This HTML5 document contains 45 embedded RDF statements represented using HTML+Microdata notation.

The embedded RDF content will be recognized by any processor of HTML5 Microdata.

Namespace Prefixes

PrefixIRI
n10http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/typAkce/
dctermshttp://purl.org/dc/terms/
n17http://localhost/temp/predkladatel/
n16http://purl.org/net/nknouf/ns/bibtex#
n5http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/riv/tvurce/
n21http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/
n18https://schema.org/
n9http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/zamer/
shttp://schema.org/
skoshttp://www.w3.org/2004/02/skos/core#
n3http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/
n2http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/vysledek/
n15http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/vysledek/RIV%2F00216305%3A26220%2F04%3APU44810%21RIV%2F2005%2FMSM%2F262205%2FN/
rdfhttp://www.w3.org/1999/02/22-rdf-syntax-ns#
n4http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/klicoveSlovo/
n11http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/duvernostUdaju/
xsdhhttp://www.w3.org/2001/XMLSchema#
n20http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/jazykVysledku/
n7http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/aktivita/
n19http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/druhVysledku/
n13http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/obor/
n12http://reference.data.gov.uk/id/gregorian-year/

Statements

Subject Item
n2:RIV%2F00216305%3A26220%2F04%3APU44810%21RIV%2F2005%2FMSM%2F262205%2FN
rdf:type
skos:Concept n21:Vysledek
dcterms:description
Článek se zabývá zlepšením výrobního procesu monokrystalického wolframového drátu, který se používá jako katoda pro elektronový litograf. Pro tento výrobní proces bylo vytvořeno nový elektronický systém pro řízení tohoto výrobního procesu. Článek se zabývá popisem tohoto zařízení, jeho možnostmi a výsledném efektu na výrobní proces. This paper covers control board for cathode etching. This device is designed in order to analyze and control optimal cathoed etching cycle. Main function of this control board is control position system, measure etching current and control cathode etching cycle. This paper covers control board for cathode etching. This device is designed in order to analyze and control optimal cathoed etching cycle. Main function of this control board is control position system, measure etching current and control cathode etching cycle.
dcterms:title
Control board for cathode etching Control board for cathode etching Výrobní systém pro katody do elektronového litografu
skos:prefLabel
Control board for cathode etching Control board for cathode etching Výrobní systém pro katody do elektronového litografu
skos:notation
RIV/00216305:26220/04:PU44810!RIV/2005/MSM/262205/N
n3:strany
597-600
n3:aktivita
n7:Z
n3:aktivity
Z(MSM 262200022)
n3:dodaniDat
n12:2005
n3:domaciTvurceVysledku
n5:1421271 n5:3455599
n3:druhVysledku
n19:D
n3:duvernostUdaju
n11:S
n3:entitaPredkladatele
n15:predkladatel
n3:idSjednocenehoVysledku
558747
n3:idVysledku
RIV/00216305:26220/04:PU44810
n3:jazykVysledku
n20:eng
n3:klicovaSlova
control board, etching, cathode
n3:klicoveSlovo
n4:cathode n4:etching n4:control%20board
n3:kontrolniKodProRIV
[55A3FBB951CE]
n3:mistoKonaniAkce
Brno
n3:mistoVydani
Brno
n3:nazevZdroje
STUDENT EEICT 2004
n3:obor
n13:JA
n3:pocetDomacichTvurcuVysledku
2
n3:pocetTvurcuVysledku
2
n3:rokUplatneniVysledku
n12:2004
n3:tvurceVysledku
Kadlec, Jaroslav Kolařík, Vladimír
n3:typAkce
n10:CST
n3:zahajeniAkce
2004-04-29+02:00
n3:zamer
n9:MSM%20262200022
s:numberOfPages
4
n16:hasPublisher
Vysoké učení technické v Brně
n18:isbn
80-214-2636-5
n17:organizacniJednotka
26220