This HTML5 document contains 46 embedded RDF statements represented using HTML+Microdata notation.

The embedded RDF content will be recognized by any processor of HTML5 Microdata.

Namespace Prefixes

PrefixIRI
n18http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/typAkce/
n6http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/vysledek/RIV%2F60461373%3A22310%2F09%3A00021534%21RIV10-MSM-22310___/
dctermshttp://purl.org/dc/terms/
n15http://localhost/temp/predkladatel/
n12http://purl.org/net/nknouf/ns/bibtex#
n16http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/riv/tvurce/
n4http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/projekt/
n19http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/
n20https://schema.org/
shttp://schema.org/
skoshttp://www.w3.org/2004/02/skos/core#
n3http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/
n2http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/vysledek/
rdfhttp://www.w3.org/1999/02/22-rdf-syntax-ns#
n13http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/klicoveSlovo/
n7http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/duvernostUdaju/
xsdhhttp://www.w3.org/2001/XMLSchema#
n21http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/aktivita/
n10http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/jazykVysledku/
n17http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/druhVysledku/
n11http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/obor/
n14http://reference.data.gov.uk/id/gregorian-year/

Statements

Subject Item
n2:RIV%2F60461373%3A22310%2F09%3A00021534%21RIV10-MSM-22310___
rdf:type
skos:Concept n19:Vysledek
dcterms:description
Tato práce se zabývá přípravou tenkých vrstev oxidu titaničitého cíleně modifikovaných jejich dopací dusíkem. Vrstvy byly připravovány pomocí nízkotlakého plazmatického systému v reaktoru s dutými katodami. Připravené vrstvy byly kromě důkladné fyzikální charakterizace (XRD, Ramanova spektroskopie, UV-Vis, XPS, AFM) posuzovány na základě jejich fotoelektrochemických vlastností. Tato práce se zabývá přípravou tenkých vrstev oxidu titaničitého cíleně modifikovaných jejich dopací dusíkem. Vrstvy byly připravovány pomocí nízkotlakého plazmatického systému v reaktoru s dutými katodami. Připravené vrstvy byly kromě důkladné fyzikální charakterizace (XRD, Ramanova spektroskopie, UV-Vis, XPS, AFM) posuzovány na základě jejich fotoelektrochemických vlastností. This work describes the preparation of thin Titanium(IV) oxide semiconducting thin films modified by nitrogen doping. Layers were deposited by means of low pressure plasmatic system in the reactor with hollow cathodes. Prepared films were except detailed characterization (XRD, Raman spectroscopy, UV-Vis, XPS, AFM) tested then for their electrochemical properties.
dcterms:title
DC pulse plasmatic system with hollow cathodes for TiO2:N layers deposition ? effect of current quantity in pulse on layer properties DC pulzní plazmatický systém s dutými katodami pro depozici tenkých vrstev TiO2:N ? efekt velikosti proudu v pulzu na vlastnosti vrstev DC pulzní plazmatický systém s dutými katodami pro depozici tenkých vrstev TiO2:N ? efekt velikosti proudu v pulzu na vlastnosti vrstev
skos:prefLabel
DC pulzní plazmatický systém s dutými katodami pro depozici tenkých vrstev TiO2:N ? efekt velikosti proudu v pulzu na vlastnosti vrstev DC pulzní plazmatický systém s dutými katodami pro depozici tenkých vrstev TiO2:N ? efekt velikosti proudu v pulzu na vlastnosti vrstev DC pulse plasmatic system with hollow cathodes for TiO2:N layers deposition ? effect of current quantity in pulse on layer properties
skos:notation
RIV/60461373:22310/09:00021534!RIV10-MSM-22310___
n3:aktivita
n21:P
n3:aktivity
P(1M0577)
n3:dodaniDat
n14:2010
n3:domaciTvurceVysledku
n16:1946609 n16:3910245
n3:druhVysledku
n17:D
n3:duvernostUdaju
n7:S
n3:entitaPredkladatele
n6:predkladatel
n3:idSjednocenehoVysledku
309170
n3:idVysledku
RIV/60461373:22310/09:00021534
n3:jazykVysledku
n10:cze
n3:klicovaSlova
TiO2 thin films; plasmatic; nitrogen doping
n3:klicoveSlovo
n13:plasmatic n13:nitrogen%20doping n13:TiO2%20thin%20films
n3:kontrolniKodProRIV
[27F423CB9A8E]
n3:mistoKonaniAkce
Hnanice, CZ
n3:mistoVydani
Praha
n3:nazevZdroje
Nanomateriály a fotokatalýza - Sborník příspěvků
n3:obor
n11:CH
n3:pocetDomacichTvurcuVysledku
2
n3:pocetTvurcuVysledku
4
n3:projekt
n4:1M0577
n3:rokUplatneniVysledku
n14:2009
n3:tvurceVysledku
Kment, Štěpán Krýsa, Josef Hubička, Z. Klusoň, Petr
n3:typAkce
n18:CST
n3:zahajeniAkce
2009-06-08+02:00
s:numberOfPages
2
n12:hasPublisher
Vysoká škola chemicko-technologická v Praze
n20:isbn
978-80-7080-717-0
n15:organizacniJednotka
22310