This HTML5 document contains 45 embedded RDF statements represented using HTML+Microdata notation.

The embedded RDF content will be recognized by any processor of HTML5 Microdata.

Namespace Prefixes

PrefixIRI
dctermshttp://purl.org/dc/terms/
n17http://localhost/temp/predkladatel/
n16http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/projekt/
n12http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/riv/tvurce/
n21http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/podDruhVysledku/
n14http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/
skoshttp://www.w3.org/2004/02/skos/core#
rdfshttp://www.w3.org/2000/01/rdf-schema#
n3http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/
n20http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/licencniPoplatek/
n8http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/vysledek/RIV%2F00216305%3A26620%2F14%3APR28108%21RIV15-TA0-26620___/
n2http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/vysledek/
rdfhttp://www.w3.org/1999/02/22-rdf-syntax-ns#
n18http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/kategorie/
n13http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/vyuzitiJinymSubjektem/
n9http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/klicoveSlovo/
n15http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/duvernostUdaju/
xsdhhttp://www.w3.org/2001/XMLSchema#
n19http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/jazykVysledku/
n6http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/aktivita/
n5http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/obor/
n10http://reference.data.gov.uk/id/gregorian-year/

Statements

Subject Item
n2:RIV%2F00216305%3A26620%2F14%3APR28108%21RIV15-TA0-26620___
rdf:type
n14:Vysledek skos:Concept
rdfs:seeAlso
http://surfaces.fme.vutbr.cz/laboratories/developed-instruments/2014-03/
dcterms:description
Zařízení je určeno pro depozici ultratenkých organických vrstev v podmínkách UHV. Organické materiály lze umístit do jednoho ze tří PBN zásobníků. Pracovní teplotu zásobníků lze nezávisle nastavit v rozmezí teplot od 20 C až do 350 C. Tato teplota je snímána pomocí termočlánků. Rychlejší reakční doba ohřevu mezi PBN zásobníkem a Cu topným tělesem je realizována tenkou vrstvou tekutého kovového materiálu (indium). Zařízení je určeno pro depozici ultratenkých organických vrstev v podmínkách UHV. Organické materiály lze umístit do jednoho ze tří PBN zásobníků. Pracovní teplotu zásobníků lze nezávisle nastavit v rozmezí teplot od 20 C až do 350 C. Tato teplota je snímána pomocí termočlánků. Rychlejší reakční doba ohřevu mezi PBN zásobníkem a Cu topným tělesem je realizována tenkou vrstvou tekutého kovového materiálu (indium). The device serves for deposition of ultrathin organic layers under UHV conditions. Organic material for evaporation is placed in one of three PBN crucibles which can be operated independently. The operation temperature in range 20 – 350 C is controlled by thermocouple. The faster heat transfer between PBN and Cu heater is mediated by liquid metal (In) filling.
dcterms:title
Three segment ogranic molecule evaporation source Zdroj organických molekul s třemi segmenty Zdroj organických molekul s třemi segmenty
skos:prefLabel
Zdroj organických molekul s třemi segmenty Zdroj organických molekul s třemi segmenty Three segment ogranic molecule evaporation source
skos:notation
RIV/00216305:26620/14:PR28108!RIV15-TA0-26620___
n3:aktivita
n6:P
n3:aktivity
P(TE01020233)
n3:dodaniDat
n10:2015
n3:domaciTvurceVysledku
n12:6136168
n3:druhVysledku
n21:G%2FB
n3:duvernostUdaju
n15:S
n3:ekonomickeParametry
Náklady na výrobu byly 150 000Kč. Doba vývoje zařízení přesáhla několik set hodin. Zařízení je využíváno ke studiu růstu organických polovodičových tenkých vrstev v UHV. Dále bude užíváno ke studiu tvorby organických uspořádaných síťových systémů.
n3:entitaPredkladatele
n8:predkladatel
n3:idSjednocenehoVysledku
57234
n3:idVysledku
RIV/00216305:26620/14:PR28108
n3:interniIdentifikace
Organická cela
n3:jazykVysledku
n19:cze
n3:kategorie
n18:A
n3:klicovaSlova
Organic molecules, organic semiconductors, effusion cell, ultrathin layers, UHV, deposition
n3:klicoveSlovo
n9:organic%20semiconductors n9:deposition n9:Organic%20molecules n9:UHV n9:ultrathin%20layers n9:effusion%20cell
n3:kontrolniKodProRIV
[D22D42D9B31D]
n3:licencniPoplatek
n20:N
n3:obor
n5:BM
n3:pocetDomacichTvurcuVysledku
1
n3:pocetTvurcuVysledku
1
n3:projekt
n16:TE01020233
n3:rokUplatneniVysledku
n10:2014
n3:technickeParametry
Zařízení je určeno k depozici organických tenkých vrstev v podmínkách vysokého vakua od p>1x10-5Pa. Zařízení obsahuje tři napařovací segment části umožňující depozici multi vrstevnatvnatých struktur. Ohřev depozitu je v rozmezí teplot (20oC-350oC). Tělo zdroje je zhotoveno s F.O.Cu. a účinně chlazeno vodou. Depozit je umístěn v PBN zásobníku. Celé zařízení je umístěno na přírubě DN40.
n3:tvurceVysledku
Mach, Jindřich
n3:vlastnik
n8:vlastnikVysledku
n3:vyuzitiJinymSubjektem
n13:A
n17:organizacniJednotka
26620