This HTML5 document contains 48 embedded RDF statements represented using HTML+Microdata notation.

The embedded RDF content will be recognized by any processor of HTML5 Microdata.

Namespace Prefixes

PrefixIRI
dctermshttp://purl.org/dc/terms/
n18http://localhost/temp/predkladatel/
n17http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/vysledek/RIV%2F49777513%3A23520%2F07%3A00000028%21RIV08-MSM-23520___/
n5http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/riv/tvurce/
n10http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/
n14http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/zamer/
shttp://schema.org/
skoshttp://www.w3.org/2004/02/skos/core#
n3http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/
n2http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/vysledek/
rdfhttp://www.w3.org/1999/02/22-rdf-syntax-ns#
n15http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/klicoveSlovo/
n13http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/duvernostUdaju/
xsdhhttp://www.w3.org/2001/XMLSchema#
n9http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/aktivita/
n6http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/jazykVysledku/
n12http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/obor/
n7http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/druhVysledku/
n16http://reference.data.gov.uk/id/gregorian-year/

Statements

Subject Item
n2:RIV%2F49777513%3A23520%2F07%3A00000028%21RIV08-MSM-23520___
rdf:type
skos:Concept n10:Vysledek
dcterms:description
This article reports on photoactivity of sputtered TiO2 films induced by UV irradiation. TiO2 films were prepared by dc pulsed reactive magnetron sputtering using a dual magnetron operated in bipolar mode and equipped with Ti targets. The photoactivity of TiO2 films, characterized by the water droplet contact angle on the film surface after UV irradiation, was evaluated and discussed in detail. The structure of TiO2 film was measured using X-ray diffraction and surface morphology using AFM. A sharp decrease in WDCA to 10° has been observed for optimal sputtering conditions. Possibility of low-temperature sputtering of photoactive TiO2 films on heat sensitive substrates has been introduced. This article reports on photoactivity of sputtered TiO2 films induced by UV irradiation. TiO2 films were prepared by dc pulsed reactive magnetron sputtering using a dual magnetron operated in bipolar mode and equipped with Ti targets. The photoactivity of TiO2 films, characterized by the water droplet contact angle on the film surface after UV irradiation, was evaluated and discussed in detail. The structure of TiO2 film was measured using X-ray diffraction and surface morphology using AFM. A sharp decrease in WDCA to 10° has been observed for optimal sputtering conditions. Possibility of low-temperature sputtering of photoactive TiO2 films on heat sensitive substrates has been introduced. Článek se podrobně věnuje fotoaktivitě vrstev TiO2, která je sledována během jejich UV ozařování. Vrstvy TiO2 byly připraveny dc pulzní reaktivní magnetronovou depozicí v systému s duálním magnetronem, který pracoval v bipolárním módu a byl vybaven Ti terči s průměrem 50mm. Fotoaktivita byla charakterizována poklesem kontaktního úhlu kapky vody na povrchu vrstev během UV ozařování. U vrstev připravených v ideálních podmínkách byl pozorován rychlý pokles kontaktního úhlu pod hranici 10°. Byly naznačeny možnosti přípravy fotoaktivních vrstev TiO2 při velmi nízkých teplotách pod 90°C.
dcterms:title
Photoactivated Properties of TiO2 Films Prepared by Magnetron Sputtering Fotoaktivované vlastnosti vrstev TiO2 připravených magnetronovou depozicí Photoactivated Properties of TiO2 Films Prepared by Magnetron Sputtering
skos:prefLabel
Fotoaktivované vlastnosti vrstev TiO2 připravených magnetronovou depozicí Photoactivated Properties of TiO2 Films Prepared by Magnetron Sputtering Photoactivated Properties of TiO2 Films Prepared by Magnetron Sputtering
skos:notation
RIV/49777513:23520/07:00000028!RIV08-MSM-23520___
n3:strany
0
n3:aktivita
n9:Z
n3:aktivity
Z(MSM4977751302)
n3:cisloPeriodika
0
n3:dodaniDat
n16:2008
n3:domaciTvurceVysledku
n5:9269606 n5:9294368 n5:8730415
n3:druhVysledku
n7:J
n3:duvernostUdaju
n13:S
n3:entitaPredkladatele
n17:predkladatel
n3:idSjednocenehoVysledku
441219
n3:idVysledku
RIV/49777513:23520/07:00000028
n3:jazykVysledku
n6:eng
n3:klicovaSlova
films; low temperature sputtering; nanocrystalline films; pulsed discharges; structure; TiO2 thin films; wettability
n3:klicoveSlovo
n15:TiO2%20thin%20films n15:films n15:wettability n15:nanocrystalline%20films n15:low%20temperature%20sputtering n15:pulsed%20discharges n15:structure
n3:kodStatuVydavatele
DE - Spolková republika Německo
n3:kontrolniKodProRIV
[ECC627798538]
n3:nazevZdroje
Plasma Processes and Polymers
n3:obor
n12:BL
n3:pocetDomacichTvurcuVysledku
3
n3:pocetTvurcuVysledku
3
n3:rokUplatneniVysledku
n16:2007
n3:tvurceVysledku
Musil, Jindřich Šícha, Jan Heřman, David
n3:zamer
n14:MSM4977751302
s:issn
1612-8850
s:numberOfPages
1
n18:organizacniJednotka
23520