This HTML5 document contains 46 embedded RDF statements represented using HTML+Microdata notation.

The embedded RDF content will be recognized by any processor of HTML5 Microdata.

Namespace Prefixes

PrefixIRI
dctermshttp://purl.org/dc/terms/
n13http://localhost/temp/predkladatel/
n16http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/riv/tvurce/
n15http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/projekt/
n9http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/
n18http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/zamer/
shttp://schema.org/
skoshttp://www.w3.org/2004/02/skos/core#
n3http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/
n17http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/vysledek/RIV%2F68407700%3A21230%2F09%3A00159930%21RIV10-MSM-21230___/
n2http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/vysledek/
rdfhttp://www.w3.org/1999/02/22-rdf-syntax-ns#
n7http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/klicoveSlovo/
n14http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/duvernostUdaju/
xsdhhttp://www.w3.org/2001/XMLSchema#
n11http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/aktivita/
n6http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/jazykVysledku/
n19http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/obor/
n12http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/druhVysledku/
n10http://reference.data.gov.uk/id/gregorian-year/

Statements

Subject Item
n2:RIV%2F68407700%3A21230%2F09%3A00159930%21RIV10-MSM-21230___
rdf:type
skos:Concept n9:Vysledek
dcterms:description
V současné době se kladou stále větší nároky na elektroniku pro přístrojové a řídící systémy, kdy jedním z požadavků je také provozuschopnost při vyšších teplotách. Elektronické prvky schopné pracovat při teplotách vyšších než 200 °C jsou potřeba zejména v průmyslových aplikacích, např. v řízení a diagnostice turbínových generátorů v elektrárnách. Technologie SOI (Silicon-on-Insulator) je vhodná pro realizaci elektronických prvků a senzorů nejen pro vysokoteplotní, ale i RF (Radio Frequency) aplikace. Tento článek představuje proces výroby a charakterizace piezorezistivních senzorů deformace (tenzometrů) v SOI technologii pro průmyslové aplikace. V současné době se kladou stále větší nároky na elektroniku pro přístrojové a řídící systémy, kdy jedním z požadavků je také provozuschopnost při vyšších teplotách. Elektronické prvky schopné pracovat při teplotách vyšších než 200 °C jsou potřeba zejména v průmyslových aplikacích, např. v řízení a diagnostice turbínových generátorů v elektrárnách. Technologie SOI (Silicon-on-Insulator) je vhodná pro realizaci elektronických prvků a senzorů nejen pro vysokoteplotní, ale i RF (Radio Frequency) aplikace. Tento článek představuje proces výroby a charakterizace piezorezistivních senzorů deformace (tenzometrů) v SOI technologii pro průmyslové aplikace. V současné době se kladou stále větší nároky na elektroniku pro přístrojové a řídící systémy, kdy jedním z požadavků je také provozuschopnost při vyšších teplotách. Elektronické prvky schopné pracovat při teplotách vyšších než 200 °C jsou potřeba zejména v průmyslových aplikacích, např. v řízení a diagnostice turbínových generátorů v elektrárnách. Technologie SOI (Silicon-on-Insulator) je vhodná pro realizaci elektronických prvků a senzorů nejen pro vysokoteplotní, ale i RF (Radio Frequency) aplikace. Tento článek představuje proces výroby a charakterizace piezorezistivních senzorů deformace (tenzometrů) v SOI technologii pro průmyslové aplikace.
dcterms:title
Výroba SOI tenzometrů pro vysokoteplotní aplikace Výroba SOI tenzometrů pro vysokoteplotní aplikace Fabrication of SOI Strain-gauges for High-Temperature Applications
skos:prefLabel
Výroba SOI tenzometrů pro vysokoteplotní aplikace Výroba SOI tenzometrů pro vysokoteplotní aplikace Fabrication of SOI Strain-gauges for High-Temperature Applications
skos:notation
RIV/68407700:21230/09:00159930!RIV10-MSM-21230___
n3:aktivita
n11:P n11:Z
n3:aktivity
P(GA102/09/1601), Z(MSM6840770015)
n3:cisloPeriodika
3
n3:dodaniDat
n10:2010
n3:domaciTvurceVysledku
n16:2843005 n16:8536112 n16:8532214
n3:druhVysledku
n12:J
n3:duvernostUdaju
n14:S
n3:entitaPredkladatele
n17:predkladatel
n3:idSjednocenehoVysledku
350388
n3:idVysledku
RIV/68407700:21230/09:00159930
n3:jazykVysledku
n6:cze
n3:klicovaSlova
SOI technology; deformation sensors; strain-gauges
n3:klicoveSlovo
n7:deformation%20sensors n7:strain-gauges n7:SOI%20technology
n3:kodStatuVydavatele
CZ - Česká republika
n3:kontrolniKodProRIV
[EBD7AC1DE535]
n3:nazevZdroje
Slaboproudý obzor
n3:obor
n19:JB
n3:pocetDomacichTvurcuVysledku
3
n3:pocetTvurcuVysledku
6
n3:projekt
n15:GA102%2F09%2F1601
n3:rokUplatneniVysledku
n10:2009
n3:svazekPeriodika
65
n3:tvurceVysledku
Kulha, Pavel Husák, Miroslav Bouřa, Adam
n3:zamer
n18:MSM6840770015
s:issn
0037-668X
s:numberOfPages
3
n13:organizacniJednotka
21230