This HTML5 document contains 51 embedded RDF statements represented using HTML+Microdata notation.

The embedded RDF content will be recognized by any processor of HTML5 Microdata.

Namespace Prefixes

PrefixIRI
dctermshttp://purl.org/dc/terms/
n17http://localhost/temp/predkladatel/
n19http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/projekt/
n9http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/riv/tvurce/
n4http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/subjekt/
n12http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/podDruhVysledku/
n3http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/
skoshttp://www.w3.org/2004/02/skos/core#
n5http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/
n2http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/vysledek/
rdfhttp://www.w3.org/1999/02/22-rdf-syntax-ns#
n13http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/kategorie/
n14http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/vysledek/RIV%2F60461373%3A22340%2F12%3A43894375%21RIV13-GA0-22340___/
n11http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/klicoveSlovo/
n6http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/vyuzitiJinymSubjektem/
n16http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/duvernostUdaju/
xsdhhttp://www.w3.org/2001/XMLSchema#
n20http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/aktivita/
n15http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/jazykVysledku/
n18http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/obor/
n10http://reference.data.gov.uk/id/gregorian-year/

Statements

Subject Item
n2:RIV%2F60461373%3A22340%2F12%3A43894375%21RIV13-GA0-22340___
rdf:type
n3:Vysledek skos:Concept
dcterms:description
V rámci vývoje byl navržen a zkonstruován systém pro průběžné monitorování rezistance aktivní vrstvy senzorů během procesu připrašování katalytického kovu. Připravované součástky-senzory mají elektrickou výstupní veličinu, a proto je možnost kontinuálního sledování hodnot rezistance v průběhu jejich výroby naprosto klíčová. Dotyčný systém (funkční vzorek) se skládá ze speciálního adaptéru obsahujícího patici pro senzor, precizní masky zabraňující depozici kovu mimo aktivní vrstvu, redukčního vakuového kusu s průchodkou pro elektrické vodiče, multimetru a měřicího PC vybaveného programem, který zaznamenává a vyhodnocuje změny rezistance aktivní vrstvy senzoru jako funkci času. Systém byl navržen primárně pro použití s naprašovačkou DENTON HP V Desk TSC, ale je možné ho adaptovat i pro jiné zařízení. Pro měření rezistance je v systému použit multimetr Agilent 34410A, který umožnuje měřit rezistanci senzoru v rozsahu od 1 GOhmu až do jednotek mikroOhmu. Multimetr je připojen k měřicímu PC přes sběrnici USB. Pro měření depoziční rychlosti je použita QCM mikrováha Inficon SQM-160. Ovládací program byl vytvořen v prostředí NI LabVIEW 2012. Při testech systému se prokázalo, že jej lze využít pro zastavení depozice katalytických nanočástic v přesně definované oblasti tzv. perkolačního prahu, což zajistí maximální citlivost připravovaných senzorů. V rámci vývoje byl navržen a zkonstruován systém pro průběžné monitorování rezistance aktivní vrstvy senzorů během procesu připrašování katalytického kovu. Připravované součástky-senzory mají elektrickou výstupní veličinu, a proto je možnost kontinuálního sledování hodnot rezistance v průběhu jejich výroby naprosto klíčová. Dotyčný systém (funkční vzorek) se skládá ze speciálního adaptéru obsahujícího patici pro senzor, precizní masky zabraňující depozici kovu mimo aktivní vrstvu, redukčního vakuového kusu s průchodkou pro elektrické vodiče, multimetru a měřicího PC vybaveného programem, který zaznamenává a vyhodnocuje změny rezistance aktivní vrstvy senzoru jako funkci času. Systém byl navržen primárně