This HTML5 document contains 57 embedded RDF statements represented using HTML+Microdata notation.

The embedded RDF content will be recognized by any processor of HTML5 Microdata.

Namespace Prefixes

PrefixIRI
n10http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/typAkce/
dctermshttp://purl.org/dc/terms/
n8http://purl.org/net/nknouf/ns/bibtex#
n9http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/projekt/
n7http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/riv/tvurce/
n18http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/
n3https://schema.org/
shttp://schema.org/
n5http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/
skoshttp://www.w3.org/2004/02/skos/core#
n2http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/vysledek/
rdfhttp://www.w3.org/1999/02/22-rdf-syntax-ns#
n14http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/vysledek/RIV%2F68081731%3A_____%2F14%3A00434912%21RIV15-TA0-68081731/
n11http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/klicoveSlovo/
n12http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/duvernostUdaju/
xsdhhttp://www.w3.org/2001/XMLSchema#
n17http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/jazykVysledku/
n6http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/aktivita/
n19http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/druhVysledku/
n16http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/obor/
n13http://reference.data.gov.uk/id/gregorian-year/

Statements

Subject Item
n2:RIV%2F68081731%3A_____%2F14%3A00434912%21RIV15-TA0-68081731
rdf:type
skos:Concept n18:Vysledek
dcterms:description
The reliability of nanometer track writing in the large scale chip manufacturing process depends mainly on a precise positioning of the e-beam writer moving stage. The laser interferometers are usually employed to control this positioning, but their complicated optical scheme leads to an expensive instrument which increases the e-beam writer’s manufacturing costs. We present a new design of an interferometric system useful in a currently developed cost effective e-beam writers. Our approach simplifies the optical scheme of known industrial interferometers and shifts the interference phase detection complexity from optical domain to the digital signal processing part. Besides the effective cost, the low number of optical components minimizes the total uncertainty of this measuring instrument. The scheme consists of a single wavelength DFB laser working at 1550 nm, one beam splitter, measuring and reference reflectors and one photo-detector at the interferometer output. The DFB laser is frequency modulated by slight changes of injection current while the interference intensity signal is processed synchronously. Our algorithm quantifies the phase as two sinusoidal waveforms with a phase offset equal to the quarter of the DFB laser wavelength. Besides the computation of these quadrature signals, the scale linearization techniques are used for an additional suppression of optical setup imperfections, noise and the residual amplitude modulation caused by the laser modulation. The stage position is calculated on basis of the DFB laser wavelength and the processed interference phase. To validate the precision and accuracy we have carried out a pilot experimental comparison with a reference interferometer over the 100 mm measurement range. The first tests promise only 2 nm deviation between simplified and the reference interferometer. Spolehlivost zápisu rozsáhlých struktur pomocí elektronového litografu je do velké míry závislá na přesném řízení polohy posuvného stolku se substrátem. Typicky je pro tuto úlohu využíváno optického odměřování pomocí laserových interferometrů, které poskytuje požadovanou úroveň přesnosti. Této přesnosti dosahuje za cenu využití složité optické sestavy, která díky nárokům na přesnost a robustnost v důsledku představuje netriviální navýšení ceny elektronového litografu jako výsledného produktu. V rámci spolupráce jsme se zaměřili na návrh a ověření optimalizovaného měřicího systému, který poskytne srovnatelnou přesnost a zároveň bude robustnější a cenově efektivnější. Jádrem optimalizace je v zásadě přesun zpracování interferenčního signálu z optické oblasti do oblasti výpočetní. V našem případě se jedná zejména o využití alternativní interferometrické detekční techniky, která využívá kontinuálně frekvenčně modulovaný laserový zdroj v kombinaci se zjednodušeným optickým systém. Výstupem optické soustavy je v obou případech dvojice fázových signálů, které v kvadraturní formě