This HTML5 document contains 52 embedded RDF statements represented using HTML+Microdata notation.

The embedded RDF content will be recognized by any processor of HTML5 Microdata.

Namespace Prefixes

PrefixIRI
dctermshttp://purl.org/dc/terms/
n17http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/riv/tvurce/
n8http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/
n14http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/zamer/
shttp://schema.org/
skoshttp://www.w3.org/2004/02/skos/core#
n3http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/
n13http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/vysledek/RIV%2F61389005%3A_____%2F07%3A00081736%21RIV07-AV0-61389005/
n2http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/vysledek/
rdfhttp://www.w3.org/1999/02/22-rdf-syntax-ns#
n4http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/klicoveSlovo/
n12http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/duvernostUdaju/
xsdhhttp://www.w3.org/2001/XMLSchema#
n15http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/aktivita/
n7http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/jazykVysledku/
n16http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/obor/
n11http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/druhVysledku/
n9http://reference.data.gov.uk/id/gregorian-year/

Statements

Subject Item
n2:RIV%2F61389005%3A_____%2F07%3A00081736%21RIV07-AV0-61389005
rdf:type
n8:Vysledek skos:Concept
dcterms:description
Preparation procedure and properties of composite SiOx/hydrocarbon plasma polymer films are described and discussed. The composite films have been prepared by RF sputtering in argon from two balanced magnetrons equipped with silica (SiO2) and polyimide (PI) targets. Morphology and composition of the composite films have been analysed by means of AFM, TEM, RBS/ERDA and FTIR. Wettability in terms of contact angle of water increases from 28 degrees to 46 degrees when the content of the SiOx component of the composite increases. Peculiar properties of the composite SiOx/hydrocarbon plasma polymer films are discussed with respect to their elemental composition and nature of chemical bonds created on the surface of the films. Preparation procedure and properties of composite SiOx/hydrocarbon plasma polymer films are described and discussed. The composite films have been prepared by RF sputtering in argon from two balanced magnetrons equipped with silica (SiO2) and polyimide (PI) targets. Morphology and composition of the composite films have been analysed by means of AFM, TEM, RBS/ERDA and FTIR. Wettability in terms of contact angle of water increases from 28 degrees to 46 degrees when the content of the SiOx component of the composite increases. Peculiar properties of the composite SiOx/hydrocarbon plasma polymer films are discussed with respect to their elemental composition and nature of chemical bonds created on the surface of the films. Příprava a vlastnosti kompozitních vrstev polymeru a SiOx připravené plasmatickou polymerizací jsou zde prezentovány. Vrstvy byly připraveny magnetronovým naprašováním v argonu ze dvou vyvážených magnetronů vybavených SiO2 a polyimidovým targetem. Morfologie a složení vrstev bylo analyzováno metodami AFM, TEM, RBS/ERDA a FTIR. Smáčivost ve smyslu měření kontaktního úhlu vody se zvyšuje z 28 na 46 °, pokud obsah SiOx v kompozitní vrstvě se zvyšuje. Zvláštní vlastnosti kompozitních vrstev SiOx/polymer jsou diskutovány vzhledem k jejich prvkovému složení a povaze jejich chemických vazeb vznikajících na povrchu deponované vrstvy.
dcterms:title
Composite SiOx/hydrocarbon plasma polymer films prepared by RF magnetron sputtering of SiO2 and polyimide Kompositní vrstvy polymeru a SiOx připravené RF magnetronovým naprašováním SiO2 a polyimidu Composite SiOx/hydrocarbon plasma polymer films prepared by RF magnetron sputtering of SiO2 and polyimide
skos:prefLabel
Kompositní vrstvy polymeru a SiOx připravené RF magnetronovým naprašováním SiO2 a polyimidu Composite SiOx/hydrocarbon plasma polymer films prepared by RF magnetron sputtering of SiO2 and polyimide Composite SiOx/hydrocarbon plasma polymer films prepared by RF magnetron sputtering of SiO2 and polyimide
skos:notation
RIV/61389005:_____/07:00081736!RIV07-AV0-61389005
n3:strany
920;927
n3:aktivita
n15:Z
n3:aktivity
Z(AV0Z10480505), Z(MSM0021620834)
n3:cisloPeriodika
7
n3:dodaniDat
n9:2007
n3:domaciTvurceVysledku
n17:8136890 n17:5985498
n3:druhVysledku
n11:J
n3:duvernostUdaju
n12:S
n3:entitaPredkladatele
n13:predkladatel
n3:idSjednocenehoVysledku
414554
n3:idVysledku
RIV/61389005:_____/07:00081736
n3:jazykVysledku
n7:eng
n3:klicovaSlova
composite films; magnetron; sputtering; polyimide; SiO2
n3:klicoveSlovo
n4:polyimide n4:sputtering n4:SiO2 n4:magnetron n4:composite%20films
n3:kodStatuVydavatele
GB - Spojené království Velké Británie a Severního Irska
n3:kontrolniKodProRIV
[BFF90FFD721F]
n3:nazevZdroje
Vacuum
n3:obor
n16:BL
n3:pocetDomacichTvurcuVysledku
2
n3:pocetTvurcuVysledku
9
n3:rokUplatneniVysledku
n9:2007
n3:svazekPeriodika
81
n3:tvurceVysledku
Pinosh, Y. Pešička, J. Boldyryeva, Hanna Choukourov, A. Drabik, M. Macková, Anna Slavínská, D. Kousal, J. Biederman, H.
n3:zamer
n14:AV0Z10480505 n14:MSM0021620834
s:issn
0042-207X
s:numberOfPages
8