About: Radiatively heated Al effesion cell     Goto   Sponge   NotDistinct   Permalink

An Entity of Type : http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/Vysledek, within Data Space : linked.opendata.cz associated with source document(s)

AttributesValues
rdf:type
rdfs:seeAlso
Description
  • This effusion cell is designed for deposition of ultrathin layers under UHV conditions. The material for evaporation is place in heated pBN crucible. Outer part of crucible is actively cooled to prevent Al diffusion outside the crucible. (en)
  • Zařízení je určeno pro depozici ultratenkých Al vrstev v podmínkách UHV. Vypařovaný materiál je umístěn v PBN zásobníku. Výstupní část tohoto zásobníku je během funkce zdroje aktivně ochlazována, což je velmi vhodné pro materiály s vysokou vzlínavostí, jako je například zmíněný hliník. Ohřev zásobníku je realizován průchodem elektrického proudu tantalovým odporovým drátem.
  • Zařízení je určeno pro depozici ultratenkých Al vrstev v podmínkách UHV. Vypařovaný materiál je umístěn v PBN zásobníku. Výstupní část tohoto zásobníku je během funkce zdroje aktivně ochlazována, což je velmi vhodné pro materiály s vysokou vzlínavostí, jako je například zmíněný hliník. Ohřev zásobníku je realizován průchodem elektrického proudu tantalovým odporovým drátem. (cs)
Title
  • Radiatively heated Al effesion cell (en)
  • Zdroj atomů Al s radiačním ohřevem
  • Zdroj atomů Al s radiačním ohřevem (cs)
skos:prefLabel
  • Radiatively heated Al effesion cell (en)
  • Zdroj atomů Al s radiačním ohřevem
  • Zdroj atomů Al s radiačním ohřevem (cs)
skos:notation
  • RIV/00216305:26620/14:PR28106!RIV15-TA0-26620___
http://linked.open...avai/riv/aktivita
http://linked.open...avai/riv/aktivity
  • P(TE01020233)
http://linked.open...vai/riv/dodaniDat
http://linked.open...aciTvurceVysledku
http://linked.open.../riv/druhVysledku
http://linked.open...iv/duvernostUdaju
http://linked.open...onomickeParametry
  • Náklady na výrobu byly 130 000Kč. Doba vývoje zařízení přesáhla několik set hodin. Zařízení je využíváno ke studiu růstu Al a AlN ultratenkých vrstev v UHV.
http://linked.open...titaPredkladatele
http://linked.open...dnocenehoVysledku
  • 57232
http://linked.open...ai/riv/idVysledku
  • RIV/00216305:26620/14:PR28106
http://linked.open...terniIdentifikace
  • Al cela
http://linked.open...riv/jazykVysledku
http://linked.open...vai/riv/kategorie
http://linked.open.../riv/klicovaSlova
  • Al, effusion cell, ultrathin layers, UHV, deposition (en)
http://linked.open.../riv/klicoveSlovo
http://linked.open...ontrolniKodProRIV
  • [53BA5863AD38]
http://linked.open.../licencniPoplatek
http://linked.open...in/vavai/riv/obor
http://linked.open...ichTvurcuVysledku
http://linked.open...cetTvurcuVysledku
http://linked.open...vavai/riv/projekt
http://linked.open...UplatneniVysledku
http://linked.open...echnickeParametry
  • Zařízení je určeno k depozici Al ultratenkých vrstev v podmínkách vysokého vakua od p>1x10-5 Pa. Ohřev depozitu je až do teplot 1200 C. Tělo zdroje je vyhotoveno s F.O.Cu. a účinně chlazeno vodou. Depozit je umístěn v PBN zásobníku, kde ústízásobníkuje aktivně chlazeno. Teplota zdroje i deponovaného materiálu je měřena pomocí termočlánku. Celé zařízení je umístěno na přírubě DN40.
http://linked.open...iv/tvurceVysledku
  • Mach, Jindřich
http://linked.open...avai/riv/vlastnik
http://linked.open...itiJinymSubjektem
http://localhost/t...ganizacniJednotka
  • 26620
Faceted Search & Find service v1.16.116 as of Feb 22 2024


Alternative Linked Data Documents: ODE     Content Formats:   [cxml] [csv]     RDF   [text] [turtle] [ld+json] [rdf+json] [rdf+xml]     ODATA   [atom+xml] [odata+json]     Microdata   [microdata+json] [html]    About   
This material is Open Knowledge   W3C Semantic Web Technology [RDF Data] Valid XHTML + RDFa
OpenLink Virtuoso version 07.20.3239 as of Feb 22 2024, on Linux (x86_64-pc-linux-gnu), Single-Server Edition (126 GB total memory, 67 GB memory in use)
Data on this page belongs to its respective rights holders.
Virtuoso Faceted Browser Copyright © 2009-2024 OpenLink Software