About: Submicrometer relief diffractive structures made by electron-beam lithography.     Goto   Sponge   NotDistinct   Permalink

An Entity of Type : http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/Projekt, within Data Space : linked.opendata.cz associated with source document(s)

AttributesValues
rdf:type
rdfs:seeAlso
Description
  • E-beam lithography is generally recognized and used tool in microelectronics to generate geometrical patterns with feture siye under one micrometer. Considering e-beam lithography with the resolution of 0.1um it is possible to use this technology also for the fabrication of the diffractive microstructures, which are able to form optical waves by using diffraction phenomenon. The realization of such structures however requiers special facilities and techniques which are different from those used in themicroelectronics technology. This differences could be characterize as follows: 1) diffractive structures are basically sub-micrometer structures, 2) it is necessary to study relief profile of the structure, 3) process enormous data volume (typically GB) in real time, 4) rigorously solve proximity effect in relation to a specific lithograph and 5) guarantee errorless function and operating parameters during a long time. The project is focused on solving the above mentioned problems. (en)
  • Elektronová litografie je všeobecně uznávanou technikou v technologii mikroelektroniky pro generaci geometrických obrazců s detaily submikrometrových rozměrů. Při rozlišení na úrovni řádově 0.1um je možné využít tuto technologii i pro přípravu různých difraktivních struktur, které jsou schopny formovat vlnoplochy optických vln při využití jevu difrakce. Realizace difraktivních struktur však vyžaduje zvládnutí technologií a technik, které mají odlišnosti oproti mikroelektronickým strukturám. Tyto odlišnosti je možné charakterizovat 1) zásadně submikrometrovými detaily, 2) definovaným profilem reliéfu záznamového materiálu, 3) zpracováním velkého objemu dat (řádově GB), 4) nutností řešit rigorózně tzv. proximity efekt pro daný litograf a 5) dlouhodobým bezchybným chodem zařízení při zajištění stálosti jeho provozních parametrů během expozice. Projekt je zaměřen na řešení výše uvedených problematik, aby mohl být stávající litograf prakticky využit v oblasti difraktivní optiky.
Title
  • Submicrometer relief diffractive structures made by electron-beam lithography. (en)
  • Elektronová litografie pro reliéfní submikrometrové difraktivní struktury
skos:notation
  • IBS2065014
http://linked.open...avai/cep/aktivita
http://linked.open...kovaStatniPodpora
http://linked.open...ep/celkoveNaklady
http://linked.open...datumDodatniDoRIV
http://linked.open...i/cep/druhSouteze
http://linked.open...ep/duvernostUdaju
http://linked.open.../cep/fazeProjektu
http://linked.open...ai/cep/hlavniObor
http://linked.open...hodnoceniProjektu
http://linked.open.../cep/klicovaSlova
  • optical diffractive structure; diffraction grating; synthetic relief structure; subwavelength structure; electron-beam lithography; microfavrication technology (en)
http://linked.open...ep/partnetrHlavni
http://linked.open...inujicichPrijemcu
http://linked.open...cep/pocetPrijemcu
http://linked.open...ocetSpoluPrijemcu
http://linked.open.../pocetVysledkuRIV
http://linked.open...enychVysledkuVRIV
http://linked.open...iciPoslednihoRoku
http://linked.open...atUdajeProjZameru
http://linked.open.../vavai/cep/soutez
http://linked.open...usZobrazovaneFaze
http://linked.open...ai/cep/typPojektu
http://linked.open.../cep/vedlejsiObor
http://linked.open...jektu+dodavatelem
  • Dosažené výsledky umožňují zápis velkoplošných difraktivních prvků typu syntetických hologramů ve vrstvě PMMA pomocí binárních reliefních mřížek. Byly získány originální výsledky pro využití v průmyslových aplikacích v oblasti konfonkální mikroskopie. (cs)
http://linked.open...tniCyklusProjektu
http://linked.open.../cep/klicoveSlovo
  • diffraction grating
  • electron-beam lithography
  • subwavelength structure
  • synthetic relief structure
  • optical diffractive structure
is http://linked.open...vavai/riv/projekt of
is http://linked.open...vavai/cep/projekt of
Faceted Search & Find service v1.16.118 as of Jun 21 2024


Alternative Linked Data Documents: ODE     Content Formats:   [cxml] [csv]     RDF   [text] [turtle] [ld+json] [rdf+json] [rdf+xml]     ODATA   [atom+xml] [odata+json]     Microdata   [microdata+json] [html]    About   
This material is Open Knowledge   W3C Semantic Web Technology [RDF Data] Valid XHTML + RDFa
OpenLink Virtuoso version 07.20.3240 as of Jun 21 2024, on Linux (x86_64-pc-linux-gnu), Single-Server Edition (126 GB total memory, 58 GB memory in use)
Data on this page belongs to its respective rights holders.
Virtuoso Faceted Browser Copyright © 2009-2024 OpenLink Software