This HTML5 document contains 50 embedded RDF statements represented using HTML+Microdata notation.

The embedded RDF content will be recognized by any processor of HTML5 Microdata.

Namespace Prefixes

Prefix	IRI
dcterms	http://purl.org/dc/terms/
n19	http://localhost/temp/predkladatel/
n20	http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/projekt/
n10	http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/riv/tvurce/
n18	http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/podDruhVysledku/
n16	http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/
n21	http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/zamer/
skos	http://www.w3.org/2004/02/skos/core#
n3	http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/
n17	http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/licencniPoplatek/
n6	http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/vysledek/RIV%2F68407700%3A21340%2F07%3A04153537%21RIV09-MPO-21340___/
n2	http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/vysledek/
rdf	http://www.w3.org/1999/02/22-rdf-syntax-ns#
n13	http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/kategorie/
n15	http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/vyuzitiJinymSubjektem/
n8	http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/klicoveSlovo/
n12	http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/duvernostUdaju/
xsdh	http://www.w3.org/2001/XMLSchema#
n11	http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/aktivita/
n7	http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/jazykVysledku/
n14	http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/obor/
n9	http://reference.data.gov.uk/id/gregorian-year/

Statements

Subject Item

n2:RIV%2F68407700%3A21340%2F07%3A04153537%21RIV09-MPO-21340___

rdf:type

skos:Concept n16:Vysledek

dcterms:description

Zařízení pro vytváření Ni kopií reliéfních dielektrických a kovových mikrostruktur pro optické aplikace. Zařízení pro vytváření Ni kopií reliéfních dielektrických a kovových mikrostruktur pro optické aplikace. A device for preparation of Ni copies via electroforming of surface relief dielectric and metallic microstructures for optical applications.

dcterms:title

Device for high-resolution electroplate relief copying Zařízení pro galvanické kopírování reliéfů s vysokým rozlišením Zařízení pro galvanické kopírování reliéfů s vysokým rozlišením

skos:prefLabel

Zařízení pro galvanické kopírování reliéfů s vysokým rozlišením Zařízení pro galvanické kopírování reliéfů s vysokým rozlišením Device for high-resolution electroplate relief copying

skos:notation

RIV/68407700:21340/07:04153537!RIV09-MPO-21340___

n3:aktivita

n11:Z n11:P

n3:aktivity

P(1H-PK/02), Z(MSM6840770022)

n3:dodaniDat

n9:2009

n3:domaciTvurceVysledku

n10:8450757 n10:4965841 n10:8789088

n3:druhVysledku

n18:G%2FB

n3:duvernostUdaju

n12:S

n3:ekonomickeParametry

-

n3:entitaPredkladatele

n6:predkladatel

n3:idSjednocenehoVysledku

461937

n3:idVysledku

RIV/68407700:21340/07:04153537

n3:interniIdentifikace

Galvanické zařízení

n3:jazykVysledku

n7:cze

n3:kategorie

n13:A

n3:klicovaSlova

Electroplating, electroforming, surface relief, high resolution, electrolyth

n3:klicoveSlovo

n8:electrolyth n8:electroforming n8:Electroplating n8:surface%20relief n8:high%20resolution

n3:kontrolniKodProRIV

[54A361F021F8]

n3:licencniPoplatek

n17:A

n3:lokalizaceVysledku

KFE FJFI, areál Troja, V Holešovičkách 2

n3:obor

n14:BH

n3:pocetDomacichTvurcuVysledku

3

n3:pocetTvurcuVysledku

3

n3:projekt

n20:1H-PK%2F02

n3:rokUplatneniVysledku

n9:2007

n3:technickeParametry

Rozměry víceméně rovinných prvků až 350x300 um, přesnost kopírování mikrorelifu v oblasti nm, tloušťka kopie 5-500 um, vysoká tvrdost kopie.

n3:tvurceVysledku

Květoň, Milan Škereň, Marek Fiala, Pavel

n3:vlastnik

n6:vlastnikVysledku

n3:vyuzitiJinymSubjektem

n15:A

n3:zamer

n21:MSM6840770022

n19:organizacniJednotka

21340