This HTML5 document contains 58 embedded RDF statements represented using HTML+Microdata notation.

The embedded RDF content will be recognized by any processor of HTML5 Microdata.

Namespace Prefixes

PrefixIRI
n12http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/typAkce/
dctermshttp://purl.org/dc/terms/
n13http://purl.org/net/nknouf/ns/bibtex#
n6http://localhost/temp/predkladatel/
n11http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/vysledek/RIV%2F49777513%3A23520%2F07%3A00000023%21RIV08-MSM-23520___/
n8http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/riv/tvurce/
n20http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/
n19https://schema.org/
n16http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/zamer/
shttp://schema.org/
skoshttp://www.w3.org/2004/02/skos/core#
n3http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/
n2http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/vysledek/
rdfhttp://www.w3.org/1999/02/22-rdf-syntax-ns#
n9http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/klicoveSlovo/
n7http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/duvernostUdaju/
xsdhhttp://www.w3.org/2001/XMLSchema#
n21http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/aktivita/
n14http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/jazykVysledku/
n15http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/druhVysledku/
n10http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/obor/
n18http://reference.data.gov.uk/id/gregorian-year/

Statements

Subject Item
n2:RIV%2F49777513%3A23520%2F07%3A00000023%21RIV08-MSM-23520___
rdf:type
skos:Concept n20:Vysledek
dcterms:description
Byl proveden systematický výzkum reaktivního magnetronového naprašování tvrdých kvaternárních Si-B-C-N materiálů. Si-B-C-N vrstvy byly deponovány na Si a SiC substráty rozprašováním C-Si-B nebo B4C-Si terče ve směsi dusíku a argonu. Prvkové složení vrstev, jejich vazebná struktura, nanostruktura, mechanické, tribologické a optické vlastnosti společně s oxidační odolností byly kontrolovány obsahem Si v erozní zóně terče, obsahem Ar ve výbojové směsi, záporným radiofrekvenčně indukovaným předpětím na substrátu a teplotou substrátu. Energie a tok iontů dopadajících na rostoucí vrstvy byly určeny z měřených výbojových charakteristik. Hmotnostní spektroskopie byla použita pro zjištění sl In this work, a systematic investigation of reactive magnetron sputtering of hard quaternary Si-B-C-N materials has been carried out. The Si-B-C-N films were deposited on Si and SiC substrates by dc magnetron co sputtering using a single C-Si-B or B4C-Si target in nitrogen-argon gas mixtures. Elemental compositions of the films, their bonding structure, nanostructure, and mechanical, tribological and optical properties, together with their oxidation resistance in air, were controlled by the Si fraction in the magnetron target erosion area, the Ar fraction in the gas mixture, the rf induced negative substrate bias voltage and the substrate temperature. The energy and flux of ions bombarding the growing films were determined on the basis of the measured discharge characteristics. In this work, a systematic investigation of reactive magnetron sputtering of hard quaternary Si-B-C-N materials has been carried out. The Si-B-C-N films were deposited on Si and SiC substrates by dc magnetron co sputtering using a single C-Si-B or B4C-Si target in nitrogen-argon gas mixtures. Elemental compositions of the films, their bonding structure, nanostructure, and mechanical, tribological and optical properties, together with their oxidation resistance in air, were controlled by the Si fraction in the magnetron target erosion area, the Ar fraction in the gas mixture, the rf induced negative substrate bias voltage and the substrate temperature. The energy and flux of ions bombarding the growing films were determined on the basis of the measured discharge characteristics.
dcterms:title
Novel quaternary Si-B-C-N films prepared by reactive magnetron sputtering Nové kvaternární Si-B-C-N vrstvy připravené reaktivním magnetronovým naprašováním Novel quaternary Si-B-C-N films prepared by reactive magnetron sputtering
skos:prefLabel
Novel quaternary Si-B-C-N films prepared by reactive magnetron sputtering Nové kvaternární Si-B-C-N vrstvy připravené reaktivním magnetronovým naprašováním Novel quaternary Si-B-C-N films prepared by reactive magnetron sputtering
skos:notation
RIV/49777513:23520/07:00000023!RIV08-MSM-23520___
n3:strany
362-362
n3:aktivita
n21:Z
n3:aktivity
Z(MSM4977751302)
n3:dodaniDat
n18:2008
n3:domaciTvurceVysledku
n8:6812872 n8:3554392 n8:7242166 n8:1975714 n8:8233152 n8:1577360 n8:6620752
n3:druhVysledku
n15:D
n3:duvernostUdaju
n7:S
n3:entitaPredkladatele
n11:predkladatel
n3:idSjednocenehoVysledku
437920
n3:idVysledku
RIV/49777513:23520/07:00000023
n3:jazykVysledku
n14:eng
n3:klicovaSlova
Si-B-C-N films; magnetron sputtering; hardness; amorphous nanostructure; oxidation resistance
n3:klicoveSlovo
n9:oxidation%20resistance n9:amorphous%20nanostructure n9:Si-B-C-N%20films n9:hardness n9:magnetron%20sputtering
n3:kontrolniKodProRIV
[A802AD5F3470]
n3:mistoKonaniAkce
Kyoto
n3:mistoVydani
Kyoto
n3:nazevZdroje
18th International Symposium on Plasma Chemistry
n3:obor
n10:BL
n3:pocetDomacichTvurcuVysledku
7
n3:pocetTvurcuVysledku
8
n3:rokUplatneniVysledku
n18:2007
n3:tvurceVysledku
Čapek, Jiří Kalaš, Jiří Zeman, Petr Houška, Jiří Peřina, Vratislav Potocký, Štěpán Vlček, Jaroslav Hřeben, Stanislav
n3:typAkce
n12:WRD
n3:zahajeniAkce
2007-01-01+01:00
n3:zamer
n16:MSM4977751302
s:numberOfPages
1
n13:hasPublisher
International Plasma Chemistry Society
n19:isbn
978-4-9903773-2-8
n6:organizacniJednotka
23520