This HTML5 document contains 48 embedded RDF statements represented using HTML+Microdata notation.

The embedded RDF content will be recognized by any processor of HTML5 Microdata.

Namespace Prefixes

PrefixIRI
dctermshttp://purl.org/dc/terms/
n15http://localhost/temp/predkladatel/
n12http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/riv/tvurce/
n8http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/projekt/
n13http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/
n19http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/zamer/
shttp://schema.org/
skoshttp://www.w3.org/2004/02/skos/core#
n3http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/
n2http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/vysledek/
rdfhttp://www.w3.org/1999/02/22-rdf-syntax-ns#
n18http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/vysledek/RIV%2F49777513%3A23520%2F02%3A00000329%21RIV07-MSM-23520___/
n5http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/klicoveSlovo/
n9http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/duvernostUdaju/
xsdhhttp://www.w3.org/2001/XMLSchema#
n14http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/jazykVysledku/
n11http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/aktivita/
n16http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/druhVysledku/
n4http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/obor/
n17http://reference.data.gov.uk/id/gregorian-year/

Statements

Subject Item
n2:RIV%2F49777513%3A23520%2F02%3A00000329%21RIV07-MSM-23520___
rdf:type
n13:Vysledek skos:Concept
dcterms:description
This article reports on properties of Al-Si-Cu-N films with 5-9 at.% Si and 2-12 at.% Cu magnetron sputtered from a composed (Al, Si)-Cu target. The demonstration of a possibility to form the X-ray amorphous superhard films is of key scientific importance. It makes possible to start investigation of the grain size dependent phenomena in nanostructured films prepared by two-step process based on nanocrystallization from amorphous phase using a post-deposition annealing. This article reports on properties of Al-Si-Cu-N films with 5-9 at.% Si and 2-12 at.% Cu magnetron sputtered from a composed (Al, Si)-Cu target. The demonstration of a possibility to form the X-ray amorphous superhard films is of key scientific importance. It makes possible to start investigation of the grain size dependent phenomena in nanostructured films prepared by two-step process based on nanocrystallization from amorphous phase using a post-deposition annealing. Článek pojednává o vlastnostech vrstev Al-Si-Cu-N s 5-9 at.% Si a 2-12 at.% Cu připravených magnetronovým naprašováním ze složeného terče (Al, Si)-Cu. Bylo mj. prokázáno, že (1) strukturu vrstev Al-Si-Cu-N lze řídit pomocí energie dodané vrstvě během depozice, (2) vrstvy Al-Si-Cu-N mohou tvořit supertvrdý materiál s tvrdostí přesahující 40 GPa a navíc bylo ukázáno, že lze tyto supertvrdé vrstvy vytvářet s různou strukturou (dokonce i amorfní). Právě prokázání možnosti vytvářet rentgenově amorfní supertvrdé vrstvy lze považovat za zásadní zjištění, které může pomoci při zkoumání jevů závislých na velikosti zrn v nanostrukturních vrstvách.
dcterms:title
Vztah mezi strukturou a mechanickými vlastnostmi vrstev Al-Si-Cu-N připravovanými magnetronovým naprašováním Relationship between structure and mechanical properties in hard Al-Si-Cu-N films prepared by magnetron sputtering Relationship between structure and mechanical properties in hard Al-Si-Cu-N films prepared by magnetron sputtering
skos:prefLabel
Relationship between structure and mechanical properties in hard Al-Si-Cu-N films prepared by magnetron sputtering Relationship between structure and mechanical properties in hard Al-Si-Cu-N films prepared by magnetron sputtering Vztah mezi strukturou a mechanickými vlastnostmi vrstev Al-Si-Cu-N připravovanými magnetronovým naprašováním
skos:notation
RIV/49777513:23520/02:00000329!RIV07-MSM-23520___
n3:strany
121
n3:aktivita
n11:Z n11:P
n3:aktivity
P(ME 173), P(ME 203), Z(MSM 235200002)
n3:cisloPeriodika
0
n3:dodaniDat
n17:2007
n3:domaciTvurceVysledku
n12:9269606 n12:4712285
n3:druhVysledku
n16:J
n3:duvernostUdaju
n9:S
n3:entitaPredkladatele
n18:predkladatel
n3:idSjednocenehoVysledku
662007
n3:idVysledku
RIV/49777513:23520/02:00000329
n3:jazykVysledku
n14:eng
n3:klicovaSlova
Al-Si-Cu-N nanostructured films; structure; chemical composition; mechanical properties; magnetron sputtering
n3:klicoveSlovo
n5:mechanical%20properties n5:magnetron%20sputtering n5:Al-Si-Cu-N%20nanostructured%20films n5:chemical%20composition n5:structure
n3:kodStatuVydavatele
NL - Nizozemsko
n3:kontrolniKodProRIV
[95D4C7644C5C]
n3:nazevZdroje
Thin Solid Films
n3:obor
n4:BL
n3:pocetDomacichTvurcuVysledku
2
n3:pocetTvurcuVysledku
3
n3:projekt
n8:ME%20173 n8:ME%20203
n3:rokUplatneniVysledku
n17:2002
n3:tvurceVysledku
Kasl, Josef Zeman, Hynek Musil, Jindřich
n3:zamer
n19:MSM%20235200002
s:issn
0040-6090
s:numberOfPages
10
n15:organizacniJednotka
23520