This HTML5 document contains 41 embedded RDF statements represented using HTML+Microdata notation.

The embedded RDF content will be recognized by any processor of HTML5 Microdata.

Namespace Prefixes

PrefixIRI
dctermshttp://purl.org/dc/terms/
n17http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/riv/tvurce/
n16http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/projekt/
n9http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/
shttp://schema.org/
rdfshttp://www.w3.org/2000/01/rdf-schema#
skoshttp://www.w3.org/2004/02/skos/core#
n3http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/
n2http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/vysledek/
rdfhttp://www.w3.org/1999/02/22-rdf-syntax-ns#
n8http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/klicoveSlovo/
n4http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/duvernostUdaju/
xsdhhttp://www.w3.org/2001/XMLSchema#
n13http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/vysledek/RIV%2F25870807%3A_____%2F14%3A%230000360%21RIV15-MSM-25870807/
n18http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/jazykVysledku/
n10http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/aktivita/
n12http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/druhVysledku/
n6http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/obor/
n11http://reference.data.gov.uk/id/gregorian-year/

Statements

Subject Item
n2:RIV%2F25870807%3A_____%2F14%3A%230000360%21RIV15-MSM-25870807
rdf:type
skos:Concept n9:Vysledek
rdfs:seeAlso
http://www.hutnickelisty.cz
dcterms:description
V posledních letech se výzkum a vývoj v oblasti přípravy tenkých oxidických vrstev a povlaků moderními elektrochemickými, chemickými nebo fyzikálními technikami orientuje na zlepšení chemických a fyzikálních vlastností povlakovaných povrchů za účelem dosažení zvýšení jejich životnosti a funkčnosti pro daný typ aplikace. Součástí požadavků hodnocení povrchových vrstev a povlaků v závislosti na požadované kvalitě zahrnující fyzikálně, chemické a strukturní vlastnosti je důležitý vhodný výběr analytických metod umožňující komplexní charakterizaci deponovaných tenkých vrstev. Kvantitativní hloubkový profil pro různé druhy povlaků a tenké oxidické vrstvy je stále častěji identifikován s využitím techniky optické emisní spektrometrie s buzením doutnavých výbojem (GDOES). Její výhody jsou zejména spatřovány ve srovnání s technikami AES, SIMS, XPS, RBS v jedinečné kombinaci vysoké odprašovací rychlosti, odprašovací hloubky, citlivosti metody, analýzy nevodivých vrstev a snadné kvantifikaci lehkých prvků (C, N, O, H). Předkládaný článek shrnuje současné aplikované metody techniky GDOES umožňující charakterizovat vlastnosti tenkých vrstev a povlaků s důrazem na možné využití výsledků ve výrobním průmyslu. Hloubkové koncentrační profily byly stanoveny u povlaků připravených technikou CVD (chemical vapour deposition) a PVD (physical vapour deposition), naválcované cladové vrstvy a tenké oxidické vrstvy vzniklé při válcování za tepla a nedokonalém procesu moření. V posledních letech se výzkum a vývoj v oblasti přípravy tenkých oxidických vrstev a povlaků moderními elektrochemickými, chemickými nebo fyzikálními technikami orientuje na zlepšení chemických a fyzikálních vlastností povlakovaných povrchů za účelem dosažení zvýšení jejich životnosti a funkčnosti pro daný typ aplikace. Součástí požadavků hodnocení povrchových vrstev a povlaků v závislosti na požadované kvalitě zahrnující fyzikálně, chemické a strukturní vlastnosti je důležitý vhodný výběr analytických metod umožňující komplexní charakterizaci deponovaných tenkých vrstev. Kvantitativní hloubkový profil pro různé druhy povlaků a tenké oxidické vrstvy je stále častěji identifikován s využitím techniky optické emisní spektrometrie s buzením doutnavých výbojem (GDOES). Její výhody jsou zejména spatřovány ve srovnání s technikami AES, SIMS, XPS, RBS v jedinečné kombinaci vysoké odprašovací rychlosti, odprašovací hloubky, citlivosti metody, analýzy nevodivých vrstev a snadné