About: Pulsed Magnetron Sputtering to Deposition of Diamond-Like Carbon Films with Low Internal Stresses

Facets (new session)
Description
Metadata
Settings
- owl:sameAs
- Inference Rule:

About: Pulsed Magnetron Sputtering to Deposition of Diamond-Like Carbon Films with Low Internal Stresses Goto Sponge NotDistinct Permalink

An Entity of Type : http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/Projekt, within Data Space : linked.opendata.cz associated with source document(s)

Attributes	Values
rdf:type	http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/Projekt
rdfs:seeAlso	http://www.isvav.cz/projectDetail.do?rowId=GA202/02/0216
Description	Pulsed Magnetron Sputtering to Deposition of Diamond-Like Carbon Films with Low Internal Stresses The high density plasma accelerates process of film synthesis and condensation due to enhanced concentration of high energetic reaction-able particles and ions within plasma. However, the overheating of cathode and substrate is an adverse consequence of it. To avoid this complication the technology evolution tends to use of the pulse instead of continuous mode of glow discharges. Pulsed magnetron sputtering is more controllable and universal process than arc evaporation and more productive than laser evaporation, which can also use pulse plasma. Regimes with extra-high pulse power or high pulse-current amplitude to average-current ratio are feasible during a magnetron discharge. The current commercial sputtering plant Leybold will be provided with pulse-modulator and stronger DC power supply to reach the pulse-current amplitude up to 30 A. Study of magnetron discharge characteristics (time (en) Pulzní magnetronové naprašování pro depozici diamantu podobných uhlíkových (DLC) vrstev s nízkým vnitřním pnutím. Vysoká hustota plazmatu urychluje syntézu a kondenzaci vrstvy díky zvýšené koncentraci vysokoenergetických reaktivních částic a iontů v plazmatu. Nežádoucím důsledkem toho bývá přehřívání katody a substrátu. Vývoj technologie směřuje k používání pulsního modu místo nepřerušovaného doutnavého výboje, aby se zamezilo uvedené komplikaci. Pulzní magnetronové naprašování je univerzálnější alépe řiditelný proces než odpařování obloukem a je produktivnější než odpařování laserem. Obě metody mohou též používat pulzní plazma. Při magnetronovém výboji je uskutečnitelný jak režim s extrémě vysokým výkonem, tak i režim s vysokou pulzní amplitudouproudu v poměru k jeho střední hodnotě. Stávající komerční naprašovací zařízení Leybold bude dovybaveno pulzním modulátorem a silnějším stejnosměrným zdrojem, aby bylo možno dosáhnout pulzní amplitudy proudu až 30 A. Studium charakteristik magnetronového
Title	Pulsed Magnetron Sputtering to Deposition of Diamond-Like Carbon Films with Low Internal Stresses (en) Pulzní magnetronové naprašování pro depozici diamantu podobných uhlíkových vrstev s nízkým vnitřním pnutím
skos:notation	GA202/02/0216
http://linked.open...avai/cep/aktivita	Standard projects
http://linked.open...kovaStatniPodpora	http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/projekt/GA202%2F02%2F0216/celkovaStatniPodpora
http://linked.open...ep/celkoveNaklady	http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/projekt/GA202%2F02%2F0216/celkoveNaklady
http://linked.open...datumDodatniDoRIV	2008-06-02 (xsd:date)
http://linked.open...i/cep/druhSouteze	VS - Veřejná soutěž ve výzkumu a vývoji
http://linked.open...ep/duvernostUdaju	S - Úplné a pravdivé údaje nepodléhající ochraně podle zvláštních právních předpisů
http://linked.open.../cep/fazeProjektu	1564428
http://linked.open...ai/cep/hlavniObor	BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech
http://linked.open...hodnoceniProjektu	V - Vynikající výsledky (s mezinárodním významem apod.). Zároveň byly splněny cíle a předpokládané výsledky uvedené ve smlouvě / rozhodnutí o poskytnutí podpory.
http://linked.open...vai/cep/kategorie	ZV - Základní výzkum
http://linked.open.../cep/klicovaSlova	Neuvedeno. (en)
http://linked.open...ep/partnetrHlavni	Fyzikální ústav AV ČR, v.v.i.
http://linked.open...inujicichPrijemcu	0 (xsd:int)
http://linked.open...cep/pocetPrijemcu	1 (xsd:int)
http://linked.open...ocetSpoluPrijemcu	1 (xsd:int)
http://linked.open.../pocetVysledkuRIV	5 (xsd:int)
http://linked.open...enychVysledkuVRIV	5 (xsd:int)
http://linked.open...okUkonceniPodpory	2004
http://linked.open...okZahajeniPodpory	2002
http://linked.open...iciPoslednihoRoku	2005
http://linked.open...atUdajeProjZameru	2005
http://linked.open.../vavai/cep/soutez	SGA02002GA-ST
http://linked.open...usZobrazovaneFaze	DUU
http://linked.open...ai/cep/typPojektu	P - Projekt výzkumu a vývoje financovaný ze státního rozpočtu
http://linked.open...jektu+dodavatelem	V rámci projektu byl mezi stávající kontinuální DC zdroj a magnetron vakuové naprašovačky Leybold Z 550M vřazen pulzní modulátor sestávající z generátoru pulzů a elektrického obvodu s kapacitním kumulátorem energie a IGBT tranzistorem. V průběhu řešení b (cs) In frame of the project, the pulse modulator consisting of a pulse generator and a circuit based on capacitor energy storage and switch IGBT transistor has been incorporated between existing continuous DC power source and magnetron of the vacuum plant Le (en)
http://linked.open...tniCyklusProjektu	ZBKU
is http://linked.open...vavai/riv/projekt of	Composition of Ti-C:H films obtained by pulsed and continuous magnetron sputtering Měřící systém NanoTest™ 600 a jeho možnosti Měření nanotvrdosti tenkých uhlíkových vrstev na zařízení NT600 Oxidation of graphite-like carbon films with different microhardness and density. Thermal stability of microhardness and internal stress of hard a-C films with predominantly sp 2 bonds.
is http://linked.open...vavai/cep/projekt of	http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/ucast/GA202%2F02%2F0216/2002/ico%3A68378271 http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/ucast/GA202%2F02%2F0216/2002/orjk%3A23520 http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/ucast/GA202%2F02%2F0216/2003/ico%3A68378271 http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/ucast/GA202%2F02%2F0216/2003/orjk%3A23520 http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/ucast/GA202%2F02%2F0216/2004/ico%3A68378271 http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/ucast/GA202%2F02%2F0216/2004/orjk%3A23520 http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/ucast/GA202%2F02%2F0216/2005/ico%3A68378271 http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/ucast/GA202%2F02%2F0216/2005/orjk%3A23520 http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/ucast/GA202%2F02%2F0216/2007/ico%3A68378271 http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/ucast/GA202%2F02%2F0216/2007/orjk%3A23520

Faceted Search & Find service v1.16.118 as of Jun 21 2024

Alternative Linked Data Documents: ODE Content Formats:

RDF

ODATA

Microdata

About

OpenLink Virtuoso version 07.20.3240 as of Jun 21 2024, on Linux (x86_64-pc-linux-gnu), Single-Server Edition (126 GB total memory, 58 GB memory in use)
Data on this page belongs to its respective rights holders.
Virtuoso Faceted Browser Copyright © 2009-2024 OpenLink Software