mikronové aplikace. Zhotoveny prototypy ASiW a vzorky desek průměru 200 mm. S pomocí CAD nástrojů (simulace) vyvinut proces růstu krystalů v 18%22 topné zóně. (cs) Production technology for the advanced 6%22 Si wafers (ASiW) for sub-micron applications was developed. ASiW prototypes and the samples of 8%22 wafers were produced. Crystal growth process in 18%22 hot zone was developed with support of the advanced CAD tools. (en)
http://linked.open...tniCyklusProjektu	ZBKU
http://linked.open.../cep/klicoveSlovo	Czochralski FEMAG crystal growth integrated circuits semiconductor silicon advanced silicon wafer
is http://linked.open...vavai/riv/projekt of	Simulations of transient effects during CZ silicon growth Gettering capability and structure of polycrystalline silicon layers Limits of the copper decoration technique for delineating of the V?I boundary. 18%22 hot zone design Enhanced Oxygen Precipitation during the Czochralski Crystal Growth Advanced Silicon Wafer Manufacturing for Sub-Micron Technologies Silicon Wafer Gettering Ability Studied by Method of Controlled Contamination OISF Pattern and Grown-in Precipitates in Heavily Boron Doped Silicon Computer simulations of Czochralski silicon growth Advanced Silicon Wafer Development of hot zones for Czochralski pulling
is http://linked.open...vavai/cep/projekt of	http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/ucast/FI-IM2%2F131/2005/ico%3A26821532 http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/ucast/FI-IM2%2F131/2006/ico%3A26821532 http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/ucast/FI-IM2%2F131/2007/ico%3A26821532 http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/ucast/FI-IM2%2F131/2008/ico%3A26821532

Faceted Search & Find service v1.16.118 as of Jun 21 2024

Alternative Linked Data Documents: ODE Content Formats:

RDF

ODATA

Microdata

About

OpenLink Virtuoso version 07.20.3240 as of Jun 21 2024, on Linux (x86_64-pc-linux-gnu), Single-Server Edition (126 GB total memory, 18 GB memory in use)
Data on this page belongs to its respective rights holders.
Virtuoso Faceted Browser Copyright © 2009-2024 OpenLink Software