This HTML5 document contains 54 embedded RDF statements represented using HTML+Microdata notation.

The embedded RDF content will be recognized by any processor of HTML5 Microdata.

Namespace Prefixes

PrefixIRI
n22http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/vysledek/RIV%2F49777513%3A23520%2F07%3A00000152%21RIV08-MSM-23520___/
n11http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/typAkce/
dctermshttp://purl.org/dc/terms/
n19http://purl.org/net/nknouf/ns/bibtex#
n8http://localhost/temp/predkladatel/
n9http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/projekt/
n7http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/riv/tvurce/
n5http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/
n17https://schema.org/
n10http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/zamer/
shttp://schema.org/
skoshttp://www.w3.org/2004/02/skos/core#
n3http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/
n2http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/vysledek/
rdfhttp://www.w3.org/1999/02/22-rdf-syntax-ns#
n16http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/klicoveSlovo/
n18http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/duvernostUdaju/
xsdhhttp://www.w3.org/2001/XMLSchema#
n15http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/aktivita/
n12http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/jazykVysledku/
n21http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/obor/
n6http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/druhVysledku/
n14http://reference.data.gov.uk/id/gregorian-year/

Statements

Subject Item
n2:RIV%2F49777513%3A23520%2F07%3A00000152%21RIV08-MSM-23520___
rdf:type
skos:Concept n5:Vysledek
dcterms:description
Electron energy distribution function and local plasma parameters were investigated at the substrate position (100mm from the target) by means of time-resolved Langmuir probe diagnostics during high-power pulsed dc magnetron sputtering of copper films. Very high plasma densities were achieved at the voltage pulse repetition frequency, the pulse duration, the argon pressure and the average pulse current. At the same conditions, the kinetic temperature of electrons rose with an increasing power during a pulse. After an initial stage it was in the range 10500-12500K. Negative peaks of the floating potential were registered at the very beginning of the voltage pulse Elektronové rozdělovací funkce podle energie a lokální plazmové parametry byly zkoumány v pozici u substrátu (100mm od terče) pomocí časově rozlišené diagnostiky Langmuirovou sondou během vysokovýkonového pulzního dc magnetronového naprašování měděných vrstev. Velmi vysokých hustot plazmatu (až 2.1012cm-3) bylo dosaženo při opakovací frekvenci pulzů napětí fr=1kHz, délce pulzu t1=200μs, tlaku argonu p=1Pa a průměrném proudu v pulzu Ida=50A. Při stejných podmínkách kinetická energie elektronů rostla s rostoucím výkonem během pulzu. Po iniciační fázi byla v intervalu 10500-12500K. Na začátku pulzu byly zaznamenány poklesy plovoucího potenciálu plazmatu. Electron energy distribution function and local plasma parameters were investigated at the substrate position (100mm from the target) by means of time-resolved Langmuir probe diagnostics during high-power pulsed dc magnetron sputtering of copper films. Very high plasma densities were achieved at the voltage pulse repetition frequency, the pulse duration, the argon pressure and the average pulse current. At the same conditions, the kinetic temperature of electrons rose with an increasing power during a pulse. After an initial stage it was in the range 10500-12500K. Negative peaks of the floating potential were registered at the very beginning of the voltage pulse
dcterms:title
Time-resolved Langmuir probe diagnostics of high-power pulsed dc magnetron discharges during deposition of copper films Time-resolved Langmuir probe diagnostics of high-power pulsed dc magnetron discharges during deposition of copper films Časově rozlišená diagnostika Langmuirovou sondou ve vysokovýkonových pulzních dc magnetonových výbojích během depozice měděných vrstev
skos:prefLabel
Time-resolved Langmuir probe diagnostics of high-power pulsed dc magnetron discharges during deposition of copper films Časově rozlišená diagnostika Langmuirovou sondou ve vysokovýkonových pulzních dc magnetonových výbojích během depozice měděných vrstev Time-resolved Langmuir probe diagnostics of high-power pulsed dc magnetron discharges during deposition of copper films
skos:notation
RIV/49777513:23520/07:00000152!RIV08-MSM-23520___
n3:strany
1960-1962
n3:aktivita
n15:P n15:Z
n3:aktivity
P(ME 673), Z(MSM4977751302)
n3:dodaniDat
n14:2008
n3:domaciTvurceVysledku
n7:9269606 n7:5255252 n7:1975714 n7:8849412 n7:4084241
n3:druhVysledku
n6:D
n3:duvernostUdaju
n18:S
n3:entitaPredkladatele
n22:predkladatel
n3:idSjednocenehoVysledku
455209
n3:idVysledku
RIV/49777513:23520/07:00000152
n3:jazykVysledku
n12:eng
n3:klicovaSlova
high-power magnetron; pulsed magnetron; magnetron deposition; Langmuir probe diagnostics
n3:klicoveSlovo
n16:pulsed%20magnetron n16:high-power%20magnetron n16:Langmuir%20probe%20diagnostics n16:magnetron%20deposition
n3:kontrolniKodProRIV
[C97B8C7E9B41]
n3:mistoKonaniAkce
Praha
n3:mistoVydani
Praha
n3:nazevZdroje
XXVIII International conference on phenomena in ionized gases
n3:obor
n21:BL
n3:pocetDomacichTvurcuVysledku
5
n3:pocetTvurcuVysledku
5
n3:projekt
n9:ME%20673
n3:rokUplatneniVysledku
n14:2007
n3:tvurceVysledku
Vlček, Jaroslav Pajdarová, Andrea Dag Kudláček, Pavel Lukáš, Jan Musil, Jindřich
n3:typAkce
n11:WRD
n3:zahajeniAkce
2007-01-01+01:00
n3:zamer
n10:MSM4977751302
s:numberOfPages
3
n19:hasPublisher
Ústav fyziky plazmatu AV ČR
n17:isbn
978-80-87026-01-4
n8:organizacniJednotka
23520