About: Investigation of physical parameters and optimisation of novel system for plasma surface treatment

Facets (new session)
Description
Metadata
Settings
- owl:sameAs
- Inference Rule:

About: Investigation of physical parameters and optimisation of novel system for plasma surface treatment Goto Sponge NotDistinct Permalink

An Entity of Type : http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/Projekt, within Data Space : linked.opendata.cz associated with source document(s)

Attributes	Values
rdf:type	http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/Projekt
rdfs:seeAlso	http://www.isvav.cz/projectDetail.do?rowId=GA202/00/1592
Description	Recently the novel plasma chemical systems (reactors) have been developed. These systems employ the flow of the working gas for creation of the plasma channel: At first the radio frequency low pressure reactor which used the unipolar hollow cathode discharge. Secondly the high pressure unipolar torch discharge has been used as a source of plasmajet channel. From point of view of the thin film deposition it is very perspective to take advantage of a high chemical activity of the RF hollow cathode discharge and develop the multi jet system with hollow cathodes. This system enables to deposit alloy, composite thin films, multi-layer structures or gradient thin films onto flat surfaces, internal walls of cavities, tubes, or on the surface of components with complicated shapes. Up to now the described plasma-chemical systems have been successfully used only for deposition in some particular cases. For optimisation of these plasma-chemical systems it is necessary the other basic and applied (en) V poslední dekádě byly v našich laboratořích vyvinuty plazma chemické systémy (reaktory) ve kterých je plazmový kanál vytvářen pomocí proudícího kanálu pracovního plynu. Kanál pracovního plynu určuje tak tvar plazmatického kanálu. Plazmatický kanál je pagenerován RF polem budící RF výboj: V nízkotlakém RF reaktoru je plazmový kanál generován výbojem v duté katodě, která vzniká ve trysce, kterou proudí pracovní plyn do reaktoru. Ve vysokotlakém systému je plazmový kanál vytvářen RF unipolárním pochodňovývýbojem. Z hlediska depozice tenkých vrstev se ukazuje jako perspektivní reaktor s vícetryskovým systémem vytvářejícím několik plazmových kanálů. Tento systém umožňuje depozici slitinových, kompozitních vrstev a vícevrstevnatých struktur na rovinné substráty, vnitřní stěny dutin a trubic a na substráty komplikovaných tvarů. Dosud byly uvedené systémy převážně používány empiricky při depozici některých tenkých vrstev. Pro optimalizaci systémů je nutný další systematický základní i aplikovaný výzkum:
Title	Investigation of physical parameters and optimisation of novel system for plasma surface treatment (en) Studium fyzikálních parametrů a optimalizace nově vyvinutých systémů pro plazmovou modifikaci povrchů
skos:notation	GA202/00/1592
http://linked.open...avai/cep/aktivita	Standard projects
http://linked.open...kovaStatniPodpora	http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/projekt/GA202%2F00%2F1592/celkovaStatniPodpora
http://linked.open...ep/celkoveNaklady	http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/projekt/GA202%2F00%2F1592/celkoveNaklady
http://linked.open...datumDodatniDoRIV	2008-05-19 (xsd:date)
http://linked.open...i/cep/druhSouteze	VS - Veřejná soutěž ve výzkumu a vývoji
http://linked.open...ep/duvernostUdaju	S - Úplné a pravdivé údaje nepodléhající ochraně podle zvláštních právních předpisů
http://linked.open.../cep/fazeProjektu	962951
http://linked.open...ai/cep/hlavniObor	JP - Průmyslové procesy a zpracování
http://linked.open...hodnoceniProjektu	U - Uspěl podle zadání, tj. byly splněny cíle a jeho předpokládané výsledky uvedené ve smlouvě / rozhodnutí o poskytnutí podpory
http://linked.open.../cep/klicovaSlova	Neuvedeno. (en)
http://linked.open...ep/partnetrHlavni	Přírodovědecká fakulta
http://linked.open...inujicichPrijemcu	0 (xsd:int)
http://linked.open...cep/pocetPrijemcu	1 (xsd:int)
http://linked.open...ocetSpoluPrijemcu	3 (xsd:int)
http://linked.open.../pocetVysledkuRIV	19 (xsd:int)
http://linked.open...enychVysledkuVRIV	19 (xsd:int)
http://linked.open...iciPoslednihoRoku	2003
http://linked.open...atUdajeProjZameru	2003
http://linked.open.../vavai/cep/soutez	SGA02002GA-ST
http://linked.open...usZobrazovaneFaze	DUU
http://linked.open...ai/cep/typPojektu	P - Projekt výzkumu a vývoje financovaný ze státního rozpočtu
http://linked.open.../cep/vedlejsiObor	BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech CI - Průmyslová chemie a chemické inženýrství
