This HTML5 document contains 48 embedded RDF statements represented using HTML+Microdata notation.

The embedded RDF content will be recognized by any processor of HTML5 Microdata.

Namespace Prefixes

PrefixIRI
n14http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/typAkce/
dctermshttp://purl.org/dc/terms/
n17http://localhost/temp/predkladatel/
n12http://purl.org/net/nknouf/ns/bibtex#
n21http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/riv/tvurce/
n15http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/projekt/
n20http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/vysledek/RIV%2F49777513%3A23640%2F07%3A00000030%21RIV08-MSM-23640___/
n13http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/
n8https://schema.org/
shttp://schema.org/
skoshttp://www.w3.org/2004/02/skos/core#
n3http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/
n2http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/vysledek/
rdfhttp://www.w3.org/1999/02/22-rdf-syntax-ns#
n10http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/klicoveSlovo/
n16http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/duvernostUdaju/
xsdhhttp://www.w3.org/2001/XMLSchema#
n19http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/aktivita/
n6http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/jazykVysledku/
n18http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/obor/
n7http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/druhVysledku/
n4http://reference.data.gov.uk/id/gregorian-year/

Statements

Subject Item
n2:RIV%2F49777513%3A23640%2F07%3A00000030%21RIV08-MSM-23640___
rdf:type
skos:Concept n13:Vysledek
dcterms:description
Thin films of hydrogenated amorphous silicon were deposited by plasma - enhanced chemical vapor deposition (PECVD) from silane diluted with hydrogen (dilution D range 5 – 40). Thickness of the samples was 300 nm. The applied techniques for structural and optical analysis were: XRD diffraction, UV- VIS spectrophotometry and FTIR. Micro-crystallite regions appeared only at higher hydrogen dilutions (D = 33, 40). Structure includes an amorphous phase with the short-range order are called protocrystalline silicon. Structural properties were obtained from the XRD analysis. The results of optical spectrometry measurement of the films are also presented. Thin films of hydrogenated amorphous silicon were deposited by plasma - enhanced chemical vapor deposition (PECVD) from silane diluted with hydrogen (dilution D range 5 – 40). Thickness of the samples was 300 nm. The applied techniques for structural and optical analysis were: XRD diffraction, UV- VIS spectrophotometry and FTIR. Micro-crystallite regions appeared only at higher hydrogen dilutions (D = 33, 40). Structure includes an amorphous phase with the short-range order are called protocrystalline silicon. Structural properties were obtained from the XRD analysis. The results of optical spectrometry measurement of the films are also presented. Tenké vrstvy hydrogenizovaného amorfního křemíku byly připraveny PECVD technologií ze silanu zředěného vodíkem (zředění D = 5 - 40). Tloušťka vrstev byla 300 nm. Použité techniky pro vyšetřování strukturních a optických vlastností jsou: rtg difrakce, UV - VIS spektrofotometrie a FTIR. Mikrokrystalické oblasti se objevily pouze při vyšším vodíkovém zředění (D= 33, 40). Struktura obsahující amorfní fázi s uspořádáním na krátkou vzdálenost je nazývána tzv. protokrystalickým křemíkem. Strukturní vlastnosti byly určeny z rtg analýzy. Dále jsou zde prezentovány výsledky z optické spektrometrie.
dcterms:title
Structural and optical properties of PECVD a-Si:H influenced by different hydrogen dilutions Strukturní a optické vlastnosti PECVD a-Si:H ovlivněné různým vodíkovým zředěním Structural and optical properties of PECVD a-Si:H influenced by different hydrogen dilutions
skos:prefLabel
Structural and optical properties of PECVD a-Si:H influenced by different hydrogen dilutions Structural and optical properties of PECVD a-Si:H influenced by different hydrogen dilutions Strukturní a optické vlastnosti PECVD a-Si:H ovlivněné různým vodíkovým zředěním
skos:notation
RIV/49777513:23640/07:00000030!RIV08-MSM-23640___
n3:strany
104-107
n3:aktivita
n19:P
n3:aktivity
P(1M06031)
n3:dodaniDat
n4:2008
n3:domaciTvurceVysledku
Šutta, Pavol n21:2891484
n3:druhVysledku
n7:D
n3:duvernostUdaju
n16:S
n3:entitaPredkladatele
n20:predkladatel
n3:idSjednocenehoVysledku
452840
n3:idVysledku
RIV/49777513:23640/07:00000030
n3:jazykVysledku
n6:eng
n3:klicovaSlova
a-Si:H; dilution; PECVD; structural properties; optical properties
n3:klicoveSlovo
n10:dilution n10:PECVD n10:a-Si%3AH n10:optical%20properties n10:structural%20properties
n3:kontrolniKodProRIV
[A72B96C454E9]
n3:mistoKonaniAkce
Štrbské Pleso
n3:mistoVydani
Bratislava
n3:nazevZdroje
Vákuové technológie - nové trendy vo výskume a aplikáciách
n3:obor
n18:BM
n3:pocetDomacichTvurcuVysledku
2
n3:pocetTvurcuVysledku
3
n3:projekt
n15:1M06031
n3:rokUplatneniVysledku
n4:2007
n3:tvurceVysledku
Šutta, Pavol Vavruňková, Veronika Müllerová, Jarmila
n3:typAkce
n14:EUR
n3:zahajeniAkce
2007-01-01+01:00
s:numberOfPages
4
n12:hasPublisher
Slovenská vákuová spoločnosť
n8:isbn
978-80-969435-3-1
n17:organizacniJednotka
23640