This HTML5 document contains 55 embedded RDF statements represented using HTML+Microdata notation.

The embedded RDF content will be recognized by any processor of HTML5 Microdata.

Namespace Prefixes

PrefixIRI
n21http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/statVydaniPatentuVzoru/
dctermshttp://purl.org/dc/terms/
n13http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/riv/tvurce/
n9http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/projekt/
n19http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/uzemniOchranaPatentu/
n15http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/
skoshttp://www.w3.org/2004/02/skos/core#
rdfshttp://www.w3.org/2000/01/rdf-schema#
n22http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/vyuzitiPatentuVzoru/
n3http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/
n12http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/licencniPoplatek/
n2http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/vysledek/
rdfhttp://www.w3.org/1999/02/22-rdf-syntax-ns#
n20http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/vyuzitiJinymSubjektem/
n7http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/klicoveSlovo/
n8http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/vysledek/RIV%2F68378271%3A_____%2F14%3A00429387%21RIV15-TA0-68378271/
n14http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/duvernostUdaju/
xsdhhttp://www.w3.org/2001/XMLSchema#
n18http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/jazykVysledku/
n4http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/aktivita/
n17http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/obor/
n6http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/druhVysledku/
n10http://reference.data.gov.uk/id/gregorian-year/

Statements

Subject Item
n2:RIV%2F68378271%3A_____%2F14%3A00429387%21RIV15-TA0-68378271
rdf:type
skos:Concept n15:Vysledek
rdfs:seeAlso
http://isdv.upv.cz/portal/pls/portal/portlets.pts.det?xprim=1760204&lan=cs
dcterms:description
Způsob měření iontové distribuční funkce v nízkoteplotním plazmatu diagnostikovaného plazmového objektu v měřícím systému aplikovaném na plazmochemický reaktor, který je vybaven napájecím zdrojem napojeným na výbojovou elektrodu a referenční elektrodu. Podstata vynálezu spočívá v tom, že po primárním nastavení parametrů měřicího systému pomocí proudových hodnot zdroje referenčního napětí je na sběrné elektrodě snímána volt-ampérová charakteristika iontové složky proudu vzniklého napájením výbojů a procházejícího obvodem: plazmatický objekt – sběrná elektroda – proudový převodník - zdroj referenčního napětí – referenční elektroda, z níž je vyhodnocením v řídicí a měřicí jednotce stanovena iontová distribuční funkce plazmového zdroje. Dále je podstatou vynálezu měřící systém pro provádění tohoto způsobu a konstrukce sondy pro tento měřící systém. Způsob měření iontové distribuční funkce v nízkoteplotním plazmatu diagnostikovaného plazmového objektu v měřícím systému aplikovaném na plazmochemický reaktor, který je vybaven napájecím zdrojem napojeným na výbojovou elektrodu a referenční elektrodu. Podstata vynálezu spočívá v tom, že po primárním nastavení parametrů měřicího systému pomocí proudových hodnot zdroje referenčního napětí je na sběrné elektrodě snímána volt-ampérová charakteristika iontové složky proudu vzniklého napájením výbojů a procházejícího obvodem: plazmatický objekt – sběrná elektroda – proudový převodník - zdroj referenčního napětí – referenční elektroda, z níž je vyhodnocením v řídicí a měřicí jednotce stanovena iontová distribuční funkce plazmového zdroje. Dále je podstatou vynálezu měřící systém pro provádění tohoto způsobu a konstrukce sondy pro tento měřící systém. A method for measuring the ion distribution function in a low temperature plasma diagnosed plasma object in the measuring system applied to the plasma chemical reactor, which is equipped with a power source connected to the discharge electrode and a reference electrode. Summary of the invention consists in the fact that after the primary parameters measuring system using current values of the reference voltage source is sensed on the collecting electrode volt -ampere characteristics of the ion current component generated power and discharges through the circuits: plasma object - a collecting electrode - current converter - voltage reference - the reference electrode from which the evaluation of the control and measuring unit fixed ion distribution function of the plasma source. Furthermore, the present invention provides a measuring system for implementing the method and structure of the probe for this measurement system.
dcterms:title
Způsob měření iontové distribuční funkce v nízkoteplotním plazmatu, měřicí systém pro provádění tohoto způsobu a sonda pro měřicí systém Způsob měření iontové distribuční funkce v nízkoteplotním plazmatu, měřicí systém pro provádění tohoto způsobu a sonda pro měřicí systém A method for measuring the ion distribution function in a low temperature plasma, a measuring system for implementing the method and the probe for measuring system
skos:prefLabel
Způsob měření iontové distribuční funkce v nízkoteplotním plazmatu, měřicí systém pro provádění tohoto způsobu a sonda pro měřicí systém Způsob měření iontové distribuční funkce v nízkoteplotním plazmatu, měřicí systém pro provádění tohoto způsobu a sonda pro měřicí systém A method for measuring the ion distribution function in a low temperature plasma, a measuring system for implementing the method and the probe for measuring system
skos:notation
RIV/68378271:_____/14:00429387!RIV15-TA0-68378271
n3:aktivita
n4:I n4:P
n3:aktivity
I, P(TA01010517)
n3:cisloPatentuVzoru
304493
n3:datumUdeleniPatentuVzoru
2014-04-16+02:00
n3:dodaniDat
n10:2015
n3:domaciTvurceVysledku
n13:2989034 n13:9254927 n13:2296268 n13:5193222
n3:druhVysledku
n6:P
n3:duvernostUdaju
n14:S
n3:entitaPredkladatele
n8:predkladatel
n3:idSjednocenehoVysledku
57859
n3:idVysledku
RIV/68378271:_____/14:00429387
n3:jazykVysledku
n18:cze
n3:klicovaSlova
Katsumata probe; ion flux; ion energy distribution function; magnetic field
n3:klicoveSlovo
n7:Katsumata%20probe n7:ion%20energy%20distribution%20function n7:ion%20flux n7:magnetic%20field
n3:kontrolniKodProRIV
[6F2067E653ED]
n3:licencniPoplatek
n12:A
n3:mistoVydaniPatentuVzoru
Prague
n3:nazevVydavatelePatentuVzoru
Úřad průmyslového vlastnictví
n3:obor
n17:BH
n3:pocetDomacichTvurcuVysledku
4
n3:pocetTvurcuVysledku
6
n3:projekt
n9:TA01010517
n3:rokUplatneniVysledku
n10:2014
n3:statVydaniPatentuVzoru
n21:CZ
n3:tvurceVysledku
Hubička, Zdeněk Čada, Martin Adámek, Jiří Stöckel, Jan Adámek, Petr Jastrabík, Lubomír
n3:uzemniOchranaPatentu
n19:E
n3:vlastnik
n8:vlastnikVysledku
n3:vyuzitiJinymSubjektem
n20:A
n3:vyuzitiPatentuVzoru
n22:A
n3:vlastnikPatentuVzoru
Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i - Ústav fyziky plazmatu AV ČR, v. v. i