This HTML5 document contains 50 embedded RDF statements represented using HTML+Microdata notation.

The embedded RDF content will be recognized by any processor of HTML5 Microdata.

Namespace Prefixes

PrefixIRI
n19http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/typAkce/
dctermshttp://purl.org/dc/terms/
n15http://purl.org/net/nknouf/ns/bibtex#
n12http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/vysledek/RIV%2F68081731%3A_____%2F05%3A00022418%21RIV06-AV0-68081731/
n7http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/riv/tvurce/
n14http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/
n17http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/zamer/
n13https://schema.org/
shttp://schema.org/
skoshttp://www.w3.org/2004/02/skos/core#
n4http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/
n2http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/vysledek/
rdfhttp://www.w3.org/1999/02/22-rdf-syntax-ns#
n5http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/klicoveSlovo/
n11http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/duvernostUdaju/
xsdhhttp://www.w3.org/2001/XMLSchema#
n20http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/jazykVysledku/
n9http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/aktivita/
n18http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/druhVysledku/
n6http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/obor/
n10http://reference.data.gov.uk/id/gregorian-year/

Statements

Subject Item
n2:RIV%2F68081731%3A_____%2F05%3A00022418%21RIV06-AV0-68081731
rdf:type
n14:Vysledek skos:Concept
dcterms:description
Elektronovou litografii lze použít pro vytváření optických difraktivních prvků označovaných jako počítačem generované hologramy (CGH). Rozlišení používané pro vytváření CGH je v řádu mikrometrů, zatímco rozlišení elektronového litografu umožňuje rovněž expozici nedifraktivních submikronový detailů jako nanotextů a nanografiky. E-beam lithography can be used for the origination of optical diffractive elements — so called computer generated holograms. The resolution used for creating diffractive elements is in range of micrometers while the resolution of the e beam lithography allows for the exposition of non diffractive submicron details like nanotexts and nanographics. E-beam lithography can be used for the origination of optical diffractive elements — so called computer generated holograms. The resolution used for creating diffractive elements is in range of micrometers while the resolution of the e beam lithography allows for the exposition of non diffractive submicron details like nanotexts and nanographics.
dcterms:title
Non-diffractive submicron structures forming on electron beam lithograph BS601 Nedifraktivní submikronové struktury připravené pomocí elektronového litografu BS601 Non-diffractive submicron structures forming on electron beam lithograph BS601
skos:prefLabel
Non-diffractive submicron structures forming on electron beam lithograph BS601 Non-diffractive submicron structures forming on electron beam lithograph BS601 Nedifraktivní submikronové struktury připravené pomocí elektronového litografu BS601
skos:notation
RIV/68081731:_____/05:00022418!RIV06-AV0-68081731
n4:strany
383;384
n4:aktivita
n9:Z
n4:aktivity
Z(AV0Z20650511)
n4:dodaniDat
n10:2006
n4:domaciTvurceVysledku
n7:3455599 n7:7246226 n7:4182170 n7:3478394 n7:6517412
n4:druhVysledku
n18:D
n4:duvernostUdaju
n11:S
n4:entitaPredkladatele
n12:predkladatel
n4:idSjednocenehoVysledku
532981
n4:idVysledku
RIV/68081731:_____/05:00022418
n4:jazykVysledku
n20:eng
n4:klicovaSlova
optical non-difraktive element; elektron beam lithography; hologram
n4:klicoveSlovo
n5:hologram n5:elektron%20beam%20lithography n5:optical%20non-difraktive%20element
n4:kontrolniKodProRIV
[F464009F5FAF]
n4:mistoKonaniAkce
Portorož
n4:mistoVydani
Ljubljana
n4:nazevZdroje
Proceedings - 7th Multinational Congress on Microscopy (MCM 2005)
n4:obor
n6:JA
n4:pocetDomacichTvurcuVysledku
5
n4:pocetTvurcuVysledku
5
n4:rokUplatneniVysledku
n10:2005
n4:tvurceVysledku
Matějka, František Daněk, Lukáš Matějková, Jiřina Kolařík, Vladimír Kokrhel, Svatopluk
n4:typAkce
n19:WRD
n4:zahajeniAkce
2005-06-26+02:00
n4:zamer
n17:AV0Z20650511
s:numberOfPages
2
n15:hasPublisher
Jožef Stefan Institute
n13:isbn
961-6303-69-4