This HTML5 document contains 48 embedded RDF statements represented using HTML+Microdata notation.

The embedded RDF content will be recognized by any processor of HTML5 Microdata.

Namespace Prefixes

PrefixIRI
dctermshttp://purl.org/dc/terms/
n12http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/riv/tvurce/
n7http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/projekt/
n18http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/
n10http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/podDruhVysledku/
skoshttp://www.w3.org/2004/02/skos/core#
n3http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/
n8http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/licencniPoplatek/
n9http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/vysledek/RIV%2F68378271%3A_____%2F14%3A00436748%21RIV15-TA0-68378271/
n2http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/vysledek/
rdfhttp://www.w3.org/1999/02/22-rdf-syntax-ns#
n19http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/kategorie/
n15http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/vyuzitiJinymSubjektem/
n6http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/klicoveSlovo/
n5http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/duvernostUdaju/
xsdhhttp://www.w3.org/2001/XMLSchema#
n17http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/aktivita/
n14http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/jazykVysledku/
n13http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/obor/
n16http://reference.data.gov.uk/id/gregorian-year/

Statements

Subject Item
n2:RIV%2F68378271%3A_____%2F14%3A00436748%21RIV15-TA0-68378271
rdf:type
skos:Concept n18:Vysledek
dcterms:description
V rámci řešení grantu TAČR byl vyvinut otáčivý nosič substrátu pro plazmovou depozici, který je externě vytápěný do teploty 400 °C a je možné na něj aplikovat RF předpětí do hodnot amplitudy 1000 V. A rotating substrate holder was developed for plasmatic deposition system as an output of the project TACR. The substrate holder can be heated up to 400 oC and simultaneously biased by the RF voltage up to the amplitude value of 1000 V. V rámci řešení grantu TAČR byl vyvinut otáčivý nosič substrátu pro plazmovou depozici, který je externě vytápěný do teploty 400 °C a je možné na něj aplikovat RF předpětí do hodnot amplitudy 1000 V.
dcterms:title
Multifunctional substrate holder for plasma depositions of optical thin films Multifunkční držák substrátu pro plazmové depozice tenkých optických vrstev Multifunkční držák substrátu pro plazmové depozice tenkých optických vrstev
skos:prefLabel
Multifunctional substrate holder for plasma depositions of optical thin films Multifunkční držák substrátu pro plazmové depozice tenkých optických vrstev Multifunkční držák substrátu pro plazmové depozice tenkých optických vrstev
skos:notation
RIV/68378271:_____/14:00436748!RIV15-TA0-68378271
n3:aktivita
n17:P n17:I
n3:aktivity
I, P(TA01010517)
n3:dodaniDat
n16:2015
n3:domaciTvurceVysledku
n12:2296268 n12:9254927 n12:2989034
n3:druhVysledku
n10:G%2FB
n3:duvernostUdaju
n5:S
n3:ekonomickeParametry
Laboratorní zařízení nezbytné pro další aplikovaný výzkum
n3:entitaPredkladatele
n9:predkladatel
n3:idSjednocenehoVysledku
30994
n3:idVysledku
RIV/68378271:_____/14:00436748
n3:interniIdentifikace
MFSH2014
n3:jazykVysledku
n14:cze
n3:kategorie
n19:A
n3:klicovaSlova
sputtering; thin films; plasma; deposition; magnetron; reactive sputtering
n3:klicoveSlovo
n6:magnetron n6:deposition n6:sputtering n6:reactive%20sputtering n6:plasma n6:thin%20films
n3:kontrolniKodProRIV
[C83BCDACDE4B]
n3:licencniPoplatek
n8:A
n3:obor
n13:BL
n3:pocetDomacichTvurcuVysledku
3
n3:pocetTvurcuVysledku
3
n3:projekt
n7:TA01010517
n3:rokUplatneniVysledku
n16:2014
n3:technickeParametry
Rotační rychlost: 0-200 RPM; vakuová těsnost: 1x10-10 mbar l s-1; maximální dosažená teplota: 400 °C; maximální příkon vytápění: 180 W; maximální amplituda RF předpětí při frekvenci 13.56 MHz: 1000 V
n3:tvurceVysledku
Hubička, Zdeněk Čada, Martin Adámek, Petr
n3:vlastnik
n9:vlastnikVysledku
n3:vyuzitiJinymSubjektem
n15:A