http://linked.open...jektu+dodavatelem	Projekt byl zaměřen na aktuální problematiku studia RF buzených dutých katod a plazmatických kanálů a využití těchto systémů pro nové metody depozice tenkých vrstev. V oblasti teoretické byly vypracovány modely dějů v duté katodě. V oblasti diagnostiky p (cs)
http://linked.open...tniCyklusProjektu	ZBKU
is http://linked.open...vavai/riv/projekt of	Low-pressure rf multi-plasma jet system for deposition of alloy and composite thin films Magnetoresistance of Fe-Ta-O films prepared by RF plasma jet method. Low-pressure RF multi-plasma-jet system for deposition of alloy and composite films. Determination of mass density distribution in low-temperature discharges by means of holographic interferometry The radio frequency hollow cathode discharge induced by the Rf discharge in the plasma-jet chemical reactor The Torch Discharge Plasma Source for the Surface Treatment Technology Probe diagnostics at the atmospheric pressure plasma Comparison of barrier-torch discharge at atmospheric pressure Barrier - torch discharge plasma source for surface treatment technology at atmospheric pressure Magnetic and electric transport properties of Fe-Hf-O films prepared by supersonic plasma jet method The plasma diagnostics of the RF torch discharge plasma chemical system CNx coatings deposited by pulsed RF supersonic plasma jet: hardness, nitrogenation and optical properties CN x coatings deposited by pulsored RF supersonic plasma jet: hardness, nitrogenation and optical properties. Deposition of polymer films in RF discharge at atmospheric pressure Industrial-scale process control by means of electrostatics probes. Hardness, intrinsic stress, and structure of the a-C and a-C:H films prepared by magnetron sputtering. Investigation of the atmospheric RF torch-barrier plasma jet for deposition of CeO x thin films. Investigation of RF and DC plasma jet system during deposition of highly oriented ZnO thin films Probe diagnostics of the RF barrier-torch discharge at atmospheric pressure.
is http://linked.open...vavai/cep/projekt of	http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/ucast/GA202%2F00%2F1592/2000/ico%3A68378271 http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/ucast/GA202%2F00%2F1592/2000/orjk%3A11320 http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/ucast/GA202%2F00%2F1592/2000/orjk%3A12310 http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/ucast/GA202%2F00%2F1592/2000/orjk%3A14310 http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/ucast/GA202%2F00%2F1592/2001/ico%3A68378271 http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/ucast/GA202%2F00%2F1592/2001/orjk%3A11320 http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/ucast/GA202%2F00%2F1592/2001/orjk%3A12310 http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/ucast/GA202%2F00%2F1592/2001/orjk%3A14310 http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/ucast/GA202%2F00%2F1592/2002/ico%3A68378271 http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/ucast/GA202%2F00%2F1592/2002/orjk%3A11320 http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/ucast/GA202%2F00%2F1592/2002/orjk%3A12310 http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/ucast/GA202%2F00%2F1592/2002/orjk%3A14310 http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/ucast/GA202%2F00%2F1592/2003/ico%3A68378271 http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/ucast/GA202%2F00%2F1592/2003/orjk%3A11320 http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/ucast/GA202%2F00%2F1592/2003/orjk%3A12310 http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/ucast/GA202%2F00%2F1592/2003/orjk%3A14310 http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/ucast/GA202%2F00%2F1592/2007/ico%3A68378271 http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/ucast/GA202%2F00%2F1592/2007/orjk%3A11320 http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/ucast/GA202%2F00%2F1592/2007/orjk%3A12310 http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/ucast/GA202%2F00%2F1592/2007/orjk%3A14310

Faceted Search & Find service v1.16.118 as of Jun 21 2024

Alternative Linked Data Documents: ODE Content Formats:

RDF

ODATA

Microdata

About

OpenLink Virtuoso version 07.20.3240 as of Jun 21 2024, on Linux (x86_64-pc-linux-gnu), Single-Server Edition (126 GB total memory, 58 GB memory in use)
Data on this page belongs to its respective rights holders.
Virtuoso Faceted Browser Copyright © 2009-2024 OpenLink Software