This HTML5 document contains 51 embedded RDF statements represented using HTML+Microdata notation.

The embedded RDF content will be recognized by any processor of HTML5 Microdata.

Namespace Prefixes

PrefixIRI
dctermshttp://purl.org/dc/terms/
n10http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/vysledek/RIV%2F00216305%3A26620%2F13%3APR27223%21RIV14-GA0-26620___/
n19http://localhost/temp/predkladatel/
n13http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/projekt/
n8http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/riv/tvurce/
n17http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/subjekt/
n16http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/
n4http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/podDruhVysledku/
skoshttp://www.w3.org/2004/02/skos/core#
rdfshttp://www.w3.org/2000/01/rdf-schema#
n3http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/
n11http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/licencniPoplatek/
n2http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/vysledek/
rdfhttp://www.w3.org/1999/02/22-rdf-syntax-ns#
n22http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/kategorie/
n12http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/vyuzitiJinymSubjektem/
n5http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/klicoveSlovo/
n20http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/duvernostUdaju/
xsdhhttp://www.w3.org/2001/XMLSchema#
n14http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/jazykVysledku/
n9http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/aktivita/
n21http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/obor/
n15http://reference.data.gov.uk/id/gregorian-year/

Statements

Subject Item
n2:RIV%2F00216305%3A26620%2F13%3APR27223%21RIV14-GA0-26620___
rdf:type
n16:Vysledek skos:Concept
rdfs:seeAlso
http://www.umel.feec.vutbr.cz/LabSensNano/products.aspx?id=71
dcterms:description
Workplace for deposition of carbon nanotubes from acetylene precursor at decreased pressure is built up from rotary and diffusion vacuum pump, glass chamber and heated holder of the sample. The acetylene is flowing to the chamber via grommet as carbon precursor for carbon nanotubes growing. Whole process is performed so that catalyst (Co or Fe) is deposited on the silicon substrate through a mask. The sample is placed in a chamber heated holder. After exhausting the required pressure, the heated sample is exposed to well-defined flow of the acetylene. Vertically aligned nanotubes grow in the place of deposited catalyst. Pracoviště pro depozici uhlíkových nanotrubic pomocí rozkladu acetylenu za sníženého tlaku se skládá z rotační a difúzní vývěvy, skleněné komory a vyhřívaného držáku vzorku. Do komory je skrz průchodky přiveden acetylén, který slouží jako zdroj uhlíku pro následnou tvorbu uhlíkových nanotrubic. Celý proces probíhá tak, že na křemíkový substrát je přes masku napařen katalyzátor (např. kobalt či železo). Vzorek je poté umístěn do komory na vyhřívaný držák. Po vyčerpání na požadovaný tlak je na zahřátý vzorek puštěn acetylen přesně definovaným průtokem. V místě napařeného katalyzátoru pak vyrostou vertikálně zarovnané nanotrubice. Pracoviště pro depozici uhlíkových nanotrubic pomocí rozkladu acetylenu za sníženého tlaku se skládá z rotační a difúzní vývěvy, skleněné komory a vyhřívaného držáku vzorku. Do komory je skrz průchodky přiveden acetylén, který slouží jako zdroj uhlíku pro následnou tvorbu uhlíkových nanotrubic. Celý proces probíhá tak, že na křemíkový substrát je přes masku napařen katalyzátor (např. kobalt či železo). Vzorek je poté umístěn do komory na vyhřívaný držák. Po vyčerpání na požadovaný tlak je na zahřátý vzorek puštěn acetylen přesně definovaným průtokem. V místě napařeného katalyzátoru pak vyrostou vertikálně zarovnané nanotrubice.
dcterms:title
Workplace for CNT deposition using acetylene under low pressure Depoziční pracoviště pro CNT pomocí acetylénu za sníženého tlaku Depoziční pracoviště pro CNT pomocí acetylénu za sníženého tlaku
skos:prefLabel
Depoziční pracoviště pro CNT pomocí acetylénu za sníženého tlaku Depoziční pracoviště pro CNT pomocí acetylénu za sníženého tlaku Workplace for CNT deposition using acetylene under low pressure
skos:notation
RIV/00216305:26620/13:PR27223!RIV14-GA0-26620___
n16:predkladatel
n17:orjk%3A26620
n3:aktivita
n9:S n9:P
n3:aktivity
P(ED1.1.00/02.0068), P(GA13-19947S), S
n3:dodaniDat
n15:2014
n3:domaciTvurceVysledku
n8:4489705 n8:3956733 n8:5774047 n8:1083988
n3:druhVysledku
n4:G%2FB
n3:duvernostUdaju
n20:S
n3:ekonomickeParametry
Vývoj: 40 tis, Knoh-how: 50 tis. Kč
n3:entitaPredkladatele
n10:predkladatel
n3:idSjednocenehoVysledku
68422
n3:idVysledku
RIV/00216305:26620/13:PR27223
n3:interniIdentifikace
CNT-CVD
n3:jazykVysledku
n14:cze
n3:kategorie
n22:A
n3:klicovaSlova
Carbon nanotubes, acetylene, low pressure deposition
n3:klicoveSlovo
n5:low%20pressure%20deposition n5:Carbon%20nanotubes n5:acetylene
n3:kontrolniKodProRIV
[034D2077479D]
n3:licencniPoplatek
n11:N
n3:obor
n21:JA
n3:pocetDomacichTvurcuVysledku
4
n3:pocetTvurcuVysledku
4
n3:projekt
n13:ED1.1.00%2F02.0068 n13:GA13-19947S
n3:rokUplatneniVysledku
n15:2013
n3:technickeParametry
Funkční vzorek byl na základě získaných poznatků zkonstruován a ověřen. Je využíván na pracovišti řešitele LabSensNano (VUT v Brně, Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií, Ústav mikroelektroniky, Technická 3058/10, 616 00 Brno, Česká republika) Elektrická 4 pinová průchodka, vyhřívaný držák vzorku, nerezová trubice pro přívod acetylenu zakončená tryskou, difúzní a rotační vývěva
n3:tvurceVysledku
Svatoš, Vojtěch Pekárek, Jan Sedláček, Jiří Hubálek, Jaromír
n3:vlastnik
n10:vlastnikVysledku
n3:vyuzitiJinymSubjektem
n12:A
n19:organizacniJednotka
26620