This HTML5 document contains 57 embedded RDF statements represented using HTML+Microdata notation.

The embedded RDF content will be recognized by any processor of HTML5 Microdata.

Namespace Prefixes

PrefixIRI
dctermshttp://purl.org/dc/terms/
n10http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/projekt/
n6http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/riv/tvurce/
n18http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/
n16http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/vysledek/RIV%2F68378271%3A_____%2F03%3A00100037%21RIV%2F2005%2FAV0%2FA02005%2FN/
n11http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/zamer/
shttp://schema.org/
n4http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/
skoshttp://www.w3.org/2004/02/skos/core#
n2http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/vysledek/
rdfhttp://www.w3.org/1999/02/22-rdf-syntax-ns#
n15http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/klicoveSlovo/
n14http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/duvernostUdaju/
xsdhhttp://www.w3.org/2001/XMLSchema#
n17http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/jazykVysledku/
n9http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/aktivita/
n12http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/druhVysledku/
n8http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/obor/
n5http://reference.data.gov.uk/id/gregorian-year/

Statements

Subject Item
n2:RIV%2F68378271%3A_____%2F03%3A00100037%21RIV%2F2005%2FAV0%2FA02005%2FN
rdf:type
skos:Concept n18:Vysledek
dcterms:description
Study of influence of film thickness, silane concentration and substrate temperature on structure and electrical properties of thin microcrystalline siliconfilms by PECVD is presented. Studium vlivu tlouštky vrstvy, koncentrace silanu a teploty substrátu na strukturu a elektrické vlastnosti tenkých vrstev mikrokrystalického křemíku, připraveného pomocí PECVD. Studium vlivu tlouštky vrstvy, koncentrace silanu a teploty substrátu na strukturu a elektrické vlastnosti tenkých vrstev mikrokrystalického křemíku, připraveného pomocí PECVD.
dcterms:title
Studium struktury a růstu nizkoteplotního protokrystalického křemíku pomocí AFM mikroskopu Influence of film thickness, silane concentration and substrate temperature on structure and electrical properties of thin film protocrystalline silicon Studium struktury a růstu nizkoteplotního protokrystalického křemíku pomocí AFM mikroskopu
skos:prefLabel
Studium struktury a růstu nizkoteplotního protokrystalického křemíku pomocí AFM mikroskopu Influence of film thickness, silane concentration and substrate temperature on structure and electrical properties of thin film protocrystalline silicon Studium struktury a růstu nizkoteplotního protokrystalického křemíku pomocí AFM mikroskopu
skos:notation
RIV/68378271:_____/03:00100037!RIV/2005/AV0/A02005/N
n4:strany
93;96
n4:aktivita
n9:P n9:Z
n4:aktivity
P(IAA1010809), P(IAB2949101), Z(AV0Z1010914)
n4:cisloPeriodika
-
n4:dodaniDat
n5:2005
n4:domaciTvurceVysledku
n6:3750299 n6:9994602 n6:6810756 n6:8470847 n6:9441034 n6:5191955 n6:7407653 n6:2874717
n4:druhVysledku
n12:J
n4:duvernostUdaju
n14:S
n4:entitaPredkladatele
n16:predkladatel
n4:idSjednocenehoVysledku
629496
n4:idVysledku
RIV/68378271:_____/03:00100037
n4:jazykVysledku
n17:cze
n4:klicovaSlova
PECVD; microcrystalline silicon; AFM
n4:klicoveSlovo
n15:AFM n15:microcrystalline%20silicon n15:PECVD
n4:kodStatuVydavatele
CZ - Česká republika
n4:kontrolniKodProRIV
[01A178266254]
n4:nazevZdroje
Československý časopis pro fyziku
n4:obor
n8:BM
n4:pocetDomacichTvurcuVysledku
8
n4:pocetTvurcuVysledku
8
n4:projekt
n10:IAB2949101 n10:IAA1010809
n4:rokUplatneniVysledku
n5:2003
n4:svazekPeriodika
53
n4:tvurceVysledku
Fejfar, Antonín Fojtík, Petr Mates, Tomáš Luterová, Kateřina Rezek, Bohuslav Drbohlav, Ivo Kočka, Jan Pelant, Ivan
n4:zamer
n11:AV0Z1010914
s:issn
0009-0700
s:numberOfPages
4