This HTML5 document contains 55 embedded RDF statements represented using HTML+Microdata notation.

The embedded RDF content will be recognized by any processor of HTML5 Microdata.

Namespace Prefixes

PrefixIRI
dctermshttp://purl.org/dc/terms/
n9http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/projekt/
n8http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/riv/tvurce/
n11http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/
n6http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/zamer/
shttp://schema.org/
skoshttp://www.w3.org/2004/02/skos/core#
n3http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/
n16http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/vysledek/RIV%2F68378271%3A_____%2F07%3A00096427%21RIV08-AV0-68378271/
n2http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/vysledek/
rdfhttp://www.w3.org/1999/02/22-rdf-syntax-ns#
n4http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/klicoveSlovo/
n17http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/duvernostUdaju/
xsdhhttp://www.w3.org/2001/XMLSchema#
n15http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/aktivita/
n12http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/jazykVysledku/
n18http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/obor/
n13http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/druhVysledku/
n14http://reference.data.gov.uk/id/gregorian-year/

Statements

Subject Item
n2:RIV%2F68378271%3A_____%2F07%3A00096427%21RIV08-AV0-68378271
rdf:type
n11:Vysledek skos:Concept
dcterms:description
Hydrogen-free a-C:Si films with Si concentration from 3 to 70 at.% were prepared by magnetron co-sputtering of pure graphite and silicon targets.Mechanical properties (hardness, intrinsic stress), film composition (EPMA and XPS) and film structure (electron diffraction, Raman spectra) were investigated in dependence on Si concentration, substrate bias and deposition temperature. The film hardness was maximal for -45 at.% of Si and deposition temperatures 600 and 800 °C. Reflection electron diffraction indicated an amorphous structure of prepared films.Raman spectra showed that the films in the range of 35 - 70 at.% of Si always contain three bands corresponding to the Si, SiC and C clusters Hydrogen-free a-C:Si films with Si concentration from 3 to 70 at.% were prepared by magnetron co-sputtering of pure graphite and silicon targets.Mechanical properties (hardness, intrinsic stress), film composition (EPMA and XPS) and film structure (electron diffraction, Raman spectra) were investigated in dependence on Si concentration, substrate bias and deposition temperature. The film hardness was maximal for -45 at.% of Si and deposition temperatures 600 and 800 °C. Reflection electron diffraction indicated an amorphous structure of prepared films.Raman spectra showed that the films in the range of 35 - 70 at.% of Si always contain three bands corresponding to the Si, SiC and C clusters Vodík neobsahující vrstvy a-C:Si s koncentrací Si od 3 do 70 at.% byly připravovány magnetronovým ko-sputteringem z targetů z čistého grafitu a křemíku. Mechanické vlastnosti (tvrdost,vnitřní pnutí),složení vrstev (EPMA a XPS) a struktura (elektronová difrakce a ramanova spektroskopie) byly zkoumány v závislosti na koncentraci Si, předpětí na substrátu a depoziční teplotě. Maximum tvrdosti bylo dosaženo při koncentraci Si 45 at.% a při depozičních teplotách 600 a 800 °C. Reflexní elektronová difrakce indikovala amorfní strukturu připravovaných vrstev. Ramanovy spektra ukazují na existenci 3 pásů odpovídajících klastrům Si, SiC a C pro koncentrace Si z intervalu 35 - 70 at.%
dcterms:title
Hardness of nanocomposite a-C:Si films deposited by magnetron sputtering Tvrdost nanokompozitních vrstev a-C:Si deponovaných magnetronovým naprašováním Hardness of nanocomposite a-C:Si films deposited by magnetron sputtering
skos:prefLabel
Tvrdost nanokompozitních vrstev a-C:Si deponovaných magnetronovým naprašováním Hardness of nanocomposite a-C:Si films deposited by magnetron sputtering Hardness of nanocomposite a-C:Si films deposited by magnetron sputtering
skos:notation
RIV/68378271:_____/07:00096427!RIV08-AV0-68378271
n3:strany
167;173
n3:aktivita
n15:P n15:Z
n3:aktivity
P(OC 095), P(OC 097), Z(AV0Z10100520), Z(AV0Z10100521), Z(AV0Z10100522)
n3:cisloPeriodika
-
n3:dodaniDat
n14:2008
n3:domaciTvurceVysledku
n8:5662281 n8:5193222 n8:6658776 n8:5585457 n8:6323472
n3:druhVysledku
n13:J
n3:duvernostUdaju
n17:S
n3:entitaPredkladatele
n16:predkladatel
n3:idSjednocenehoVysledku
423818
n3:idVysledku
RIV/68378271:_____/07:00096427
n3:jazykVysledku
n12:eng
n3:klicovaSlova
a-C:Si hydrogen-free films,; hardness; raman spectroscopy; XPS
n3:klicoveSlovo
n4:XPS n4:hardness n4:raman%20spectroscopy n4:a-C%3ASi%20hydrogen-free%20films
n3:kodStatuVydavatele
CH - Švýcarská konfederace
n3:kontrolniKodProRIV
[63ECD8C83027]
n3:nazevZdroje
Diamond and Related Materials
n3:obor
n18:BM
n3:pocetDomacichTvurcuVysledku
5
n3:pocetTvurcuVysledku
6
n3:projekt
n9:OC%20095 n9:OC%20097
n3:rokUplatneniVysledku
n14:2007
n3:svazekPeriodika
16
n3:tvurceVysledku
Boháč, Petr Kulykovskyy, Valeriy Vorlíček, Vladimír Zemek, Josef Jastrabík, Lubomír Kurdymov, A.
n3:zamer
n6:AV0Z10100522 n6:AV0Z10100520 n6:AV0Z10100521
s:issn
0925-9635
s:numberOfPages
7