This HTML5 document contains 50 embedded RDF statements represented using HTML+Microdata notation.

The embedded RDF content will be recognized by any processor of HTML5 Microdata.

Namespace Prefixes

PrefixIRI
n16http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/typAkce/
dctermshttp://purl.org/dc/terms/
n18http://localhost/temp/predkladatel/
n11http://purl.org/net/nknouf/ns/bibtex#
n10http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/riv/tvurce/
n9http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/
n5http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/vysledek/RIV%2F61989100%3A27350%2F08%3A00019683%21RIV09-MSM-27350___/
n20https://schema.org/
n17http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/zamer/
shttp://schema.org/
skoshttp://www.w3.org/2004/02/skos/core#
n3http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/
n2http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/vysledek/
rdfhttp://www.w3.org/1999/02/22-rdf-syntax-ns#
n8http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/klicoveSlovo/
n4http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/duvernostUdaju/
xsdhhttp://www.w3.org/2001/XMLSchema#
n19http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/aktivita/
n15http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/jazykVysledku/
n14http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/druhVysledku/
n7http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/obor/
n12http://reference.data.gov.uk/id/gregorian-year/

Statements

Subject Item
n2:RIV%2F61989100%3A27350%2F08%3A00019683%21RIV09-MSM-27350___
rdf:type
n9:Vysledek skos:Concept
dcterms:description
Je prezentována alternativní metoda měření spektrální odrazivosti tenké vrstvy na substrátu. Základní myšlenkou této metody je nahrazení standardního měření, které používá kalibrované zrcadlo, měřením odrazivosti ve dvou krocích, a to struktury s tenkou vrstvou a holé podložky. Tato dvojnásobná srovnávací metoda dovoluje jednoduše eliminovat vliv neznámé spektrální odrazivosti referenčního zrcadla. Metoda byla úspěšně testována na tenké vrstvě SiO2 na různě dotovaných Si podložkách a získaná spektra odrazivosti byla porovnána s teoretickým modelem. An alternative method of the reflectance spectrum measurement of a thin film on a wafer is presented. The basic idea of this method is in replacing a standard measurement method employing a calibrated mirror with a two-step reflectance measurement method using both a thin-film structure and a bare wafer. This double comparative method can simply eliminate the unknown reflectance spectrum of the reference mirror. The method was successfully tested on a SiO2 thin film on different B- and P-doped Si substrates. The obtained reflectance spectra were compared with the theoretical model. An alternative method of the reflectance spectrum measurement of a thin film on a wafer is presented. The basic idea of this method is in replacing a standard measurement method employing a calibrated mirror with a two-step reflectance measurement method using both a thin-film structure and a bare wafer. This double comparative method can simply eliminate the unknown reflectance spectrum of the reference mirror. The method was successfully tested on a SiO2 thin film on different B- and P-doped Si substrates. The obtained reflectance spectra were compared with the theoretical model.
dcterms:title
Spectral reflectometry of SiO2 thin films on the silicon wafers Spectral reflectometry of SiO2 thin films on the silicon wafers Měření spektrální odrazivosti tenkých vrstev SiO2 na křemíkových podložkách
skos:prefLabel
Měření spektrální odrazivosti tenkých vrstev SiO2 na křemíkových podložkách Spectral reflectometry of SiO2 thin films on the silicon wafers Spectral reflectometry of SiO2 thin films on the silicon wafers
skos:notation
RIV/61989100:27350/08:00019683!RIV09-MSM-27350___
n3:aktivita
n19:Z
n3:aktivity
Z(MSM6198910016)
n3:dodaniDat
n12:2009
n3:domaciTvurceVysledku
n10:1171283 n10:5271444 n10:7662114 n10:4194128
n3:druhVysledku
n14:D
n3:duvernostUdaju
n4:S
n3:entitaPredkladatele
n5:predkladatel
n3:idSjednocenehoVysledku
396449
n3:idVysledku
RIV/61989100:27350/08:00019683
n3:jazykVysledku
n15:eng
n3:klicovaSlova
Spectral reflectance measurement; thin-film structure; bare wafer; non-calibrated mirror
n3:klicoveSlovo
n8:non-calibrated%20mirror n8:bare%20wafer n8:thin-film%20structure n8:Spectral%20reflectance%20measurement
n3:kontrolniKodProRIV
[46C92628C3AF]
n3:mistoKonaniAkce
Hnanice
n3:mistoVydani
Praha
n3:nazevZdroje
Development of Materials Science in Research and Education, Proceedings of the 18th Joint Seminar
n3:obor
n7:BH
n3:pocetDomacichTvurcuVysledku
4
n3:pocetTvurcuVysledku
5
n3:rokUplatneniVysledku
n12:2008
n3:tvurceVysledku
Luňáček, Jiří Hlubina, Petr Ciprian, Dalibor Potůček, Zdeněk Luňáčková, Milena
n3:typAkce
n16:EUR
n3:zahajeniAkce
2008-09-02+02:00
n3:zamer
n17:MSM6198910016
s:numberOfPages
2
n11:hasPublisher
Czechoslovak Association for Crystal Growth (CSACG)
n20:isbn
978-80-254-0864-3
n18:organizacniJednotka
27350