About: Verified technology of thin dielectric layers application on silicon substrate deposited by modified PVD (Physical Vapor Deposition).

Facets (new session)
Description
Metadata
Settings
- owl:sameAs
- Inference Rule:

About: Verified technology of thin dielectric layers application on silicon substrate deposited by modified PVD (Physical Vapor Deposition). Goto Sponge NotDistinct Permalink

An Entity of Type : http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/Vysledek, within Data Space : linked.opendata.cz associated with source document(s)

Attributes	Values
rdf:type	skos:Concept http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/Vysledek
Description	Ověřená technologie nanášení tenkých dielektrických vrstev (nm) na křemíkové substráty modifikovanou technologií PVD (Physical Vapor Deposition), která v sobě zahrnuje možnost plazmochemického čištění povrchu s následným naprášením tenké vrstvy. Proces bude uskutečňován v jednom pracovním cyklu. Hlavní předností technologie je vysoká homogenita nanášených vrstev, procesní variabilita a velmi dobrá kontrolovatelnost depozice. Ověřená technologie nanášení tenkých dielektrických vrstev (nm) na křemíkové substráty modifikovanou technologií PVD (Physical Vapor Deposition), která v sobě zahrnuje možnost plazmochemického čištění povrchu s následným naprášením tenké vrstvy. Proces bude uskutečňován v jednom pracovním cyklu. Hlavní předností technologie je vysoká homogenita nanášených vrstev, procesní variabilita a velmi dobrá kontrolovatelnost depozice. (cs) Verified technology of thin dielectric layers application on silicon substrate deposited by modified PVD (Physical Vapor Deposition), which implies the possibility of plasma surface cleaning followed by sputtering a thin layer. The process will be carried out in one operation. A main advantage of the technology is a high homogenity of deposited layers, process variability and very good controllability of deposition. (en)
Title	Verified technology of thin dielectric layers application on silicon substrate deposited by modified PVD (Physical Vapor Deposition). (en) Ověřená technologie nanášení tenkých dielektrických vrstev (nm) na křemíkové substráty modifikovanou technologií PVD (Physical Vapor Deposition). Ověřená technologie nanášení tenkých dielektrických vrstev (nm) na křemíkové substráty modifikovanou technologií PVD (Physical Vapor Deposition). (cs)
skos:prefLabel	Verified technology of thin dielectric layers application on silicon substrate deposited by modified PVD (Physical Vapor Deposition). (en) Ověřená technologie nanášení tenkých dielektrických vrstev (nm) na křemíkové substráty modifikovanou technologií PVD (Physical Vapor Deposition). Ověřená technologie nanášení tenkých dielektrických vrstev (nm) na křemíkové substráty modifikovanou technologií PVD (Physical Vapor Deposition). (cs)
skos:notation	RIV/49610040:_____/13:*0000111!RIV14-MPO-49610040
http://linked.open...avai/predkladatel	Solartec
http://linked.open...avai/riv/aktivita	P
http://linked.open...avai/riv/aktivity	P(FR-TI1/603)
http://linked.open...vai/riv/dodaniDat	2014
http://linked.open...aciTvurceVysledku	Bařinka, Radim Čech, Pavel Hégr, Ondřej
http://linked.open.../riv/druhVysledku	Z/B - Ověřená technologie
http://linked.open...iv/duvernostUdaju	C - Předmět podléhá obchodnímu tajemství (§17 až 20 Obchodního zákoníku), ale některé údaje jsou upraveny tak, aby byly zveřejnitelné
http://linked.open...onomickeParametry	Ověřená technologie bude využita realizátorem výsledku při řešení komerčních zakázek na výrobu zákaznických solárních článků a FV modulů. Dále bude technologie využita realizátorem pro vývoj nových pokročilých technologií výroby solárních článků s vysokou konverzní účinností.
http://linked.open...titaPredkladatele	Solartec s. r. o.
http://linked.open...dnocenehoVysledku	94928
http://linked.open...ai/riv/idVysledku	RIV/49610040:_____/13:*0000111
http://linked.open...terniIdentifikace	1-01-024
http://linked.open...riv/jazykVysledku	cze - čeština
http://linked.open...vai/riv/kategorie	B - Do 10 mil. Kč, ale nad 5 mil. Kč
http://linked.open.../riv/klicovaSlova	solar cell; PVD; sputtering; dielectric layers (en)
http://linked.open.../riv/klicoveSlovo	dielectric layers sputtering solar cell PVD
http://linked.open...ontrolniKodProRIV	[66B90455C000]
http://linked.open.../licencniPoplatek	Z - Poskytovatel licence na výsledek nepožaduje v některých případech licenční poplatek
http://linked.open...in/vavai/riv/obor	JA
http://linked.open...ichTvurcuVysledku	3 (xsd:int)
http://linked.open...cetTvurcuVysledku	6 (xsd:int)
http://linked.open...vavai/riv/projekt	Effective coating technology of thin passivation and antireflection layers for production of crystalline solar cells
http://linked.open...UplatneniVysledku	2013
http://linked.open...echnickeParametry	Ověřená technologie byla realizována za pomoci modifikovaného depozičního zařízení pracujícího na principu depozice z pevné fáze (PVD). Výsledek slouží k vlastnímu využití a byla podepsána Smlouva o využití výsledků výzkumu a vývoje 2012/FR-TI1/603, s MPO ze dne 26.3.2013 . Kontaktní osoba: Ing. Renáta Zetková, tel: 601375825, email: renata.zetkova@solartec.cz
http://linked.open...iv/tvurceVysledku	Bařinka, Radim Sobota, Jaroslav Čech, Pavel Vyskočil, Jiří Kadlec, Stanislav Hégr, Ondřej
http://linked.open...avai/riv/vlastnik	Solartec s.r.o.
http://linked.open...itiJinymSubjektem	P - Nabytí licence je nutné v některých případech

Faceted Search & Find service v1.16.116 as of Feb 22 2024

Alternative Linked Data Documents: ODE Content Formats:

RDF

ODATA

Microdata

About

OpenLink Virtuoso version 07.20.3239 as of Feb 22 2024, on Linux (x86_64-pc-linux-gnu), Single-Server Edition (126 GB total memory, 67 GB memory in use)
Data on this page belongs to its respective rights holders.
Virtuoso Faceted Browser Copyright © 2009-2024 OpenLink Software