This HTML5 document contains 49 embedded RDF statements represented using HTML+Microdata notation.

The embedded RDF content will be recognized by any processor of HTML5 Microdata.

Namespace Prefixes

PrefixIRI
n4http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/typAkce/
dctermshttp://purl.org/dc/terms/
n22http://purl.org/net/nknouf/ns/bibtex#
n17http://localhost/temp/predkladatel/
n13http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/projekt/
n8http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/riv/tvurce/
n19http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/
n18https://schema.org/
n7http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/zamer/
shttp://schema.org/
skoshttp://www.w3.org/2004/02/skos/core#
n3http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/
n14http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/vysledek/RIV%2F49777513%3A23520%2F08%3A00500791%21RIV09-MSM-23520___/
n2http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/vysledek/
rdfhttp://www.w3.org/1999/02/22-rdf-syntax-ns#
n6http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/klicoveSlovo/
n16http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/duvernostUdaju/
xsdhhttp://www.w3.org/2001/XMLSchema#
n21http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/aktivita/
n11http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/jazykVysledku/
n15http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/obor/
n10http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/druhVysledku/
n12http://reference.data.gov.uk/id/gregorian-year/

Statements

Subject Item
n2:RIV%2F49777513%3A23520%2F08%3A00500791%21RIV09-MSM-23520___
rdf:type
skos:Concept n19:Vysledek
dcterms:description
Crystallization of amorphous titanium dioxide films with different thickness (50-100 nm) deposited on silicon substrates was investigated by in-situ isochronal and isothermal annealing inhigh-temperature chamber in the X-ray diffractometer. It was found that the crystallization depends strongly on the film thickness, especially below about 500 nm and it is slow for very thinfilms. The process can be well described by the Avrami equation modified by the initial time of crystallization. All the parameters of the equation vary with thin thickness. Crystallization of amorphous titanium dioxide films with different thickness (50-100 nm) deposited on silicon substrates was investigated by in-situ isochronal and isothermal annealing inhigh-temperature chamber in the X-ray diffractometer. It was found that the crystallization depends strongly on the film thickness, especially below about 500 nm and it is slow for very thinfilms. The process can be well described by the Avrami equation modified by the initial time of crystallization. All the parameters of the equation vary with thin thickness. Krystalizace amorfních vrstev TiO2 o různých tloušťkách deponovaných na křemíkové substráty byla zkoumána pomocí in-situ izochronního a izotermického žíhání ve vysokoteplotní komoře v rtg difraktometru. Bylo zjištěno, že krystalizace silně závisí na tloušťce vrstvy, obzvláště pro tloušťky pod 500nm, kde krystalizace je velmi pomalá pro velmi tenké vrstvy. Proces může být velmi dobře popsán Avramiho rovnicí modifikovanou počátečním časem krystalizace. Všechny parametry rovnice se mění s tloušťkou vrstvy.
dcterms:title
XRD in-situ study of crystallization of magnetron-deposited TiO2 thin films XRD in-situ studie krystalizace magnetronově nanášených tenkých vrstev TiO2 XRD in-situ study of crystallization of magnetron-deposited TiO2 thin films
skos:prefLabel
XRD in-situ study of crystallization of magnetron-deposited TiO2 thin films XRD in-situ study of crystallization of magnetron-deposited TiO2 thin films XRD in-situ studie krystalizace magnetronově nanášených tenkých vrstev TiO2
skos:notation
RIV/49777513:23520/08:00500791!RIV09-MSM-23520___
n3:aktivita
n21:Z n21:P
n3:aktivity
P(GA106/06/0327), Z(MSM4977751302)
n3:dodaniDat
n12:2009
n3:domaciTvurceVysledku
n8:9269606 n8:8730415
n3:druhVysledku
n10:D
n3:duvernostUdaju
n16:S
n3:entitaPredkladatele
n14:predkladatel
n3:idSjednocenehoVysledku
405961
n3:idVysledku
RIV/49777513:23520/08:00500791
n3:jazykVysledku
n11:eng
n3:klicovaSlova
TiO2; crystallization; post-annealing; in-situ XRD
n3:klicoveSlovo
n6:in-situ%20XRD n6:TiO2 n6:crystallization n6:post-annealing
n3:kontrolniKodProRIV
[320F78867D15]
n3:mistoKonaniAkce
Ghent
n3:mistoVydani
Ghent
n3:nazevZdroje
Proceedings of ICTF 14 & RSD2008
n3:obor
n15:BL
n3:pocetDomacichTvurcuVysledku
2
n3:pocetTvurcuVysledku
4
n3:projekt
n13:GA106%2F06%2F0327
n3:rokUplatneniVysledku
n12:2008
n3:tvurceVysledku
Musil, Jindřich Nichtová, L. Šícha, Jan Kužel, Radomír
n3:typAkce
n4:WRD
n3:zahajeniAkce
2008-11-20+01:00
n3:zamer
n7:MSM4977751302
s:numberOfPages
4
n22:hasPublisher
Ghent University
n18:isbn
978-90-334-7347-0
n17:organizacniJednotka
23520