Attributes | Values |
---|
rdf:type
| |
Description
| - Studie se zabývá teplotní stabilitou struktury a mechanických vlastností vrstev Zr-Si-N s vysokým obsahem Si (?25 at.%) deponovaných z keramického terče ZrSi2 reaktivním magnetronovým naprašováním. Bylo zjištěno, že fázové složení vrstev silně ovlivňuje jejich teplotní stabilitu. Mikrotvrdost připravených vrstev Zr-Si-N není dána makropnutím, ale jejich vnitřní strukturou. Krystalizace rentgenově amorfních vrstev závisí na fázovém složení vrstev, okolní atmosféře a na difúzi prvků substrátu do vrstvy během ohřevu. Vrstvy Zr-Si-N s amorfní strukturou obsahující vysoký obsah Si3N4 fáze (?50 obj.%) vykazují nejvyšší teplotní stabilitu značně převyšující 1000°C. (cs)
- The article reports on thermal stability of the structure and mechanical properties of Zr-Si-N films with a high Si content deposited from a ceramic ZrSi2 target by reactive magnetron sputtering. The annealed films were characterized using X-ray diffraction, microhardness and macrostress measurements, and differential scanning calorimetry. Special attention was devoted to the influence of the annealing temperatutre (up to 1600°C), annealing environment and presence of the substrate. It was found that the phase composition of the films strongly influences in the thermal stability.
- The article reports on thermal stability of the structure and mechanical properties of Zr-Si-N films with a high Si content deposited from a ceramic ZrSi2 target by reactive magnetron sputtering. The annealed films were characterized using X-ray diffraction, microhardness and macrostress measurements, and differential scanning calorimetry. Special attention was devoted to the influence of the annealing temperatutre (up to 1600°C), annealing environment and presence of the substrate. It was found that the phase composition of the films strongly influences in the thermal stability. (en)
|
Title
| - Thermal stability of magnetron sputtered Zr-Si-N films
- Teplotní stabilita vrstev Zr-Si-N připravených magnetronovým naprašováním (cs)
- Thermal stability of magnetron sputtered Zr-Si-N films (en)
|
skos:prefLabel
| - Thermal stability of magnetron sputtered Zr-Si-N films
- Teplotní stabilita vrstev Zr-Si-N připravených magnetronovým naprašováním (cs)
- Thermal stability of magnetron sputtered Zr-Si-N films (en)
|
skos:notation
| - RIV/49777513:23520/06:00000059!RIV07-GA0-23520___
|
http://linked.open.../vavai/riv/strany
| |
http://linked.open...avai/riv/aktivita
| |
http://linked.open...avai/riv/aktivity
| - P(GP106/03/D009), Z(MSM4977751302)
|
http://linked.open...iv/cisloPeriodika
| |
http://linked.open...vai/riv/dodaniDat
| |
http://linked.open...aciTvurceVysledku
| |
http://linked.open.../riv/druhVysledku
| |
http://linked.open...iv/duvernostUdaju
| |
http://linked.open...titaPredkladatele
| |
http://linked.open...dnocenehoVysledku
| |
http://linked.open...ai/riv/idVysledku
| - RIV/49777513:23520/06:00000059
|
http://linked.open...riv/jazykVysledku
| |
http://linked.open.../riv/klicovaSlova
| - Zr-Si-N films; high Si3N4 content; thermal stability; crystallization; magnetron sputtering (en)
|
http://linked.open.../riv/klicoveSlovo
| |
http://linked.open...odStatuVydavatele
| - US - Spojené státy americké
|
http://linked.open...ontrolniKodProRIV
| |
http://linked.open...i/riv/nazevZdroje
| - Surface and Coatings Technology
|
http://linked.open...in/vavai/riv/obor
| |
http://linked.open...ichTvurcuVysledku
| |
http://linked.open...cetTvurcuVysledku
| |
http://linked.open...vavai/riv/projekt
| |
http://linked.open...UplatneniVysledku
| |
http://linked.open...iv/tvurceVysledku
| - Musil, Jindřich
- Zeman, Petr
- Daniel, Rostislav
- Mitterer, Christian
|
http://linked.open...n/vavai/riv/zamer
| |
issn
| |
number of pages
| |
http://localhost/t...ganizacniJednotka
| |
is http://linked.open...avai/riv/vysledek
of | |