About: Rotační stolek pro unášení substrátů při depozici tenké vrstvy na exponovaný povrch substrátů č. CZ 26777 U1.

Facets (new session)
Description
Metadata
Settings
- owl:sameAs
- Inference Rule:

About: Rotační stolek pro unášení substrátů při depozici tenké vrstvy na exponovaný povrch substrátů č. CZ 26777 U1. Goto Sponge NotDistinct Permalink

An Entity of Type : http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/Vysledek, within Data Space : linked.opendata.cz associated with source document(s)

Attributes	Values
rdf:type	skos:Concept http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/Vysledek
rdfs:seeAlso	http://isdv.upv.cz/portal/pls/portal/portlets.pts.det?xprim=10016129&lan=cs
Description	Rotary table for carrying of substrates for deposition of thin films on exposed substrate surfaces in vacuum from at least one source of particles, providing homogeneous coating on tilted rotating planets. The rotary table is suitable for the coating of different substrates, for example solar cells, at experimental or pilot applications, but also in mass production. The use of rotary table can transfer batch coaters with magnetrons or arcs to a device with a better homogeneity of layers, or at the same time with higher capacity at relatively low costs. The solution can be used for metallic coating on flat parts, transparent substrates for optical coatings, silicon wafers etc. (en) Rotační stolek pro unášení substrátů při depozici tenké vrstvy na exponovaný povrch substrátů ve vakuu z alespoň jednoho zdroje částic, přičemž dochází k homogennímu povlakování na šikmo rotující planety. Rotační stolek je vhodný pro povlakování různých substrátů, napříkad solárních článků, pro experimentální nebo poloprovozní aplikace, ale i do provozů s velkoobjemovou výrobou. Použití rotačního stolku dokáže dávková depoziční zařízení s magnetrony či obloukypřeměnit na zařízení s lepší homogenitou vrstev, případně zároveň s vyšší kapacitou a to s relativně malými náklady. Řešení lze použít pro povlakování plochých dílů kovovými vrstvami, průhledných substrátů pro optické vrstvy, křemíkových desek pro elektroniku apod. Rotační stolek pro unášení substrátů při depozici tenké vrstvy na exponovaný povrch substrátů ve vakuu z alespoň jednoho zdroje částic, přičemž dochází k homogennímu povlakování na šikmo rotující planety. Rotační stolek je vhodný pro povlakování různých substrátů, napříkad solárních článků, pro experimentální nebo poloprovozní aplikace, ale i do provozů s velkoobjemovou výrobou. Použití rotačního stolku dokáže dávková depoziční zařízení s magnetrony či obloukypřeměnit na zařízení s lepší homogenitou vrstev, případně zároveň s vyšší kapacitou a to s relativně malými náklady. Řešení lze použít pro povlakování plochých dílů kovovými vrstvami, průhledných substrátů pro optické vrstvy, křemíkových desek pro elektroniku apod. (cs)
Title	Rotační stolek pro unášení substrátů při depozici tenké vrstvy na exponovaný povrch substrátů č. CZ 26777 U1. Rotační stolek pro unášení substrátů při depozici tenké vrstvy na exponovaný povrch substrátů č. CZ 26777 U1. (cs) Rotary table for carrying of substrates for deposition of thin films on exposed substrate surfaces, utility model no. CZ 26777 U1. (en)
skos:prefLabel	Rotační stolek pro unášení substrátů při depozici tenké vrstvy na exponovaný povrch substrátů č. CZ 26777 U1. Rotační stolek pro unášení substrátů při depozici tenké vrstvy na exponovaný povrch substrátů č. CZ 26777 U1. (cs) Rotary table for carrying of substrates for deposition of thin films on exposed substrate surfaces, utility model no. CZ 26777 U1. (en)
skos:notation	RIV/45309787:_____/14:#0000007!RIV14-MPO-45309787
http://linked.open...avai/predkladatel	HVM PLASMA, spol. s r.o.
http://linked.open...avai/riv/aktivita	P
http://linked.open...avai/riv/aktivity	P(FR-TI1/603)
http://linked.open...cisloPatentuVzoru	26777
http://linked.open...eleniPatentuVzoru	2014-04-10 (xsd:date)
http://linked.open...vai/riv/dodaniDat	2014
http://linked.open...aciTvurceVysledku	Vyskočil, Jiří Kadlec, Stanislav Plíhal, Petr
http://linked.open.../riv/druhVysledku	F/U - Užitný vzor
http://linked.open...iv/duvernostUdaju	S - Úplné a pravdivé údaje nepodléhající ochraně podle zvláštních právních předpisů
http://linked.open...titaPredkladatele	HVM PLASMA, spol. s r.o.
http://linked.open...dnocenehoVysledku	43309
http://linked.open...ai/riv/idVysledku	RIV/45309787:_____/14:#0000007
http://linked.open...riv/jazykVysledku	cze - čeština
http://linked.open.../riv/klicovaSlova	Rotary planetary table (en)
http://linked.open.../riv/klicoveSlovo	Rotary planetary table
http://linked.open...ontrolniKodProRIV	[E4AD4F4FDC82]
http://linked.open.../licencniPoplatek	A - Poskytovatel licence na výsledek požaduje licenční poplatek
http://linked.open...ydaniPatentuVzoru	Prague
http://linked.open...atelePatentuVzoru	Úřad průmyslového vlastnictví
http://linked.open...in/vavai/riv/obor	BL
http://linked.open...ichTvurcuVysledku	3 (xsd:int)
http://linked.open...cetTvurcuVysledku	3 (xsd:int)
http://linked.open...vavai/riv/projekt	Effective coating technology of thin passivation and antireflection layers for production of crystalline solar cells
http://linked.open...UplatneniVysledku	2014
http://linked.open...ydaniPatentuVzoru	CZ - Česká republika
http://linked.open...iv/tvurceVysledku	Vyskočil, Jiří Kadlec, Stanislav Plíhal, Petr
http://linked.open...mniOchranaPatentu	E - Úřad průmyslového vlastnictví ČR
http://linked.open...avai/riv/vlastnik	HVM Plasma, spol.sr.o.
http://linked.open...itiJinymSubjektem	A - Nabytí licence je nutné vždy
http://linked.open...uzitiPatentuVzoru	B - Využívaný třetí stranou na základě licenční smlouvy

Faceted Search & Find service v1.16.118 as of Jun 21 2024

Alternative Linked Data Documents: ODE Content Formats:

RDF

ODATA

Microdata

About

OpenLink Virtuoso version 07.20.3240 as of Jun 21 2024, on Linux (x86_64-pc-linux-gnu), Single-Server Edition (126 GB total memory, 114 GB memory in use)
Data on this page belongs to its respective rights holders.
Virtuoso Faceted Browser Copyright © 2009-2024 OpenLink Software