About: Three segment ogranic molecule evaporation source

Facets (new session)
Description
Metadata
Settings
- owl:sameAs
- Inference Rule:

About: Three segment ogranic molecule evaporation source Goto Sponge NotDistinct Permalink

An Entity of Type : http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/Vysledek, within Data Space : linked.opendata.cz associated with source document(s)

Attributes	Values
rdf:type	skos:Concept http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/Vysledek
rdfs:seeAlso	http://surfaces.fme.vutbr.cz/laboratories/developed-instruments/2014-03/
Description	Zařízení je určeno pro depozici ultratenkých organických vrstev v podmínkách UHV. Organické materiály lze umístit do jednoho ze tří PBN zásobníků. Pracovní teplotu zásobníků lze nezávisle nastavit v rozmezí teplot od 20 C až do 350 C. Tato teplota je snímána pomocí termočlánků. Rychlejší reakční doba ohřevu mezi PBN zásobníkem a Cu topným tělesem je realizována tenkou vrstvou tekutého kovového materiálu (indium). Zařízení je určeno pro depozici ultratenkých organických vrstev v podmínkách UHV. Organické materiály lze umístit do jednoho ze tří PBN zásobníků. Pracovní teplotu zásobníků lze nezávisle nastavit v rozmezí teplot od 20 C až do 350 C. Tato teplota je snímána pomocí termočlánků. Rychlejší reakční doba ohřevu mezi PBN zásobníkem a Cu topným tělesem je realizována tenkou vrstvou tekutého kovového materiálu (indium). (cs) The device serves for deposition of ultrathin organic layers under UHV conditions. Organic material for evaporation is placed in one of three PBN crucibles which can be operated independently. The operation temperature in range 20 – 350 C is controlled by thermocouple. The faster heat transfer between PBN and Cu heater is mediated by liquid metal (In) filling. (en)
Title	Three segment ogranic molecule evaporation source (en) Zdroj organických molekul s třemi segmenty Zdroj organických molekul s třemi segmenty (cs)
skos:prefLabel	Three segment ogranic molecule evaporation source (en) Zdroj organických molekul s třemi segmenty Zdroj organických molekul s třemi segmenty (cs)
skos:notation	RIV/00216305:26620/14:PR28108!RIV15-TA0-26620___
http://linked.open...avai/riv/aktivita	P
http://linked.open...avai/riv/aktivity	P(TE01020233)
http://linked.open...vai/riv/dodaniDat	2015
http://linked.open...aciTvurceVysledku	Mach, Jindřich
http://linked.open.../riv/druhVysledku	G/B - Funkční vzorek
http://linked.open...iv/duvernostUdaju	S - Úplné a pravdivé údaje nepodléhající ochraně podle zvláštních právních předpisů
http://linked.open...onomickeParametry	Náklady na výrobu byly 150 000Kč. Doba vývoje zařízení přesáhla několik set hodin. Zařízení je využíváno ke studiu růstu organických polovodičových tenkých vrstev v UHV. Dále bude užíváno ke studiu tvorby organických uspořádaných síťových systémů.
http://linked.open...titaPredkladatele	Vysoké učení technické v Brně / Středoevropský technologický institut
http://linked.open...dnocenehoVysledku	57234
http://linked.open...ai/riv/idVysledku	RIV/00216305:26620/14:PR28108
http://linked.open...terniIdentifikace	Organická cela
http://linked.open...riv/jazykVysledku	cze - čeština
http://linked.open...vai/riv/kategorie	A - Do 5 mil. Kč
http://linked.open.../riv/klicovaSlova	Organic molecules, organic semiconductors, effusion cell, ultrathin layers, UHV, deposition (en)
http://linked.open.../riv/klicoveSlovo	Organic molecules ultrathin layers effusion cell UHV deposition organic semiconductors
http://linked.open...ontrolniKodProRIV	[D22D42D9B31D]
http://linked.open.../licencniPoplatek	N - Poskytovatel licence na výsledek nepožaduje licenční poplatek
http://linked.open...in/vavai/riv/obor	BM
http://linked.open...ichTvurcuVysledku	1 (xsd:int)
http://linked.open...cetTvurcuVysledku	1 (xsd:int)
http://linked.open...vavai/riv/projekt	Advanced Microscopy and Spectroscopy Platform for Research and Development in Nano and Microtechnologies - AMISPEC
http://linked.open...UplatneniVysledku	2014
http://linked.open...echnickeParametry	Zařízení je určeno k depozici organických tenkých vrstev v podmínkách vysokého vakua od p>1x10-5Pa. Zařízení obsahuje tři napařovací segment části umožňující depozici multi vrstevnatvnatých struktur. Ohřev depozitu je v rozmezí teplot (20oC-350oC). Tělo zdroje je zhotoveno s F.O.Cu. a účinně chlazeno vodou. Depozit je umístěn v PBN zásobníku. Celé zařízení je umístěno na přírubě DN40.
http://linked.open...iv/tvurceVysledku	Mach, Jindřich
http://linked.open...avai/riv/vlastnik	Příprava a charakterizace nanostruktur
http://linked.open...itiJinymSubjektem	A - Nabytí licence je nutné vždy
http://localhost/t...ganizacniJednotka	26620

Faceted Search & Find service v1.16.116 as of Feb 22 2024

Alternative Linked Data Documents: ODE Content Formats:

RDF

ODATA

Microdata

About

OpenLink Virtuoso version 07.20.3239 as of Feb 22 2024, on Linux (x86_64-pc-linux-gnu), Single-Server Edition (126 GB total memory, 67 GB memory in use)
Data on this page belongs to its respective rights holders.
Virtuoso Faceted Browser Copyright © 2009-2024 OpenLink Software