This HTML5 document contains 51 embedded RDF statements represented using HTML+Microdata notation.

The embedded RDF content will be recognized by any processor of HTML5 Microdata.

Namespace Prefixes

PrefixIRI
n20http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/typAkce/
dctermshttp://purl.org/dc/terms/
n12http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/vysledek/RIV%2F49777513%3A23520%2F07%3A00000065%21RIV08-MSM-23520___/
n17http://localhost/temp/predkladatel/
n5http://purl.org/net/nknouf/ns/bibtex#
n16http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/projekt/
n13http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/riv/tvurce/
n21http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/
n22http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/zamer/
n15https://schema.org/
shttp://schema.org/
skoshttp://www.w3.org/2004/02/skos/core#
n3http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/
n2http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/vysledek/
rdfhttp://www.w3.org/1999/02/22-rdf-syntax-ns#
n9http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/klicoveSlovo/
n11http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/duvernostUdaju/
xsdhhttp://www.w3.org/2001/XMLSchema#
n18http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/jazykVysledku/
n8http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/aktivita/
n19http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/druhVysledku/
n14http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/obor/
n6http://reference.data.gov.uk/id/gregorian-year/

Statements

Subject Item
n2:RIV%2F49777513%3A23520%2F07%3A00000065%21RIV08-MSM-23520___
rdf:type
skos:Concept n21:Vysledek
dcterms:description
High-power pulsed reactive magnetron deposition of TiN films was investigated. The repetition frequency was 10kHz at a fixed 20% duty cycle and total gas pressure of 1 Pa. Time evolutions of the discharge characteristics were measured in a 90% Ar+10%N2 gas mixture at a target power density in a pulse up to 460W/cm2. Time-averaged mass spectroscopy was performed at a substrate position. It was shown that argon ions are strongly dominant in total ion fluxes onto the substrate. With an increase in the target power density, the ion energy distributions were more extended to higher energies. The increasing ion energies and fluxes, together with the increase in the ratio, resulted in changes in structure and mechanical properties of the prepared TiN films. High-power pulsed reactive magnetron deposition of TiN films was investigated. The repetition frequency was 10kHz at a fixed 20% duty cycle and total gas pressure of 1 Pa. Time evolutions of the discharge characteristics were measured in a 90% Ar+10%N2 gas mixture at a target power density in a pulse up to 460W/cm2. Time-averaged mass spectroscopy was performed at a substrate position. It was shown that argon ions are strongly dominant in total ion fluxes onto the substrate. With an increase in the target power density, the ion energy distributions were more extended to higher energies. The increasing ion energies and fluxes, together with the increase in the ratio, resulted in changes in structure and mechanical properties of the prepared TiN films. Bylo zkoumáno vysoko-výkonové pulzní magnetronové deponování TiN filmů. Opakovací frekvence byla 10kHz, využití periody 20% a celkový tlak plynu 1Pa. Časový vývoj výbojové charakteristiky byl měřen v směsi plynů 90%Ar + 10%N2 při hustotě výkonu na terč v pulzu 460W/cm2. Časově-průměrná hmotnostní spektroskopie byla provedena v pozici substrátu. Byla zjištěna dominance (69-85%) argonových iontů v celkovém toku iontů na substrát. S nárůstem hustoty výkonu na terč se rozdělení iontů posouvá k vyšším energiím (do 50eV vzhledem k zemi). Nárůst energií a toků iontů společně s nárůstem poměru N+/N2+ dochází ke změně ve struktuře a mechanických vlastnostech (tvrdost do 27GPa) vzni
dcterms:title
Vysoko-výkonové pulzní magnetronové naprašování TiN vrstev a jejich mechanické vlastnosti High-power pulsed magnetron sputtering of TiN films and their mechanical properties High-power pulsed magnetron sputtering of TiN films and their mechanical properties
skos:prefLabel
Vysoko-výkonové pulzní magnetronové naprašování TiN vrstev a jejich mechanické vlastnosti High-power pulsed magnetron sputtering of TiN films and their mechanical properties High-power pulsed magnetron sputtering of TiN films and their mechanical properties
skos:notation
RIV/49777513:23520/07:00000065!RIV08-MSM-23520___
n3:strany
794-796
n3:aktivita
n8:Z n8:P
n3:aktivity
P(ME 673), Z(MSM4977751302)
n3:dodaniDat
n6:2008
n3:domaciTvurceVysledku
n13:1975714 n13:8849412 n13:3412016 n13:2485567
n3:druhVysledku
n19:D
n3:duvernostUdaju
n11:S
n3:entitaPredkladatele
n12:predkladatel
n3:idSjednocenehoVysledku
424154
n3:idVysledku
RIV/49777513:23520/07:00000065
n3:jazykVysledku
n18:eng
n3:klicovaSlova
high-power pulsed magnetron sputtering; mass spectroscopy; TiN
n3:klicoveSlovo
n9:TiN n9:high-power%20pulsed%20magnetron%20sputtering n9:mass%20spectroscopy
n3:kontrolniKodProRIV
[3238B9A509EF]
n3:mistoKonaniAkce
Praha
n3:mistoVydani
Prague
n3:nazevZdroje
XXVIII International conference on phenomena in ionized gases
n3:obor
n14:BL
n3:pocetDomacichTvurcuVysledku
4
n3:pocetTvurcuVysledku
4
n3:projekt
n16:ME%20673
n3:rokUplatneniVysledku
n6:2007
n3:tvurceVysledku
Zuštin, Branislav Lukáš, Jan Burcalová, Kristýna Vlček, Jaroslav
n3:typAkce
n20:WRD
n3:zahajeniAkce
2007-01-01+01:00
n3:zamer
n22:MSM4977751302
s:numberOfPages
3
n5:hasPublisher
Ústav fyziky plazmatu AV ČR
n15:isbn
978-80-87026-01-4
n17:organizacniJednotka
23520