This HTML5 document contains 50 embedded RDF statements represented using HTML+Microdata notation.

The embedded RDF content will be recognized by any processor of HTML5 Microdata.

Namespace Prefixes

PrefixIRI
n21http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/typAkce/
dctermshttp://purl.org/dc/terms/
n19http://localhost/temp/predkladatel/
n9http://purl.org/net/nknouf/ns/bibtex#
n11http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/projekt/
n8http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/riv/tvurce/
n15http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/
n7http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/vysledek/RIV%2F60461373%3A22310%2F07%3A00018705%21RIV08-MSM-22310___/
n16https://schema.org/
shttp://schema.org/
n4http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/
skoshttp://www.w3.org/2004/02/skos/core#
n2http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/vysledek/
rdfhttp://www.w3.org/1999/02/22-rdf-syntax-ns#
n12http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/klicoveSlovo/
n6http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/duvernostUdaju/
xsdhhttp://www.w3.org/2001/XMLSchema#
n17http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/jazykVysledku/
n10http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/aktivita/
n14http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/druhVysledku/
n13http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/obor/
n18http://reference.data.gov.uk/id/gregorian-year/

Statements

Subject Item
n2:RIV%2F60461373%3A22310%2F07%3A00018705%21RIV08-MSM-22310___
rdf:type
skos:Concept n15:Vysledek
dcterms:description
V současné době se výzkum zabývající se přípravou fotoaktivních materiálů začíná soustředit ve větší míře na přípravu polovodičových tenkých vrstev. Pozornost se soustředí zejména na přípravu a charakterizaci vrstev, které se nazývají samočistící nebo samosterilizující a jsou nanášeny na různé materiály. Aby tyto vrstvy mohly nahradit stávající materiály a být prakticky využívány musí vykazovat požadováné vlastnosti jako jsou dobrá mechanická a chemická odolnost, vysoká fotokatalytická aktivita, měly by být transparentní na viditelném světle a v neposlední řadě by měly vykazovat superhydrofilní povrch. Zjišťováním poslední jmenované vlastnosti se zabývala předkládaná práce. V současné době se výzkum zabývající se přípravou fotoaktivních materiálů začíná soustředit ve větší míře na přípravu polovodičových tenkých vrstev. Pozornost se soustředí zejména na přípravu a charakterizaci vrstev, které se nazývají samočistící nebo samosterilizující a jsou nanášeny na různé materiály. Aby tyto vrstvy mohly nahradit stávající materiály a být prakticky využívány musí vykazovat požadováné vlastnosti jako jsou dobrá mechanická a chemická odolnost, vysoká fotokatalytická aktivita, měly by být transparentní na viditelném světle a v neposlední řadě by měly vykazovat superhydrofilní povrch. Zjišťováním poslední jmenované vlastnosti se zabývala předkládaná práce. In recent years, an increasing amount of research into semiconductor photocatalysis has moved away from powders to thin layers. A special attention has been devoted to the layers which impart the so called self-cleaning or self-sterilizing ability to various surfaces. However, for such a layer to meet the requirements of a real-life application, a number of rather demanding conditions should be fulfilled, such as a high mechanical strength and chemical resistance, high photocatalytic activity, transparency to visible light and last but not least the superhydrophilic property of their surface.
dcterms:title
Fotokatalytické povrchy, vliv složení na vztah fotoaktivity a smáčivosti Photocatalytic surfaces, the influence of composition on photocatalytic activity and superhydrofilic property Fotokatalytické povrchy, vliv složení na vztah fotoaktivity a smáčivosti
skos:prefLabel
Fotokatalytické povrchy, vliv složení na vztah fotoaktivity a smáčivosti Fotokatalytické povrchy, vliv složení na vztah fotoaktivity a smáčivosti Photocatalytic surfaces, the influence of composition on photocatalytic activity and superhydrofilic property
skos:notation
RIV/60461373:22310/07:00018705!RIV08-MSM-22310___
n4:strany
60-61
n4:aktivita
n10:P
n4:aktivity
P(1M0577)
n4:dodaniDat
n18:2008
n4:domaciTvurceVysledku
n8:3910245 n8:7455607 n8:7989644
n4:druhVysledku
n14:D
n4:duvernostUdaju
n6:S
n4:entitaPredkladatele
n7:predkladatel
n4:idSjednocenehoVysledku
422444
n4:idVysledku
RIV/60461373:22310/07:00018705
n4:jazykVysledku
n17:cze
n4:klicovaSlova
Contact angle; titanium dioxide; self-cleaning
n4:klicoveSlovo
n12:Contact%20angle n12:self-cleaning n12:titanium%20dioxide
n4:kontrolniKodProRIV
[5B87E719A31C]
n4:mistoKonaniAkce
Třešť u Jihlavy
n4:mistoVydani
Praha
n4:nazevZdroje
Nanomateriály a fotokatalýza
n4:obor
n13:CH
n4:pocetDomacichTvurcuVysledku
3
n4:pocetTvurcuVysledku
6
n4:projekt
n11:1M0577
n4:rokUplatneniVysledku
n18:2007
n4:tvurceVysledku
Astrová, Martina Rathouský, J. Krýsa, Josef Novotná, Petra Peterka, F. Zukalová, M.
n4:typAkce
n21:CST
n4:zahajeniAkce
2007-11-09+01:00
s:numberOfPages
2
n9:hasPublisher
Vysoká škola chemicko-technologická v Praze
n16:isbn
978-80-7080-005-8
n19:organizacniJednotka
22310