About: System for measurement of ion and neutral particles flux deposited onto substrate during thin film deposition process

Facets (new session)
Description
Metadata
Settings
- owl:sameAs
- Inference Rule:

About: System for measurement of ion and neutral particles flux deposited onto substrate during thin film deposition process Goto Sponge NotDistinct Permalink

An Entity of Type : http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/Vysledek, within Data Space : linked.opendata.cz associated with source document(s)

Attributes	Values
rdf:type	skos:Concept http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/Vysledek
rdfs:seeAlso	http://spisy.upv.cz/UtilityModels/FullDocuments/FDUM0025/uv025867.pdf
Description	Technical solutions of measurement device for ionized and neutral particles and their ratio can be used to monitor the properties and process parameters during thin films deposition by means of PECVD and plasma PVD methods. It is known that the magnitude of the ionization fraction of deposited particles has a large influence on the quality and physical properties of the deposited films. (en) Technické řešení měřiče ionizovaných a neutrálních depozičních částic a jejich vzájemného poměru lze použít při monitorování vlastností a parametrů procesu nanášení tenkých vrstev pomocí plazmochemických metod PECVD a fyzikálních plazmových depozičních metod PVD. Je známo, že velikost ionizace depozičních částic má velký vliv na kvalitu a fyzikální vlastnosti deponovaných vrstev. Technické řešení měřiče ionizovaných a neutrálních depozičních částic a jejich vzájemného poměru lze použít při monitorování vlastností a parametrů procesu nanášení tenkých vrstev pomocí plazmochemických metod PECVD a fyzikálních plazmových depozičních metod PVD. Je známo, že velikost ionizace depozičních částic má velký vliv na kvalitu a fyzikální vlastnosti deponovaných vrstev. (cs)
Title	System for measurement of ion and neutral particles flux deposited onto substrate during thin film deposition process (en) Systém pro měření toků neutrálních a ionizovaných depozičních částic dopadajících na substrát při růstu tenkých vrstev Systém pro měření toků neutrálních a ionizovaných depozičních částic dopadajících na substrát při růstu tenkých vrstev (cs)
skos:prefLabel	System for measurement of ion and neutral particles flux deposited onto substrate during thin film deposition process (en) Systém pro měření toků neutrálních a ionizovaných depozičních částic dopadajících na substrát při růstu tenkých vrstev Systém pro měření toků neutrálních a ionizovaných depozičních částic dopadajících na substrát při růstu tenkých vrstev (cs)
skos:notation	RIV/68378271:_____/13:00396132!RIV14-MSM-68378271
http://linked.open...avai/predkladatel	Fyzikální ústav AV ČR, v.v.i.
http://linked.open...avai/riv/aktivita	I P
http://linked.open...avai/riv/aktivity	I, P(LH12043), P(TA01011740)
http://linked.open...cisloPatentuVzoru	25867
http://linked.open...eleniPatentuVzoru	2013-09-16 (xsd:date)
http://linked.open...vai/riv/dodaniDat	2014
http://linked.open...aciTvurceVysledku	Čada, Martin Hubička, Zdeněk Adámek, Petr Olejníček, Jiří Kment, Štěpán
http://linked.open.../riv/druhVysledku	F/U - Užitný vzor
http://linked.open...iv/duvernostUdaju	S - Úplné a pravdivé údaje nepodléhající ochraně podle zvláštních právních předpisů
http://linked.open...titaPredkladatele	Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
http://linked.open...dnocenehoVysledku	109642
http://linked.open...ai/riv/idVysledku	RIV/68378271:_____/13:00396132
http://linked.open...riv/jazykVysledku	cze - čeština
http://linked.open.../riv/klicovaSlova	ion flux; neutral particles; magnetic field; deposition rate (en)
http://linked.open.../riv/klicoveSlovo	neutral particles magnetic field ion flux deposition rate
http://linked.open...ontrolniKodProRIV	[6F9F4DF8851A]
http://linked.open.../licencniPoplatek	A - Poskytovatel licence na výsledek požaduje licenční poplatek
http://linked.open...ydaniPatentuVzoru	Prague
http://linked.open...atelePatentuVzoru	Úřad průmyslového vlastnictví
http://linked.open...in/vavai/riv/obor	BL
http://linked.open...ichTvurcuVysledku	5 (xsd:int)
http://linked.open...cetTvurcuVysledku	6 (xsd:int)
http://linked.open...vavai/riv/projekt	A Study of thin films systems based on Iron Pyrite (FeS2) for Photonic Applications. Hybrid high-density low-temperature microwave plasma sources in matrix configuration suitable for growth of advanced materials and their (nano) composites on 2D and 3D substrates
http://linked.open...UplatneniVysledku	2013
http://linked.open...ydaniPatentuVzoru	CZ - Česká republika
http://linked.open...iv/tvurceVysledku	Adámek, Petr Kment, Štěpán Olejníček, Jiří Hubička, Zdeněk Čada, Martin Kubart, T.
http://linked.open...mniOchranaPatentu	E - Úřad průmyslového vlastnictví ČR
http://linked.open...avai/riv/vlastnik	Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i
http://linked.open...itiJinymSubjektem	A - Nabytí licence je nutné vždy
http://linked.open...uzitiPatentuVzoru	A - Pouze udělený nebo využívaný pouze vlastníkem

Faceted Search & Find service v1.16.118 as of Jun 21 2024

Alternative Linked Data Documents: ODE Content Formats:

RDF

ODATA

Microdata

About

OpenLink Virtuoso version 07.20.3240 as of Jun 21 2024, on Linux (x86_64-pc-linux-gnu), Single-Server Edition (126 GB total memory, 58 GB memory in use)
Data on this page belongs to its respective rights holders.
Virtuoso Faceted Browser Copyright © 2009-2024 OpenLink Software