This HTML5 document contains 54 embedded RDF statements represented using HTML+Microdata notation.

The embedded RDF content will be recognized by any processor of HTML5 Microdata.

Namespace Prefixes

PrefixIRI
dctermshttp://purl.org/dc/terms/
n13http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/riv/tvurce/
n16http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/
n8http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/zamer/
shttp://schema.org/
skoshttp://www.w3.org/2004/02/skos/core#
n3http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/
n2http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/vysledek/
rdfhttp://www.w3.org/1999/02/22-rdf-syntax-ns#
n14http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/klicoveSlovo/
n6http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/duvernostUdaju/
xsdhhttp://www.w3.org/2001/XMLSchema#
n9http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/vysledek/RIV%2F68378271%3A_____%2F05%3A00025514%21RIV06-AV0-68378271/
n17http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/aktivita/
n15http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/jazykVysledku/
n12http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/druhVysledku/
n10http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/obor/
n11http://reference.data.gov.uk/id/gregorian-year/

Statements

Subject Item
n2:RIV%2F68378271%3A_____%2F05%3A00025514%21RIV06-AV0-68378271
rdf:type
skos:Concept n16:Vysledek
dcterms:description
The laser-produced plasma has been used as a source of ions with different charge states and with different kinetic energies for ion implantation into various materials: metals, polymers and semiconductors, in order to modify their properties. The implantation depth was measured using Rutherford backscattering spectroscopy (RBS) Laserové plazma bylo využito jako zdroj iontů o různých nábojových číslech a s různou kinetickou energií pro implantaci iontů do různých materiálů (kovů, polymerů a polovodičů) s cílem modifikovat jejich vlastnosti. Hloubka implantace byla měřena RBS spektroskopií (Ruthefordův zpětný rozptyl) The laser-produced plasma has been used as a source of ions with different charge states and with different kinetic energies for ion implantation into various materials: metals, polymers and semiconductors, in order to modify their properties. The implantation depth was measured using Rutherford backscattering spectroscopy (RBS)
dcterms:title
Application of laser ion source for ion implantation technology Application of laser ion source for ion implantation technology Použití laserového zdroje iontů pro technologii iontové implantace
skos:prefLabel
Application of laser ion source for ion implantation technology Application of laser ion source for ion implantation technology Použití laserového zdroje iontů pro technologii iontové implantace
skos:notation
RIV/68378271:_____/05:00025514!RIV06-AV0-68378271
n3:strany
435;438
n3:aktivita
n17:Z
n3:aktivity
Z(AV0Z10100523)
n3:cisloPeriodika
-
n3:dodaniDat
n11:2006
n3:domaciTvurceVysledku
n13:9047883 n13:9436103 n13:3479021
n3:druhVysledku
n12:J
n3:duvernostUdaju
n6:S
n3:entitaPredkladatele
n9:predkladatel
n3:idSjednocenehoVysledku
512837
n3:idVysledku
RIV/68378271:_____/05:00025514
n3:jazykVysledku
n15:eng
n3:klicovaSlova
laser-matter interaction; laser ion source
n3:klicoveSlovo
n14:laser%20ion%20source n14:laser-matter%20interaction
n3:kodStatuVydavatele
GB - Spojené království Velké Británie a Severního Irska
n3:kontrolniKodProRIV
[0939965FA194]
n3:nazevZdroje
Vacuum
n3:obor
n10:BH
n3:pocetDomacichTvurcuVysledku
3
n3:pocetTvurcuVysledku
14
n3:rokUplatneniVysledku
n11:2005
n3:svazekPeriodika
78
n3:tvurceVysledku
Krása, Josef Badziak, J. Gammino, S. Hora, H. Mezzasalma, A. M. Rohlena, Karel Torrisi, L. Ullschmied, Jiří Boody, F. P. Rosinski, M. Wolowski, J. Woryna, E. Láska, Leoš Parys, P.
n3:zamer
n8:AV0Z10100523
s:issn
0042-207X
s:numberOfPages
4