| Attributes | Values |
|---|
| rdf:type
| |
| rdfs:seeAlso
| |
| Description
| - Main goal of the proposed project is design, development and realization of hybrid and fully modular microwave plasma assisted chemical vapor deposition system based on high-density cold-plasma generated by surfatron suitable for growth of novel and advanced materials and their (nano) composite forms such as oxides (TiO2, ZnO) or diamond. The main challenging part of the project is fulfilling several industrial aspects in one platform where requirements like implementation of 2D/3D geometrically shaped substrates, large area, low temperature growth, high reliability and reproducibility of whole plasma deposition process and long-term well defined process conditions will be combined. For this purpose, such plasma system either in radial or linear arrangement will be systematically studied by variety of analytic conditions as the function of process parameters (total pressure, gas mixture, plasma source geometry, etc.). The final deposition system will be the backbone for further industrial uses. (en)
- Hlavním cílem předkládaného projektu je návrh, vývoj a realizace hybridního a plně modulárního mikrovlnného systému chemické depozice z plynné fáze za asistence plazmatu založeného na nízkoteplotním zdroji plazmatu, surfatronu, s vysokým stupněm ionizace, který bude vhodný pro růst nových, moderních materiálů a jejich (nano) kompozitních forem, jako jsou například oxidy (TiO2, ZnO) nebo diamant. Hlavní výzvou projektu je zajištění několika různých průmyslových aspektů v jednom systému. Jedná se například o kombinace depozice na rozsáhlé plochy či 2D/3D objekty, nízké depoziční teploty, vysoké spolehlivosti a reprodukovatelnosti plazmové depozice při zachování dlouhodobé stability celého procesu. Zdroj plazmatu v radiálním či lineárním uspořádání bude systematicky studován množstvím analytických metod v závislosti na procesních parametrech (celkový tlak, složení plynné směsi, geometrie systému zdroje plazmatu a podobně). Výsledný depoziční systém bude vhodný pro široké spektrum průmyslových aplikací.
|
| Title
| - Hybrid high-density low-temperature microwave plasma sources in matrix configuration suitable for growth of advanced materials and their (nano) composites on 2D and 3D substrates (en)
- Nízkoteplotní hybridní mikrovlnné plazmové zdroje s vysokým stupněm ionizace uspořádaných v matricové konfiguraci umožňujících depozice perspektivných materiálů a jejich (nano) kompozitů na 2D a 3D objekty
|
| skos:notation
| |
| http://linked.open...avai/cep/aktivita
| |
| http://linked.open...kovaStatniPodpora
| |
| http://linked.open...ep/celkoveNaklady
| |
| http://linked.open...datumDodatniDoRIV
| |
| http://linked.open...i/cep/druhSouteze
| |
| http://linked.open...ep/duvernostUdaju
| |
| http://linked.open.../cep/fazeProjektu
| |
| http://linked.open...ai/cep/hlavniObor
| |
| http://linked.open...vai/cep/kategorie
| |
| http://linked.open.../cep/klicovaSlova
| - cold plasma; plasma assisted chemical vapor deposition; thin films; nanotechnology; advanced materials; hybrid and modular system; environmental; reliability; reproducibility (en)
|
| http://linked.open...ep/partnetrHlavni
| |
| http://linked.open...inujicichPrijemcu
| |
| http://linked.open...cep/pocetPrijemcu
| |
| http://linked.open...ocetSpoluPrijemcu
| |
| http://linked.open.../pocetVysledkuRIV
| |
| http://linked.open...enychVysledkuVRIV
| |
| http://linked.open...lneniVMinulemRoce
| |
| http://linked.open.../prideleniPodpory
| |
| http://linked.open...iciPoslednihoRoku
| |
| http://linked.open...atUdajeProjZameru
| |
| http://linked.open.../vavai/cep/soutez
| |
| http://linked.open...usZobrazovaneFaze
| |
| http://linked.open...ai/cep/typPojektu
| |
| http://linked.open...ep/ukonceniReseni
| |
| http://linked.open.../cep/vedlejsiObor
| |
| http://linked.open...ep/zahajeniReseni
| |
| http://linked.open...tniCyklusProjektu
| |
| http://linked.open.../cep/klicoveSlovo
| - cold plasma
- advanced materials
- environmental
- nanotechnology
- reliability
- thin films
- hybrid and modular system
- plasma assisted chemical vapor deposition
|
| is http://linked.open...vavai/riv/projekt
of | |
| is http://linked.open...vavai/cep/projekt
of | |
![[RDF Data]](/fct/images/sw-rdf-blue.png)
![[cxml]](/fct/images/cxml_doc.png)
![[csv]](/fct/images/csv_doc.png)
![[text]](/fct/images/ntriples_doc.png)
![[turtle]](/fct/images/n3turtle_doc.png)
![[ld+json]](/fct/images/jsonld_doc.png)
![[rdf+json]](/fct/images/json_doc.png)
![[rdf+xml]](/fct/images/xml_doc.png)
![[atom+xml]](/fct/images/atom_doc.png)
![[html]](/fct/images/html_doc.png)