This HTML5 document contains 47 embedded RDF statements represented using HTML+Microdata notation.

The embedded RDF content will be recognized by any processor of HTML5 Microdata.

Namespace Prefixes

PrefixIRI
n9http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/typAkce/
dctermshttp://purl.org/dc/terms/
n15http://localhost/temp/predkladatel/
n13http://purl.org/net/nknouf/ns/bibtex#
n11http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/riv/tvurce/
n6http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/
n17http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/vysledek/RIV%2F49777513%3A23640%2F06%3A00000106%21RIV07-MSM-23640___/
n18http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/zamer/
n10https://schema.org/
shttp://schema.org/
skoshttp://www.w3.org/2004/02/skos/core#
n3http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/
n2http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/vysledek/
rdfhttp://www.w3.org/1999/02/22-rdf-syntax-ns#
n7http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/klicoveSlovo/
n12http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/duvernostUdaju/
xsdhhttp://www.w3.org/2001/XMLSchema#
n19http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/jazykVysledku/
n16http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/aktivita/
n21http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/obor/
n20http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/druhVysledku/
n4http://reference.data.gov.uk/id/gregorian-year/

Statements

Subject Item
n2:RIV%2F49777513%3A23640%2F06%3A00000106%21RIV07-MSM-23640___
rdf:type
n6:Vysledek skos:Concept
dcterms:description
The layer removal method is used for the residual stress measurement in thin Ti Films. Concentrated hydrochloric acid is used for the successive layer removal of the coating. The etching process is analyzed. Removed layer thickness is measured and the residual stress of the Ti film is determined based on changes of the samples deflection. Metoda úběru je využívána pro měření zbytkového napětí v tenkých povlacích Ti. K postupnému odstraňování vrstvy je používána kyselina chlorovodíková. Průběh procesu odleptávání je analyzován. Tloušťka odleptané vrstvy je zaznamenávána a zbytkové napětí v tenkém povlaku Ti je určováno na základě změny průhybu vzorku. The layer removal method is used for the residual stress measurement in thin Ti Films. Concentrated hydrochloric acid is used for the successive layer removal of the coating. The etching process is analyzed. Removed layer thickness is measured and the residual stress of the Ti film is determined based on changes of the samples deflection.
dcterms:title
Použití chemického odleptávání pro měření zbytkových napětí v tenkých povlacích metodou úběru Using of chemical etching for layer removal residual stress measurement in thin films Using of chemical etching for layer removal residual stress measurement in thin films
skos:prefLabel
Using of chemical etching for layer removal residual stress measurement in thin films Použití chemického odleptávání pro měření zbytkových napětí v tenkých povlacích metodou úběru Using of chemical etching for layer removal residual stress measurement in thin films
skos:notation
RIV/49777513:23640/06:00000106!RIV07-MSM-23640___
n3:strany
55-59
n3:aktivita
n16:Z
n3:aktivity
Z(MSM4977751302)
n3:dodaniDat
n4:2007
n3:domaciTvurceVysledku
n11:7084617 n11:3518531 n11:5423724
n3:druhVysledku
n20:D
n3:duvernostUdaju
n12:S
n3:entitaPredkladatele
n17:predkladatel
n3:idSjednocenehoVysledku
505375
n3:idVysledku
RIV/49777513:23640/06:00000106
n3:jazykVysledku
n19:eng
n3:klicovaSlova
residual stress; layer removal method; coatings
n3:klicoveSlovo
n7:coatings n7:layer%20removal%20method n7:residual%20stress
n3:kontrolniKodProRIV
[DFEB8EAE5690]
n3:mistoKonaniAkce
Hokovce, Slovensko
n3:mistoVydani
Český Těšín
n3:nazevZdroje
Hutnícka analytika 2006
n3:obor
n21:JP
n3:pocetDomacichTvurcuVysledku
3
n3:pocetTvurcuVysledku
3
n3:rokUplatneniVysledku
n4:2006
n3:tvurceVysledku
Šůna, Jan Švantner, Michal Mužík, Tomáš
n3:typAkce
n9:EUR
n3:zahajeniAkce
2006-01-01+01:00
n3:zamer
n18:MSM4977751302
s:numberOfPages
5
n13:hasPublisher
2 THETA
n10:isbn
80-86380-34-3
n15:organizacniJednotka
23640