Attributes | Values |
---|
rdf:type
| |
Description
| - In this work, a systematic investigation of reactive magnetron sputtering of hard quaternary Si-B-C-N materials has been carried out. The Si-B-C-N films were deposited on Si and SiC substrates by dc magnetron co sputtering using a single C-Si-B or B4C-Si target in nitrogen-argon gas mixtures. Elemental compositions of the films, their bonding structure, nanostructure, and mechanical, tribological and optical properties, together with their oxidation resistance in air, were controlled by the Si fraction in the magnetron target erosion area, the Ar fraction in the gas mixture, the rf induced negative substrate bias voltage and the substrate temperature. The energy and flux of ions bombarding the growing films were determined on the basis of the measured discharge characteristics.
- In this work, a systematic investigation of reactive magnetron sputtering of hard quaternary Si-B-C-N materials has been carried out. The Si-B-C-N films were deposited on Si and SiC substrates by dc magnetron co sputtering using a single C-Si-B or B4C-Si target in nitrogen-argon gas mixtures. Elemental compositions of the films, their bonding structure, nanostructure, and mechanical, tribological and optical properties, together with their oxidation resistance in air, were controlled by the Si fraction in the magnetron target erosion area, the Ar fraction in the gas mixture, the rf induced negative substrate bias voltage and the substrate temperature. The energy and flux of ions bombarding the growing films were determined on the basis of the measured discharge characteristics. (en)
- Byl proveden systematický výzkum reaktivního magnetronového naprašování tvrdých kvaternárních Si-B-C-N materiálů. Si-B-C-N vrstvy byly deponovány na Si a SiC substráty rozprašováním C-Si-B nebo B4C-Si terče ve směsi dusíku a argonu. Prvkové složení vrstev, jejich vazebná struktura, nanostruktura, mechanické, tribologické a optické vlastnosti společně s oxidační odolností byly kontrolovány obsahem Si v erozní zóně terče, obsahem Ar ve výbojové směsi, záporným radiofrekvenčně indukovaným předpětím na substrátu a teplotou substrátu. Energie a tok iontů dopadajících na rostoucí vrstvy byly určeny z měřených výbojových charakteristik. Hmotnostní spektroskopie byla použita pro zjištění sl (cs)
|
Title
| - Novel quaternary Si-B-C-N films prepared by reactive magnetron sputtering
- Nové kvaternární Si-B-C-N vrstvy připravené reaktivním magnetronovým naprašováním (cs)
- Novel quaternary Si-B-C-N films prepared by reactive magnetron sputtering (en)
|
skos:prefLabel
| - Novel quaternary Si-B-C-N films prepared by reactive magnetron sputtering
- Nové kvaternární Si-B-C-N vrstvy připravené reaktivním magnetronovým naprašováním (cs)
- Novel quaternary Si-B-C-N films prepared by reactive magnetron sputtering (en)
|
skos:notation
| - RIV/49777513:23520/07:00000023!RIV08-MSM-23520___
|
http://linked.open.../vavai/riv/strany
| |
http://linked.open...avai/riv/aktivita
| |
http://linked.open...avai/riv/aktivity
| |
http://linked.open...vai/riv/dodaniDat
| |
http://linked.open...aciTvurceVysledku
| |
http://linked.open.../riv/druhVysledku
| |
http://linked.open...iv/duvernostUdaju
| |
http://linked.open...titaPredkladatele
| |
http://linked.open...dnocenehoVysledku
| |
http://linked.open...ai/riv/idVysledku
| - RIV/49777513:23520/07:00000023
|
http://linked.open...riv/jazykVysledku
| |
http://linked.open.../riv/klicovaSlova
| - Si-B-C-N films; magnetron sputtering; hardness; amorphous nanostructure; oxidation resistance (en)
|
http://linked.open.../riv/klicoveSlovo
| |
http://linked.open...ontrolniKodProRIV
| |
http://linked.open...v/mistoKonaniAkce
| |
http://linked.open...i/riv/mistoVydani
| |
http://linked.open...i/riv/nazevZdroje
| - 18th International Symposium on Plasma Chemistry
|
http://linked.open...in/vavai/riv/obor
| |
http://linked.open...ichTvurcuVysledku
| |
http://linked.open...cetTvurcuVysledku
| |
http://linked.open...UplatneniVysledku
| |
http://linked.open...iv/tvurceVysledku
| - Houška, Jiří
- Zeman, Petr
- Vlček, Jaroslav
- Peřina, Vratislav
- Potocký, Štěpán
- Čapek, Jiří
- Hřeben, Stanislav
- Kalaš, Jiří
|
http://linked.open...vavai/riv/typAkce
| |
http://linked.open.../riv/zahajeniAkce
| |
http://linked.open...n/vavai/riv/zamer
| |
number of pages
| |
http://purl.org/ne...btex#hasPublisher
| - International Plasma Chemistry Society
|
https://schema.org/isbn
| |
http://localhost/t...ganizacniJednotka
| |
is http://linked.open...avai/riv/vysledek
of | |