This HTML5 document contains 53 embedded RDF statements represented using HTML+Microdata notation.

The embedded RDF content will be recognized by any processor of HTML5 Microdata.

Namespace Prefixes

PrefixIRI
dctermshttp://purl.org/dc/terms/
n10http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/riv/tvurce/
n4http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/projekt/
n14http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/
n18http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/zamer/
shttp://schema.org/
skoshttp://www.w3.org/2004/02/skos/core#
n3http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/
n5http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/vysledek/RIV%2F68378271%3A_____%2F06%3A00040692%21RIV07-AV0-68378271/
n2http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/vysledek/
rdfhttp://www.w3.org/1999/02/22-rdf-syntax-ns#
n16http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/klicoveSlovo/
n13http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/duvernostUdaju/
xsdhhttp://www.w3.org/2001/XMLSchema#
n12http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/aktivita/
n7http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/jazykVysledku/
n9http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/obor/
n6http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/druhVysledku/
n17http://reference.data.gov.uk/id/gregorian-year/

Statements

Subject Item
n2:RIV%2F68378271%3A_____%2F06%3A00040692%21RIV07-AV0-68378271
rdf:type
n14:Vysledek skos:Concept
dcterms:description
Electronic properties of poly-Si thin films fabricated by atmospheric pressure chemical vapor deposition (APCVD) were improved by annealing in H2O or D2O vapors Electronic properties of poly-Si thin films fabricated by atmospheric pressure chemical vapor deposition (APCVD) were improved by annealing in H2O or D2O vapors Elektronické vlastnosti tenkých vrstev polykrystalického křemíku deponovaného za atmosférického tlaku byly zlepšeny žíháním v H2O nebo D2O parách
dcterms:title
Žíhání ve vodních parách jako nová metoda pro zlepšení vlastností tenkých křemíkových vrstev Annealing in water vapor as a new method for improvement of silicon thin film properties Annealing in water vapor as a new method for improvement of silicon thin film properties
skos:prefLabel
Annealing in water vapor as a new method for improvement of silicon thin film properties Žíhání ve vodních parách jako nová metoda pro zlepšení vlastností tenkých křemíkových vrstev Annealing in water vapor as a new method for improvement of silicon thin film properties
skos:notation
RIV/68378271:_____/06:00040692!RIV07-AV0-68378271
n3:strany
955;958
n3:aktivita
n12:P n12:Z
n3:aktivity
P(GD202/05/H003), P(IAA1010316), P(IAA1010413), P(SM/300/1/03), P(SN/3/172/05), Z(AV0Z10100521)
n3:cisloPeriodika
-
n3:dodaniDat
n17:2007
n3:domaciTvurceVysledku
Honda, Shinya n10:3750299 n10:6810756
n3:druhVysledku
n6:J
n3:duvernostUdaju
n13:S
n3:entitaPredkladatele
n5:predkladatel
n3:idSjednocenehoVysledku
465437
n3:idVysledku
RIV/68378271:_____/06:00040692
n3:jazykVysledku
n7:eng
n3:klicovaSlova
silicon; solar cells
n3:klicoveSlovo
n16:solar%20cells n16:silicon
n3:kodStatuVydavatele
NL - Nizozemsko
n3:kontrolniKodProRIV
[10AA511EBDF9]
n3:nazevZdroje
Journal of Non-Crystalline Solids
n3:obor
n9:BM
n3:pocetDomacichTvurcuVysledku
3
n3:pocetTvurcuVysledku
7
n3:projekt
n4:IAA1010413 n4:SN%2F3%2F172%2F05 n4:SM%2F300%2F1%2F03 n4:GD202%2F05%2FH003 n4:IAA1010316
n3:rokUplatneniVysledku
n17:2006
n3:svazekPeriodika
352
n3:tvurceVysledku
Fejfar, Antonín Honda, Shinya Ogane, A. Kočka, Jan Uraoka, Y. Yamazaki, T. Fuyuki, T.
n3:zamer
n18:AV0Z10100521
s:issn
0022-3093
s:numberOfPages
4