reprezentují hodnotu interferenční fáze. Požadavky na odměřovací systém jsou následující: nejistota měření menší než 2,5 nm, rozsah měření 100 mm, odezva systému 10 kHz. Navíc je vyžadováno využití jiné než viditelné vlnové délky z důvodů interference se scintilátory litografu. Pro účely ověření metody je použita optická sestava. Jako zdroj je využit kompaktní laserový modul RIO Orion (Rio Redfern Integrated Optics Inc.), založený na stabilizované DFB diodě, frekvenčně modulovaný změnou čerpacího proudu. Výstup z interferometrické sestavy je snímán dvěma detekčními systémy: jedním je standardní homodynní detekce, druhým je nová testovaná metoda. Toto uspořádání umožňuje srovnat vyhodnocení různými detekčními technikami a přitom, díky sdílené optické trase, eliminovat vnější vlivy, které mohou mít na přesné vyhodnocení výrazný vliv. Spolehlivost zápisu rozsáhlých struktur pomocí elektronového litografu je do velké míry závislá na přesném řízení polohy posuvného stolku se substrátem. Typicky je pro tuto úlohu využíváno optického odměřování pomocí laserových interferometrů, které poskytuje požadovanou úroveň přesnosti. Této přesnosti dosahuje za cenu využití složité optické sestavy, která díky nárokům na přesnost a robustnost v důsledku představuje netriviální navýšení ceny elektronového litografu jako výsledného produktu. V rámci spolupráce jsme se zaměřili na návrh a ověření optimalizovaného měřicího systému, který poskytne srovnatelnou přesnost a zároveň bude robustnější a cenově efektivnější. Jádrem optimalizace je v zásadě přesun zpracování interferenčního signálu z optické oblasti do oblasti výpočetní. V našem případě se jedná zejména o využití alternativní interferometrické detekční techniky, která využívá kontinuálně frekvenčně modulovaný laserový zdroj v kombinaci se zjednodušeným optickým systém. Výstupem optické soustavy je v obou případech dvojice fázových signálů, které v kvadraturní formě reprezentují hodnotu interferenční fáze. Požadavky na odměřovací systém jsou následující: nejistota měření menší než 2,5 nm, rozsah měření 100 mm, odezva systému 10 kHz. Navíc je vyžadováno využití jiné než viditelné vlnové délky z důvodů interference se scintilátory litografu. Pro účely ověření metody je použita optická sestava. Jako zdroj je využit kompaktní laserový modul RIO Orion (Rio Redfern Integrated Optics Inc.), založený na stabilizované DFB diodě, frekvenčně modulovaný změnou čerpacího proudu. Výstup z interferometrické sestavy je snímán dvěma detekčními systémy: jedním je standardní homodynní detekce, druhým je nová testovaná metoda. Toto uspořádání umožňuje srovnat vyhodnocení různými detekčními technikami a přitom, díky sdílené optické trase, eliminovat vnější vlivy, které mohou mít na přesné vyhodnocení výrazný vliv.
dcterms:title
Interferometric measurement system for cost effective e-beam writer Interferometrický odměřovací systém pro elektronový litograf Interferometrický odměřovací systém pro elektronový litograf
skos:prefLabel
Interferometrický odměřovací systém pro elektronový litograf Interferometrický odměřovací systém pro elektronový litograf Interferometric measurement system for cost effective e-beam writer
skos:notation
RIV/68081731:_____/14:00434912!RIV15-TA0-68081731
n5:aktivita
n6:P n6:I
n5:aktivity
I, P(ED0017/01/01), P(EE2.3.30.0054), P(LO1212), P(TA02010711), P(TA03010663), P(TE01020233)
n5:dodaniDat
n13:2015
n5:domaciTvurceVysledku
n7:5467853 n7:6620973 n7:9233598 n7:2487667
n5:druhVysledku
n19:D
n5:duvernostUdaju
n12:S
n5:entitaPredkladatele
n14:predkladatel
n5:idSjednocenehoVysledku
22394
n5:idVysledku
RIV/68081731:_____/14:00434912
n5:jazykVysledku
n17:cze
n5:klicovaSlova
laser interferometry; nanometrology; homodyne detection; scale linearization; signal processing; e-beam writer; laser frequency modulation
n5:klicoveSlovo
n11:homodyne%20detection n11:laser%20interferometry n11:laser%20frequency%20modulation n11:e-beam%20writer n11:scale%20linearization n11:signal%20processing n11:nanometrology
n5:kontrolniKodProRIV
[38AC066C4D16]
n5:mistoKonaniAkce
Třešť
n5:mistoVydani
Brno
n5:nazevZdroje
Sborník příspěvků multioborové konference Laser54
n5:obor
n16:BH
n5:pocetDomacichTvurcuVysledku
4
n5:pocetTvurcuVysledku
4
n5:projekt
n9:TA02010711 n9:LO1212 n9:ED0017%2F01%2F01 n9:TE01020233 n9:EE2.3.30.0054 n9:TA03010663
n5:rokUplatneniVysledku
n13:2014
n5:tvurceVysledku
Šarbort, Martin Lazar, Josef Číp, Ondřej Řeřucha, Šimon
n5:typAkce
n10:WRD
n5:zahajeniAkce
2014-10-29+01:00
s:numberOfPages
2
n8:hasPublisher
Ústav přístrojové techniky AV ČR
n3:isbn
978-80-87441-13-8