At present, the passivation and antireflection layers of crystalline silicon solar cells (produced by Solartec) are realized by stoichiometric silicon nitride (Si3N4) films grown on silicon substrate under low pressure and relative high temperature conditions from the gas mixture of dichlorsilane and ammonia. During this LP CVD process electronic properties of the silicon wafers usually degrade mainly due to high temperature. Proposed project deals with deposition of such layers by a new technology based on the magnetron sputtering system. Under conditions of low-temperature plasma a broad-spectrum of suitable materials can be deposited by this well-controllable process depending on the sputtering targets used. Research of the in-situ non-chemical cleaning of silicon wafers by means of hydrogen radicals generated by plasma just before the deposition process is another complementary part of this project. (en)
Pasivační a antireflexní vrstvy solárních článků vyráběných firmou Solartec jsou v současnosti realizovány stechiometrickým nitridem křemíku (Si3N4), rostoucím na křemíkových substrátech za podmínek nízkého tlaku a velmi vysokých teplot (900C) z plynné fáze dichlorsilanu a čpavku. Vysoké procesní teploty mají za následek nevratnou degradaci elektronických vlastností výchozích substrátů, které v důsledku výrazně omezují výslednou účinnost solárního článku. Předkládaný projekt řeší problematiku depozice tenkých pasivačních a antireflexních vrstev výzkumem v oblasti technologie, založené na bázi magnetronového naprašování. V podmínkách nizkoteplotního plazmatu je možné realizovat depozice široké škály vhodných materiálů, kde výhodou je především kontrolovatelnost celého procesu, určení přesného složení vytvářených vrstev a snadná reprodukovatelnost. Součástí projektu je i výzkum nechemického čištění křemíkových desek těsně před depozicí za pomoci vodíkových radikálů aktivovaných plazmatem.
Proved technologies of plasmochemical cleaning and sputtering of thin dielectric antifeflection and passivation layers on surfaces of crystalline silicon solar cells dedicated for aesthetic application are the results of project. (en)
Výsledkem řešení projektu jsou ověřené technologie plazmo-chemického čištění povrchu a naprašování tenkých dialektrických antireflexních a pasivačních vrstev na povrchy krystalických křemíkových lolárních článků určencých pro estetické aplikace. (cs)