This HTML5 document contains 49 embedded RDF statements represented using HTML+Microdata notation.

The embedded RDF content will be recognized by any processor of HTML5 Microdata.

Namespace Prefixes

PrefixIRI
dctermshttp://purl.org/dc/terms/
n14http://localhost/temp/predkladatel/
n18http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/projekt/
n13http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/riv/tvurce/
n7http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/
n12http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/zamer/
shttp://schema.org/
n5http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/
skoshttp://www.w3.org/2004/02/skos/core#
n2http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/vysledek/
rdfhttp://www.w3.org/1999/02/22-rdf-syntax-ns#
n11http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/klicoveSlovo/
n9http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/duvernostUdaju/
xsdhhttp://www.w3.org/2001/XMLSchema#
n16http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/jazykVysledku/
n10http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/aktivita/
n17http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/druhVysledku/
n19http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/vysledek/RIV%2F49777513%3A23520%2F02%3A00000529%21RIV07-MSM-23520___/
n6http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/obor/
n8http://reference.data.gov.uk/id/gregorian-year/

Statements

Subject Item
n2:RIV%2F49777513%3A23520%2F02%3A00000529%21RIV07-MSM-23520___
rdf:type
skos:Concept n7:Vysledek
dcterms:description
Si-C-N vrstvy byly připraveny na křemíkové substráty (Si(100), typu p) za použití dc magnetronového rozprašování křemíku a uhlíku v plynné směsi dusík–argon. Na terči bylo možné měnit poměr obsahu Si/C. Vlastnosti vrstev byly kontrolovány zejména obsahem argonu (0 – 75 %) v plynné směsi při stanoveném 40 % obsahu křemíku v erozní zóně terče. Celkový tlak a proud na magnetronový terč byly konstantní, teplota substrátu byla ohmickým ohřevem nastavena na Ts = 600 °C, radiofrekvenčně indukované předpětí na substrátu Ub bylo -500 V. K vysvětlení rozdílů mezi rozprašováním uhlíku a křemíku v argon–dusíkovém výboji byla použita hmotnostní spektroskopie. Vrstvy, ty Si-C-N films were deposited on p-type Si substrates by dc magnetron co-sputtering of silicon and carbon using a single sputter target with variable Si/C area ratios in nitrogen-argon mixtures. The film characteristics were primarily controlled by the argon concentration in the gas mixture at a fixed 40% silicon fraction in the magnetron erosion track area. The total pressure and the discharge current on the magnetron target were held constant at P=0.5Pa and Im=1A, the substrate temperature was adjusted at Ts=600°C by an ohmic heater and the rf-induced negative substrate bias voltage, Ub was -500V Si-C-N films were deposited on p-type Si substrates by dc magnetron co-sputtering of silicon and carbon using a single sputter target with variable Si/C area ratios in nitrogen-argon mixtures. The film characteristics were primarily controlled by the argon concentration in the gas mixture at a fixed 40% silicon fraction in the magnetron erosion track area. The total pressure and the discharge current on the magnetron target were held constant at P=0.5Pa and Im=1A, the substrate temperature was adjusted at Ts=600°C by an ohmic heater and the rf-induced negative substrate bias voltage, Ub was -500V
dcterms:title
Vliv plynné směsi dusík-argon na reaktivní magnetronové naprašování tvrdých vrstev Si-C-N Influence of nitrogen-argon gas mixtures on reactive magnetron sputtering of hard Si-C-N films Influence of nitrogen-argon gas mixtures on reactive magnetron sputtering of hard Si-C-N films
skos:prefLabel
Influence of nitrogen-argon gas mixtures on reactive magnetron sputtering of hard Si-C-N films Vliv plynné směsi dusík-argon na reaktivní magnetronové naprašování tvrdých vrstev Si-C-N Influence of nitrogen-argon gas mixtures on reactive magnetron sputtering of hard Si-C-N films
skos:notation
RIV/49777513:23520/02:00000529!RIV07-MSM-23520___
n5:strany
74
n5:aktivita
n10:Z n10:P
n5:aktivity
P(ME 203), Z(AV0Z1010914), Z(AV0Z1048901), Z(MSM 235200002)
n5:cisloPeriodika
0
n5:dodaniDat
n8:2007
n5:domaciTvurceVysledku
n13:1975714 n13:7669054
n5:druhVysledku
n17:J
n5:duvernostUdaju
n9:S
n5:entitaPredkladatele
n19:predkladatel
n5:idSjednocenehoVysledku
648920
n5:idVysledku
RIV/49777513:23520/02:00000529
n5:jazykVysledku
n16:eng
n5:klicovaSlova
Si-C-N films; magnetron co-sputtering; mass spectroscopy
n5:klicoveSlovo
n11:Si-C-N%20films n11:mass%20spectroscopy n11:magnetron%20co-sputtering
n5:kodStatuVydavatele
NL - Nizozemsko
n5:kontrolniKodProRIV
[B081BBDE6F4A]
n5:nazevZdroje
Surface and Coatings Technology
n5:obor
n6:BL
n5:pocetDomacichTvurcuVysledku
2
n5:pocetTvurcuVysledku
5
n5:projekt
n18:ME%20203
n5:rokUplatneniVysledku
n8:2002
n5:tvurceVysledku
Vlček, Jaroslav Kormunda, Martin Čížek, Jiří Zemek, Josef Peřina, Vratislav
n5:zamer
n12:AV0Z1010914 n12:AV0Z1048901 n12:MSM%20235200002
s:issn
0257-8972
s:numberOfPages
8
n14:organizacniJednotka
23520