pro použití s naprašovačkou DENTON HP V Desk TSC, ale je možné ho adaptovat i pro jiné zařízení. Pro měření rezistance je v systému použit multimetr Agilent 34410A, který umožnuje měřit rezistanci senzoru v rozsahu od 1 GOhmu až do jednotek mikroOhmu. Multimetr je připojen k měřicímu PC přes sběrnici USB. Pro měření depoziční rychlosti je použita QCM mikrováha Inficon SQM-160. Ovládací program byl vytvořen v prostředí NI LabVIEW 2012. Při testech systému se prokázalo, že jej lze využít pro zastavení depozice katalytických nanočástic v přesně definované oblasti tzv. perkolačního prahu, což zajistí maximální citlivost připravovaných senzorů. Effusion cell was constructed for the deposition of organic compounds in the high vacuum conditions. When compared with commercially available cells, it differs mainly by using a special corrosion resistant coaxial heating element and also by a unique design of its arrangement. The temperature of source material is measured with a thermocouple which is located in the platform holder for alumina container. Special construction allows defined heating of the source material by thermal radiation in the range from room temperature up to 600°C. The cell design ensures a high temperature stability and homogeneity throughout the whole volume of the organic source material. These properties are essential for vacuum deposition of organic substances. During development of the cell we optimized its design using thermal imaging diagnostics. The device was made in total count of 3 pieces.
dcterms:title
Systém pro in-situ měření rezistance aktivních senzorických vrstev v průběhu depozice katalytických nanočástic. System for in-situ measurement of resistivity of sensor active layer during the deposition of catalytic nanoparticles. Systém pro in-situ měření rezistance aktivních senzorických vrstev v průběhu depozice katalytických nanočástic.
skos:prefLabel
Systém pro in-situ měření rezistance aktivních senzorických vrstev v průběhu depozice katalytických nanočástic. Systém pro in-situ měření rezistance aktivních senzorických vrstev v průběhu depozice katalytických nanočástic. System for in-situ measurement of resistivity of sensor active layer during the deposition of catalytic nanoparticles.
skos:notation
RIV/60461373:22340/12:43894375!RIV13-GA0-22340___
n3:predkladatel
n4:orjk%3A22340
n5:aktivita
n20:P
n5:aktivity
P(GAP108/11/1298)
n5:dodaniDat
n10:2013
n5:domaciTvurceVysledku
n9:8995230 n9:3717496 n9:7104022 n9:9315918 n9:4865936
n5:druhVysledku
n12:G%2FB
n5:duvernostUdaju
n16:S
n5:ekonomickeParametry
Systém umožnuje optimalizovat připrašování katalytických nanočástic na aktivní vrstvy senzorů. Depozice nanočástic je průběžně monitorována a je možne ji zastavit za optimálních podmínek vzhledem k vlastnostem senzoru. V důsledku toho je možné minimalizovat ztráty připrašovaných kovů (Pt,Pd atd) - v důsledku toho je možné snížit provozní ztráty. Systém byl dosud vyroben v počtu 1 ks.
n5:entitaPredkladatele
n14:predkladatel
n5:idSjednocenehoVysledku
173079
n5:idVysledku
RIV/60461373:22340/12:43894375
n5:interniIdentifikace
Nanosputter 1
n5:jazykVysledku
n15:cze
n5:kategorie
n13:A
n5:klicovaSlova
in-situ measurement of resistivity, nanoparticles, sensors, catalysis
n5:klicoveSlovo
n11:sensors n11:nanoparticles n11:in-situ%20measurement%20of%20resistivity n11:catalysis
n5:kontrolniKodProRIV
[D23D01AA6739]
n5:obor
n18:JB
n5:pocetDomacichTvurcuVysledku
5
n5:pocetTvurcuVysledku
6
n5:projekt
n19:GAP108%2F11%2F1298
n5:rokUplatneniVysledku
n10:2012
n5:technickeParametry
příjemce je zároveň uživatelem, smlouva o využití se dle pravidel neuzavírá
n5:tvurceVysledku
Bulíř, Jiří Kopecký, Dušan Vlček, Jan Vrňata, Martin Škodová, Jitka Fitl, Přemysl
n5:vlastnik
n14:vlastnikVysledku
n5:vyuzitiJinymSubjektem
n6:N
n17:organizacniJednotka
22340