Attributes | Values |
---|
rdf:type
| |
Description
| - Řada moderních technických odvětví stále intenzivněji využívá struktury tvořené velice tenkými vrstvami nanesenými na podložku. Nachází uplatnění především při výrobě mikroprocesorů, fotovoltaických článků novější generace nebo speciální rentgenové optiky. Metoda XRR je nesmírně důležitým diagnostickým nástrojem, který umožňuje měřit celou řadu vlastností těchto struktur, a proto roste zájem o velice rychlá měřící zařízení. Navržené měřící zařízení vyniká vysokou rychlostí měření při zachování přesnosti. Toho je dosaženo využitím paralelní kinematiky a paralelním snímáním polohy vzorku v šesti stupních volnosti. (cs)
- Many modern technologies are based on using thin film structures that consist of very thin layers deposited on substrate. These are being used in semiconductor industry, especially microprocessor manufacturing, solar energy or X-ray optics. XRR method is very important and powerful method useful for characterization or such structures. It allows us to measure many important parameters of thin films and so fast measurement tools are required by customers. Our measurement tool has excellent throughput while measurement precision stays comparable with conventional tools. This is achieved by using parallel kinematics and parallel measurement of sample position in all six degrees of freedom.
- Many modern technologies are based on using thin film structures that consist of very thin layers deposited on substrate. These are being used in semiconductor industry, especially microprocessor manufacturing, solar energy or X-ray optics. XRR method is very important and powerful method useful for characterization or such structures. It allows us to measure many important parameters of thin films and so fast measurement tools are required by customers. Our measurement tool has excellent throughput while measurement precision stays comparable with conventional tools. This is achieved by using parallel kinematics and parallel measurement of sample position in all six degrees of freedom. (en)
|
Title
| - Measurement platform for X-ray reflectivity XRR
- Measurement platform for X-ray reflectivity XRR (en)
- Meřící platforma pro rentgenovou reflektometrii XRR (cs)
|
skos:prefLabel
| - Measurement platform for X-ray reflectivity XRR
- Measurement platform for X-ray reflectivity XRR (en)
- Meřící platforma pro rentgenovou reflektometrii XRR (cs)
|
skos:notation
| - RIV/68407700:21220/08:02143905!RIV09-MSM-21220___
|
http://linked.open...avai/riv/aktivita
| |
http://linked.open...avai/riv/aktivity
| |
http://linked.open...vai/riv/dodaniDat
| |
http://linked.open...aciTvurceVysledku
| |
http://linked.open.../riv/druhVysledku
| |
http://linked.open...iv/duvernostUdaju
| |
http://linked.open...onomickeParametry
| |
http://linked.open...titaPredkladatele
| |
http://linked.open...dnocenehoVysledku
| |
http://linked.open...ai/riv/idVysledku
| - RIV/68407700:21220/08:02143905
|
http://linked.open...terniIdentifikace
| |
http://linked.open...riv/jazykVysledku
| |
http://linked.open...vai/riv/kategorie
| |
http://linked.open.../riv/klicovaSlova
| - X-ray optics; parallel kinematics; thin film structures (en)
|
http://linked.open.../riv/klicoveSlovo
| |
http://linked.open...ontrolniKodProRIV
| |
http://linked.open.../licencniPoplatek
| |
http://linked.open...okalizaceVysledku
| |
http://linked.open...in/vavai/riv/obor
| |
http://linked.open...ichTvurcuVysledku
| |
http://linked.open...cetTvurcuVysledku
| |
http://linked.open...UplatneniVysledku
| |
http://linked.open...echnickeParametry
| |
http://linked.open...iv/tvurceVysledku
| - Čáp, Jiří
- Maršík, Jiří
- Bowen, K.
- Wall, J.
|
http://linked.open...avai/riv/vlastnik
| |
http://linked.open...itiJinymSubjektem
| |
http://localhost/t...ganizacniJednotka
| |
is http://linked.open...avai/riv/vysledek
of | |