This HTML5 document contains 52 embedded RDF statements represented using HTML+Microdata notation.

The embedded RDF content will be recognized by any processor of HTML5 Microdata.

Namespace Prefixes

PrefixIRI
n6http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/statVydaniPatentuVzoru/
n21http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/vysledek/RIV%2F41600240%3A_____%2F12%3A%230000004%21RIV14-MV0-41600240/
dctermshttp://purl.org/dc/terms/
n23http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/projekt/
n7http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/riv/tvurce/
n15http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/subjekt/
n11http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/uzemniOchranaPatentu/
n14http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/
skoshttp://www.w3.org/2004/02/skos/core#
n9http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/vyuzitiPatentuVzoru/
rdfshttp://www.w3.org/2000/01/rdf-schema#
n4http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/
n20http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/licencniPoplatek/
n2http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/vysledek/
rdfhttp://www.w3.org/1999/02/22-rdf-syntax-ns#
n13http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/vyuzitiJinymSubjektem/
n10http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/klicoveSlovo/
n22http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/duvernostUdaju/
xsdhhttp://www.w3.org/2001/XMLSchema#
n19http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/jazykVysledku/
n5http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/aktivita/
n17http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/obor/
n16http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/druhVysledku/
n18http://reference.data.gov.uk/id/gregorian-year/

Statements

Subject Item
n2:RIV%2F41600240%3A_____%2F12%3A%230000004%21RIV14-MV0-41600240
rdf:type
n14:Vysledek skos:Concept
rdfs:seeAlso
http://isdv.upv.cz/portal/pls/portal/portlets.pts.det?xprim=1647014&lan=cs
dcterms:description
The present invention relates to a method and apparatus for material analysis by a focused electron beam using characteristic X-rays and back-scattered electrons. Předkládaný vynález se týká způsobu a zařízení pro analýzu materiálů fokusovaným elektronovým svazkem s využitím charakteristického rentgenového záření a zpětně odražených elektronů. Předkládaný vynález se týká způsobu a zařízení pro analýzu materiálů fokusovaným elektronovým svazkem s využitím charakteristického rentgenového záření a zpětně odražených elektronů.
dcterms:title
Způsob analýzy materiálů fokusovaným elektronovým svazkem s využitím charakteristického rentgenového záření a zpětně odražených elektronů a zařízení k jeho provádění Method of material analysis by means of a focused electron beam using characteristic X-rays and back-scattered electrons and the equipment to perform it Způsob analýzy materiálů fokusovaným elektronovým svazkem s využitím charakteristického rentgenového záření a zpětně odražených elektronů a zařízení k jeho provádění
skos:prefLabel
Method of material analysis by means of a focused electron beam using characteristic X-rays and back-scattered electrons and the equipment to perform it Způsob analýzy materiálů fokusovaným elektronovým svazkem s využitím charakteristického rentgenového záření a zpětně odražených elektronů a zařízení k jeho provádění Způsob analýzy materiálů fokusovaným elektronovým svazkem s využitím charakteristického rentgenového záření a zpětně odražených elektronů a zařízení k jeho provádění
skos:notation
RIV/41600240:_____/12:#0000004!RIV14-MV0-41600240
n14:predkladatel
n15:ico%3A41600240
n4:aktivita
n5:P
n4:aktivity
P(VG20102015065)
n4:cisloPatentuVzoru
303228
n4:datumUdeleniPatentuVzoru
2012-04-25+02:00
n4:dodaniDat
n18:2014
n4:domaciTvurceVysledku
n7:5101018 n7:4386132 n7:4546776
n4:druhVysledku
n16:P
n4:duvernostUdaju
n22:C
n4:entitaPredkladatele
n21:predkladatel
n4:idSjednocenehoVysledku
182924
n4:idVysledku
RIV/41600240:_____/12:#0000004
n4:jazykVysledku
n19:cze
n4:klicovaSlova
scanning electron microscope; SEM; EDX; detector; mineralogy
n4:klicoveSlovo
n10:detector n10:mineralogy n10:SEM n10:EDX n10:scanning%20electron%20microscope
n4:kontrolniKodProRIV
[5FD8E7ADE331]
n4:licencniPoplatek
n20:Z
n4:mistoVydaniPatentuVzoru
Prague
n4:nazevVydavatelePatentuVzoru
Úřad průmyslového vlastnictví
n4:obor
n17:JA
n4:pocetDomacichTvurcuVysledku
3
n4:pocetTvurcuVysledku
3
n4:projekt
n23:VG20102015065
n4:rokUplatneniVysledku
n18:2012
n4:statVydaniPatentuVzoru
n6:CZ
n4:tvurceVysledku
Motl, David Filip, Vojtěch Dokulilová, Silvie
n4:uzemniOchranaPatentu
n11:E
n4:vlastnik
n21:vlastnikVysledku
n4:vyuzitiJinymSubjektem
n13:P
n4:vyuzitiPatentuVzoru
n9:A
n4:vlastnikPatentuVzoru
TESCAN ORSAY HOLDING, a.s.