kvantifikaci lehkých prvků (C, N, O, H). Předkládaný článek shrnuje současné aplikované metody techniky GDOES umožňující charakterizovat vlastnosti tenkých vrstev a povlaků s důrazem na možné využití výsledků ve výrobním průmyslu. Hloubkové koncentrační profily byly stanoveny u povlaků připravených technikou CVD (chemical vapour deposition) a PVD (physical vapour deposition), naválcované cladové vrstvy a tenké oxidické vrstvy vzniklé při válcování za tepla a nedokonalém procesu moření. Research and development in the sphere of preparation of thin oxide layers and coatings by advanced electrochemical, chemical or physical techniques has been focusing for improving of chemical and physical nature of coated surfaces in recent years in order to achieve the increasing of their lifetime and utility for the exist type of application. The suitable choice of analytical methods enabling the comprehensive characterization of deposited thin layers is important part of requirements for evaluation of surface layers and coatings in the dependence on the desired quality incl. physico-chemical and structural properties. Glow discharge optical emission spectrometry (GDOES) is suitable method for the determination of chemical composition of surface layers for various types of metallic materials. GDOES technique allows to perform profile element analysis e.g. for analysis of various types of coatings and layers. The quantitative depth profile for various kinds of coatings and thin oxide layer is still more often identified with the utilization of glow discharge optical emission spectrometry. Advantages of this method consist especially in the unique combination of high sputtering rate, sputtering depth, sensitivity of the method, analysis of non-conductive layers and easy quantification of light metals (C, N, O, H) as compared with Auger electron spectroscopy (AES), Secondary ion mass spectrometry (SIMS), X-ray photoelectron spectroscopy (XPS), Rutherford backscattering spectrometry (RBS). Submitted paper summarises current applied methods of GDOES technique susceptible to characterize the properties of thin layers and coatings forcefully on the possibility of application in industrial use. Depth concentration profiles were determined in case of coatings prepared by techniques CVD (chemical vapour deposition) and PVD (physical vapour deposition), rolled clad layer and thin oxide layer originated in hot rolling and incomplete pickling process
dcterms:title
Stanovení koncentrace prvků v závislosti na analyzované hloubce s využitím techniky GDOES Stanovení koncentrace prvků v závislosti na analyzované hloubce s využitím techniky GDOES Determination of elemental concentration in dependence on analysed depth with utilization of GDOES technique
skos:prefLabel
Stanovení koncentrace prvků v závislosti na analyzované hloubce s využitím techniky GDOES Stanovení koncentrace prvků v závislosti na analyzované hloubce s využitím techniky GDOES Determination of elemental concentration in dependence on analysed depth with utilization of GDOES technique
skos:notation
RIV/25870807:_____/14:#0000360!RIV15-MSM-25870807
n3:aktivita
n10:P n10:I
n3:aktivity
I, P(LO1203)
n3:cisloPeriodika
6
n3:dodaniDat
n11:2015
n3:domaciTvurceVysledku
n17:8390916 n17:2018039
n3:druhVysledku
n12:J
n3:duvernostUdaju
n4:S
n3:entitaPredkladatele
n13:predkladatel
n3:idSjednocenehoVysledku
47118
n3:idVysledku
RIV/25870807:_____/14:#0000360
n3:jazykVysledku
n18:cze
n3:klicovaSlova
GDOES quantitative depth profile thin oxid+e layer CVD coating PVD coating clad layer
n3:klicoveSlovo
n8:GDOES%20quantitative%20depth%20profile%20thin%20oxid%2Be%20layer%20CVD%20coating%20PVD%20coating%20clad%20layer
n3:kodStatuVydavatele
CZ - Česká republika
n3:kontrolniKodProRIV
[B147B792C6F8]
n3:nazevZdroje
Hutnické listy
n3:obor
n6:JG
n3:pocetDomacichTvurcuVysledku
2
n3:pocetTvurcuVysledku
2
n3:projekt
n16:LO1203
n3:rokUplatneniVysledku
n11:2014
n3:svazekPeriodika
LXVII
n3:tvurceVysledku
Faltýnková, Lenka Gabor, Roman
s:issn
0018-8069
s:numberOfPages
4