This HTML5 document contains 51 embedded RDF statements represented using HTML+Microdata notation.

The embedded RDF content will be recognized by any processor of HTML5 Microdata.

Namespace Prefixes

PrefixIRI
n9http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/typAkce/
dctermshttp://purl.org/dc/terms/
n20http://purl.org/net/nknouf/ns/bibtex#
n11http://localhost/temp/predkladatel/
n5http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/riv/tvurce/
n4http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/
n18https://schema.org/
n14http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/zamer/
shttp://schema.org/
skoshttp://www.w3.org/2004/02/skos/core#
n3http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/
n19http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/vysledek/RIV%2F00216305%3A26220%2F06%3APU63195%21RIV07-MSM-26220___/
n2http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/vysledek/
rdfhttp://www.w3.org/1999/02/22-rdf-syntax-ns#
n10http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/klicoveSlovo/
n12http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/duvernostUdaju/
xsdhhttp://www.w3.org/2001/XMLSchema#
n15http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/aktivita/
n8http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/jazykVysledku/
n21http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/druhVysledku/
n17http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/obor/
n13http://reference.data.gov.uk/id/gregorian-year/

Statements

Subject Item
n2:RIV%2F00216305%3A26220%2F06%3APU63195%21RIV07-MSM-26220___
rdf:type
n4:Vysledek skos:Concept
dcterms:description
Reaktivní magnetronové naprašovaní přináší přináší vysokou depoziční rychlost a relativně přesnou tloušťku deponované pasivační vrstvy. V naší práci deponujeme průmyslově nejpoužívanější materiál pro pasivaci solárních článků - nitrid křemíku (SiNx). Cílem je vytvoření kvalitní pasivace, pro redukci povrchových defektů na obou stranách křemíkového substrátu spolu s dobrými optickými vlastnostmi danné vrstvy. Výsledky porovnáváme se standardními články vyráběnými firmou Solartec s.r.o. Reactive magnetron sputter deposition brings high deposition rate with a possibility to control the layer thickness with comparatively high precision. We deposited the currently used material in the photovoltaic industry - silicon nitride passivation layer. The aim of work was evaluation of both front side and back side surface recombinations and optical properties of sputtered layers and they comparison with passivation layers on standard solar cells made by Solartec company (Czech republic). Reactive magnetron sputter deposition brings high deposition rate with a possibility to control the layer thickness with comparatively high precision. We deposited the currently used material in the photovoltaic industry - silicon nitride passivation layer. The aim of work was evaluation of both front side and back side surface recombinations and optical properties of sputtered layers and they comparison with passivation layers on standard solar cells made by Solartec company (Czech republic).
dcterms:title
Nitridové vrstvy pro pasivaci krystalických solárních článků deponované reaktivním magnetronovým naprašováním Reactive magnetron sputtering nitride layer for passivation of crystalline silicon solar cells Reactive magnetron sputtering nitride layer for passivation of crystalline silicon solar cells
skos:prefLabel
Reactive magnetron sputtering nitride layer for passivation of crystalline silicon solar cells Reactive magnetron sputtering nitride layer for passivation of crystalline silicon solar cells Nitridové vrstvy pro pasivaci krystalických solárních článků deponované reaktivním magnetronovým naprašováním
skos:notation
RIV/00216305:26220/06:PU63195!RIV07-MSM-26220___
n3:strany
822-825
n3:aktivita
n15:Z
n3:aktivity
Z(MSM0021630503)
n3:dodaniDat
n13:2007
n3:domaciTvurceVysledku
n5:4619773 n5:6824927 n5:3490971 n5:2581108
n3:druhVysledku
n21:D
n3:duvernostUdaju
n12:S
n3:entitaPredkladatele
n19:predkladatel
n3:idSjednocenehoVysledku
496489
n3:idVysledku
RIV/00216305:26220/06:PU63195
n3:jazykVysledku
n8:eng
n3:klicovaSlova
solar cell, passivation layer, magnetron sputtering, silicon nitride
n3:klicoveSlovo
n10:solar%20cell n10:magnetron%20sputtering n10:silicon%20nitride n10:passivation%20layer
n3:kontrolniKodProRIV
[C1A6F10F8C90]
n3:mistoKonaniAkce
Dresden
n3:mistoVydani
NEUVEDEN
n3:nazevZdroje
21st European Photovoltaic Solar Energy Conference
n3:obor
n17:JA
n3:pocetDomacichTvurcuVysledku
4
n3:pocetTvurcuVysledku
5
n3:rokUplatneniVysledku
n13:2006
n3:tvurceVysledku
Bařinka, Radim Poruba, Aleš Sobota, Jaroslav Boušek, Jaroslav Hégr, Ondřej
n3:typAkce
n9:WRD
n3:zahajeniAkce
2006-09-04+02:00
n3:zamer
n14:MSM0021630503
s:numberOfPages
4
n20:hasPublisher
WIP-Renewable Energies
n18:isbn
3-936338-20-5
n11:organizacniJednotka
26220