This HTML5 document contains 50 embedded RDF statements represented using HTML+Microdata notation.

The embedded RDF content will be recognized by any processor of HTML5 Microdata.

Namespace Prefixes

PrefixIRI
n9http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/statVydaniPatentuVzoru/
dctermshttp://purl.org/dc/terms/
n16http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/projekt/
n11http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/riv/tvurce/
n20http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/subjekt/
n17http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/uzemniOchranaPatentu/
n5http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/vysledek/RIV%2F68378271%3A_____%2F13%3A00398623%21RIV14-MSM-68378271/
n13http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/
n4http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/podDruhVysledku/
n7http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/vyuzitiPatentuVzoru/
skoshttp://www.w3.org/2004/02/skos/core#
rdfshttp://www.w3.org/2000/01/rdf-schema#
n3http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/
n15http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/licencniPoplatek/
n2http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/vysledek/
rdfhttp://www.w3.org/1999/02/22-rdf-syntax-ns#
n18http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/vyuzitiJinymSubjektem/
n10http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/klicoveSlovo/
n21http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/duvernostUdaju/
xsdhhttp://www.w3.org/2001/XMLSchema#
n23http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/jazykVysledku/
n14http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/aktivita/
n22http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/obor/
n19http://reference.data.gov.uk/id/gregorian-year/

Statements

Subject Item
n2:RIV%2F68378271%3A_____%2F13%3A00398623%21RIV14-MSM-68378271
rdf:type
skos:Concept n13:Vysledek
rdfs:seeAlso
http://spisy.upv.cz/UtilityModels/FullDocuments/FDUM0025/uv025959.pdf
dcterms:description
Technické řešení spadá do oblasti využití nízkoteplotního atmosférického zdroje plazmatu s laditelnou koncentrací ionizovaných částic pro řadu procedur ve zdravotnictví, kdy je aplikací nízkoteplotního atmosférického plazmatu dosaženo efektu hojení. Atmosférický plazmový systém vytvářející spolehlivý atmosférický zdroj plazmatu s možnosti nastavení přesných parametrů plazmatu, je vhodný především k úpravě povrchů živé tkáně pro různé medicínské aplikace jako je desinfekce, hojení ran, úprava rakovinných buněk, dermatologie a stomatologie, přičemž nehrozí nebezpečí poškození tkáně z důvodu možné interakce vysokého elektrického střídavého napětí. The developed system is mainly focused on the generation of the low temperature plasma for use in modern medicine. This system can be used for disinfection, wound healing, treatment of cancer cells, dermatology and dentistry. The main advantage f the system is high level safety and portable size. Technické řešení spadá do oblasti využití nízkoteplotního atmosférického zdroje plazmatu s laditelnou koncentrací ionizovaných částic pro řadu procedur ve zdravotnictví, kdy je aplikací nízkoteplotního atmosférického plazmatu dosaženo efektu hojení. Atmosférický plazmový systém vytvářející spolehlivý atmosférický zdroj plazmatu s možnosti nastavení přesných parametrů plazmatu, je vhodný především k úpravě povrchů živé tkáně pro různé medicínské aplikace jako je desinfekce, hojení ran, úprava rakovinných buněk, dermatologie a stomatologie, přičemž nehrozí nebezpečí poškození tkáně z důvodu možné interakce vysokého elektrického střídavého napětí.
dcterms:title
Atmosférický zdroj plazmatu, zejména pro využití v medicínských bioaplikacích Atmospheric plasma source for biomedical applications Atmosférický zdroj plazmatu, zejména pro využití v medicínských bioaplikacích
skos:prefLabel
Atmosférický zdroj plazmatu, zejména pro využití v medicínských bioaplikacích Atmospheric plasma source for biomedical applications Atmosférický zdroj plazmatu, zejména pro využití v medicínských bioaplikacích
skos:notation
RIV/68378271:_____/13:00398623!RIV14-MSM-68378271
n13:predkladatel
n20:ico%3A68378271
n3:aktivita
n14:I n14:P
n3:aktivity
I, P(LM2011029)
n3:cisloPatentuVzoru
25959
n3:datumUdeleniPatentuVzoru
2013-10-14+02:00
n3:dodaniDat
n19:2014
n3:domaciTvurceVysledku
n11:6219144 n11:2249243 Dejneka, Alexandr
n3:druhVysledku
n4:F%2FU
n3:duvernostUdaju
n21:S
n3:entitaPredkladatele
n5:predkladatel
n3:idSjednocenehoVysledku
62437
n3:idVysledku
RIV/68378271:_____/13:00398623
n3:jazykVysledku
n23:cze
n3:klicovaSlova
Nízkoteplotní atmosférická plazma
n3:klicoveSlovo
n10:N%C3%ADzkoteplotn%C3%AD%20atmosf%C3%A9rick%C3%A1%20plazma
n3:kontrolniKodProRIV
[0F16547B8C18]
n3:licencniPoplatek
n15:N
n3:mistoVydaniPatentuVzoru
Prague
n3:nazevVydavatelePatentuVzoru
Úřad průmyslového vlastnictví
n3:obor
n22:BO
n3:pocetDomacichTvurcuVysledku
3
n3:pocetTvurcuVysledku
5
n3:projekt
n16:LM2011029
n3:rokUplatneniVysledku
n19:2013
n3:statVydaniPatentuVzoru
n9:CZ
n3:tvurceVysledku
Zablotskyy, Vitaliy A. Syková, Eva Dejneka, Alexandr Kubinová, Šárka Churpita, Olexandr
n3:uzemniOchranaPatentu
n17:E
n3:vlastnik
n5:vlastnikVysledku
n3:vyuzitiJinymSubjektem
n18:P
n3:vyuzitiPatentuVzoru
n7:A