This HTML5 document contains 56 embedded RDF statements represented using HTML+Microdata notation.

The embedded RDF content will be recognized by any processor of HTML5 Microdata.

Namespace Prefixes

PrefixIRI
dctermshttp://purl.org/dc/terms/
n17http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/projekt/
n11http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/riv/tvurce/
n19http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/subjekt/
n18http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/
n21http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/podDruhVysledku/
n14http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/vysledek/RIV%2F68378271%3A_____%2F12%3A00390204%21RIV13-TA0-68378271/
n15http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/zamer/
skoshttp://www.w3.org/2004/02/skos/core#
n3http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/
n13http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/licencniPoplatek/
n2http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/vysledek/
rdfhttp://www.w3.org/1999/02/22-rdf-syntax-ns#
n4http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/kategorie/
n16http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/vyuzitiJinymSubjektem/
n12http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/klicoveSlovo/
n7http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/duvernostUdaju/
xsdhhttp://www.w3.org/2001/XMLSchema#
n20http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/jazykVysledku/
n10http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/aktivita/
n6http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/obor/
n8http://reference.data.gov.uk/id/gregorian-year/

Statements

Subject Item
n2:RIV%2F68378271%3A_____%2F12%3A00390204%21RIV13-TA0-68378271
rdf:type
n18:Vysledek skos:Concept
dcterms:description
Linear diagnostic system of the plasma deposition process for large scale depositions was developed. This system is capable to measure spatial distribution of heating flux, ion flux and deposition rate. Byl realizován lineární měřící systém depozičního plazmového procesu pro velkoplošné procesy. Ten umožnil měřit prostorovou distribuci tepelného toku, iontového toku a depoziční rychlosti Byl realizován lineární měřící systém depozičního plazmového procesu pro velkoplošné procesy. Ten umožnil měřit prostorovou distribuci tepelného toku, iontového toku a depoziční rychlosti
dcterms:title
Lineární diagnostický systém plazmové depozice pro velkoplošné procesy Linear diagnostic system of plasma deposition for large scale processes Lineární diagnostický systém plazmové depozice pro velkoplošné procesy
skos:prefLabel
Lineární diagnostický systém plazmové depozice pro velkoplošné procesy Linear diagnostic system of plasma deposition for large scale processes Lineární diagnostický systém plazmové depozice pro velkoplošné procesy
skos:notation
RIV/68378271:_____/12:00390204!RIV13-TA0-68378271
n18:predkladatel
n19:ico%3A68378271
n3:aktivita
n10:Z n10:P
n3:aktivity
P(TA01011740), Z(AV0Z10100522)
n3:dodaniDat
n8:2013
n3:domaciTvurceVysledku
n11:4943600 n11:7455607 n11:4267281 n11:9254927 n11:9773185 n11:2296268
n3:druhVysledku
n21:G%2FB
n3:duvernostUdaju
n7:S
n3:ekonomickeParametry
V rámci projektu TAČR byl vytvořen měřící diagnostický systém pro velkoplošné depoziční techniky. Tento systém bude součástí realizovaného vícetryskového depozičního MW systému.
n3:entitaPredkladatele
n14:predkladatel
n3:idSjednocenehoVysledku
147131
n3:idVysledku
RIV/68378271:_____/12:00390204
n3:interniIdentifikace
FS3/FZÚ/2012
n3:jazykVysledku
n20:cze
n3:kategorie
n4:A
n3:klicovaSlova
heating flux; plasma; ion flux; deposition; thin films; deposition rate
n3:klicoveSlovo
n12:thin%20films n12:plasma n12:deposition%20rate n12:heating%20flux n12:ion%20flux n12:deposition
n3:kontrolniKodProRIV
[1C5B98E05F9B]
n3:licencniPoplatek
n13:A
n3:obor
n6:BL
n3:pocetDomacichTvurcuVysledku
6
n3:pocetTvurcuVysledku
6
n3:projekt
n17:TA01011740
n3:rokUplatneniVysledku
n8:2012
n3:technickeParametry
Typ termočlánku kalorimetrické sondy-K. Základní frekvence QCM senzoru 5000,00 kHz. Frekvenční rozsah pulzního napětí pro měření iontového toku 50-400 kHz. Frekvence RF zdroje harmonického napětí pro měření iontového toku 1 MHz Funkční vzorek byl vytvořen v rámci řešení projektu TAČR TA01011740. Hlavním řešitelem projektu je firma SVCS (která má smlouvu s TAČR c. 20110108) a FZU je spoluřešitelem. Mezi FZU a SVCS je podepsána Smlouva o spolupráci, upravující podmínky spolupráce při přípravě a řešení Projektu a využití výsledků výzkumu, která je nutnou součástí řešení projektu. Odpovědným řešitelem za FZÚ je Dr. Kromka. Cislo dokumentace (i pro TACR) i inventarni cislo je totozne s internim kodem: FS3/FZÚ/2012
n3:tvurceVysledku
Olejníček, Jiří Šmíd, Jiří Hubička, Zdeněk Kšírová, Petra Čada, Martin Kment, Štěpán
n3:vlastnik
n14:vlastnikVysledku
n3:vyuzitiJinymSubjektem
n16:A
n3:zamer
n15:AV0Z10100522